PL95558B1 - Wywolywacz do obrobki offsetowych warstw kopi ochinonowych - Google Patents

Wywolywacz do obrobki offsetowych warstw kopi ochinonowych Download PDF

Info

Publication number
PL95558B1
PL95558B1 PL1975177374A PL17737475A PL95558B1 PL 95558 B1 PL95558 B1 PL 95558B1 PL 1975177374 A PL1975177374 A PL 1975177374A PL 17737475 A PL17737475 A PL 17737475A PL 95558 B1 PL95558 B1 PL 95558B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
sodium
developer
amount
oquinone
copies
Prior art date
Application number
PL1975177374A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to PL1975177374A priority Critical patent/PL95558B1/pl
Publication of PL95558B1 publication Critical patent/PL95558B1/pl

Links

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest wywolywacz sto¬ sowany do obróbki offsetowych warstw kopio¬ wych dwuazochinonowych na blachach cynko¬ wych, aluminiowych oraz aluminiowo-miedzio- wych.W przemysle poligraficznym stosowane sa bla¬ chy cynkowe, aluminiowe oraz aluminiowo-mie- dziowe, pokryte warstwa kopiowa, zawierajaca zwiazki dwuazochinonowe oraz czesto zywice no- wolakowa. Warstwy te w czasie naswietlania roz¬ kladaja sie, tworzac produkty rozpuszczalne.Proces rozpuszczania naswietlonych elementów nazywa sie wywolywaniem, a znane wywolywacze zawieraja wodorotlenek sodowy i nieraz srodki powierzchniowo-czynne. W czasie wywolywania zostaje w miejscach naswietlonych odkryte pod¬ loze metalowe, które w przypadku stosowania blach cynkowych i aluminiowych ma wlasnosci hydrofilowe. Poniewaz pozostale nienaswietlone elementy warstwy dwuazochinonowej posiadaja wlasciwosci oleofilowe, otrzymuje sie forme dru¬ kowa z oleofilowymi dwuazochinonowymi elemen¬ tami drukujacymi oraz hydrofilowymi metalowymi elementami niedrukujacymi.W przypadku stosowania warstw dwuazochino¬ nowych na blachach aluminiowo-miedziowych po procesie wywolania rozpuszcza sie miedz w ele¬ mentach wywolanych, oslaniajac hydrofilowa po¬ wierzchnie aluminium.Dotychczas stosowane wywolywacze zawieraja wodorotlenek sodu oraz srodek powierzchniowo- -czynny. Na przyklad wedlug opisu patentowego nr 83619. Wywolywacz zawiera w 1 litrze wody 9 g wodorotlenku sodowego i 4—7 g proszku ixi.Wodorotlenek sodowy wprawdzie dobrze rozpusz¬ cza elementy naswietlone, ale równoczesnie reaguje z powierzchnia aluminium, tworzac produkty oleo¬ filowe, a wiec w czasie wywolywania przez zwiekszenie oleofilowosci zmniejsza sie hydrofilo- wosc blach aluminiowych i cynkowych. Ponadto wodorotlenek sodowy reaguje z nowolakiem, znaj¬ dujacym sie w nienaswietlonych elementach war¬ stwy kopiowej, przy czym w zaleznosci od czasu oddzialywania i od stezenia wodorotlenku sodowe¬ go nastepuje czesciowy rozklad warstwy dwuazo- chinonowej, przez co znacznie zmniejsza sie wyso¬ kosc nakladu, uzyskanego z gotowej formy dru¬ kowej.Okazalo sie, ze wady wywolywacza, zawieraja¬ cego wodorotlenek sodowy oraz srodek powierzch- niowo-czynny, mozna znacznie zmniejszyc przez wprowadzenie dodatkowo do roztworu fosforanu sodowego oraz metakrzemianu sodowego. Fosforan sodowy reaguje z powierzchnia blach cynkowych lub aluminiowych, tworzac warstwe fosforanu gli¬ nu lub cynku o dobrej hydrofilowosci. Tym samym w ozasie wywolywania hydrofilowosc elementów niedrukujacych nie pogarsza sie, a nawet wzrasta. 95 55895 558 Metakrzemian sodowy; reaguje z cynkiem lub aluminium tworzac odpowiednie krzemiany lub glinonkrzemiany, które, jak sie okazalo, sa równiez bardzo hydrofilowe. Tym samym przez stosowanie wywolywacza wedlug wynalazku znacznie popra¬ wia sie hydrofilowosc plyt. Ponadto produkty od¬ dzialywania krzemianu sodowego na blache tworza dookola naswietlonych elementów otoczke ochron¬ na, która utrudnia dostep wodorotlenku sodowego do nienaswietlonych elementów. Nie nastepuje wiec zmniejszenie elementów drukujacych, dzieki czemu uzyskuje sie wieksza zgodnosc kopiowania.Wedlug wynalazku wywolywacz stanowi wodny roztwór, zawierajacy wodorotlenek metalu alka¬ licznego, zwlaszcza wodorotlenek metalu alkalicz¬ nego, zwlaszcza wodorotlenek sodowy lub potaso¬ wy w ilosci 5—25 g/l, ortofosforan trójsodowy w ilosci 1,0—50 g/l, metakrzemian sodowy w ilosci 1,0—50 g/l oraz srodek powierzchniowo-czynny w ilosci 0,05—0,3% wagowego. Metakrzemian so¬ dowy mozna zastapic sodowym szklem wodnym, po odpowiednim przeliczeniu na ilosc metakrze- mianu sodowego. Jako srodek powierzchniowo- czynny w wywolywaczu wedlug wynalazku sto¬ suje sie alfenol, rokafenol, nekaline S i inne.Przy stosowaniu wywolywacza wedlug wyna¬ lazku mozna uzyskac znacznie wieksze naklady, niz w przypadku stosowania wywolywacza, zawie¬ rajacego tylko wodorotlenek sodowy i srodek po¬ wierzchniowo-czynny oraz wysoka zgodnosc kopio- wania. Zalaczony rysunek przedstawia wyniki ba¬ dania zgodnosci kopiowania dla tej samej wars¬ twy, wywolanej w 1% roztworze wodorotlenku sodowego (krzywa 2) oraz obrabianej wywolywaczem wedlug wynalazku (krzywa 1). Widoczne jest znacz¬ ne zmniejszenie odstepstw od idealnej zgodnosci kopiowania.Istote wynalazku ilustruje przykladowy sklad wywolywacza: wodorotlenek sodowy cz. 10 g ortofosforan trójsodowy cz. 5 g metakrzemian sodowy cz. 5 g alfenol 1,5 ml woda do 1000 ml PL

Claims (2)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Wywolywacz do obróbki offsetowych warstw kopiowych dwuazochinonowych zawierajacy wodo¬ rotlenek metalu alkalicznego i zwiazek powierzch¬ niowo-czynny, znamienny tym, ze w 1 litrze wody zawiera wodorotlenek metalu alkalicznego w ilosci 5—25 g, ortofosforan trójsodowy w ilosci 1,0—50 g, metakrzemian sodowy w ilosci 1,0—50 g lub od¬ powiadajaca mu ilosc sodowego szkla wodnego oraz srodek powierzchniowo-czynny w ilosci 0,05— 0,3 % wagowego.
  2. 2. Wywolywacz wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako wodorotlenek metalu alkalicznego zawiera zwlaszcza wodorotlenek sodowy lub potasowy. Druk WZKart. Zam. D-5326 Cena 45 zl r PL
PL1975177374A 1975-01-16 1975-01-16 Wywolywacz do obrobki offsetowych warstw kopi ochinonowych PL95558B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL1975177374A PL95558B1 (pl) 1975-01-16 1975-01-16 Wywolywacz do obrobki offsetowych warstw kopi ochinonowych

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL1975177374A PL95558B1 (pl) 1975-01-16 1975-01-16 Wywolywacz do obrobki offsetowych warstw kopi ochinonowych

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL95558B1 true PL95558B1 (pl) 1978-06-20

Family

ID=19970604

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1975177374A PL95558B1 (pl) 1975-01-16 1975-01-16 Wywolywacz do obrobki offsetowych warstw kopi ochinonowych

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL95558B1 (pl)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0146834A3 (de) * 1983-12-24 1986-08-20 MERCK PATENT GmbH Entwickler für Positiv-Fotoresists

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0146834A3 (de) * 1983-12-24 1986-08-20 MERCK PATENT GmbH Entwickler für Positiv-Fotoresists

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0212387B1 (en) Method of treating photosensitive printing plate
JPH0347198B2 (pl)
CA1189376A (en) Developer for positive photolithographic articles including sodium silicate and sodium chloride
JPH0141974B2 (pl)
US3110596A (en) Process for simultaneously developing and fixing printing plates
PL95558B1 (pl) Wywolywacz do obrobki offsetowych warstw kopi ochinonowych
JPS5859444A (ja) 露光されたポジチブ作用を有する感光複写層用水性アルカリ性現像液
JP2884988B2 (ja) オフセット印刷用不感脂化処理液
JP2730446B2 (ja) オフセット印刷用不感脂化処理液
JPS5935994A (ja) 印刷用不感脂化処理液
JPS5814320B2 (ja) オフセット印刷用不感脂化処理液
US3089770A (en) Process for making planographic printing forms using a light sensitive gelatin reception layer
US20070196776A1 (en) Stable High Ph Developer
PL107755B1 (pl) Wywolywacz do obrobki offsetowych plyt presynsybilizowanych warstwa kopiowa dwuazochinonowa
JPH04144746A (ja) オフセット印刷用不感脂化処理液
US4778616A (en) Scratch corrector for lithographic printing plates
WO1995009384A1 (en) Process for improving the hydrophilicity of the substrate for a lithographic printing plate by treatment with polyvinyl phosphonic acid
US4786582A (en) Organic solvent free developer for photosensitive coatings
JPS60130741A (ja) 感光性平版印刷版用現像剤
CA2003890C (en) Processing of radiation sensitive plates
JPH04270693A (ja) オフセット印刷用不感脂化処理液
US4937170A (en) Coupling agents for photographic elements
JP2848255B2 (ja) オフセット印刷用不感脂化処理液
JPH05301482A (ja) オフセット印刷用不感脂化処理液
JPS61181695A (ja) 平版印刷版用不感脂化処理液