PL88970B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL88970B1 PL88970B1 PL1972154233A PL15423372A PL88970B1 PL 88970 B1 PL88970 B1 PL 88970B1 PL 1972154233 A PL1972154233 A PL 1972154233A PL 15423372 A PL15423372 A PL 15423372A PL 88970 B1 PL88970 B1 PL 88970B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- ether
- mixture according
- weight
- parts
- unsaturated
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 40
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 claims description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 13
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Natural products OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 claims description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 9
- -1 fumaric acid radicals Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 claims description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 claims description 5
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 4
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 claims description 4
- WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroperoxy-2-(2-hydroperoxybutan-2-ylperoxy)butane Chemical group CCC(C)(OO)OOC(C)(CC)OO WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol, Natural products OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001346 alkyl aryl ethers Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 2
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims 3
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims 1
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims 1
- RBNPOMFGQQGHHO-UHFFFAOYSA-N glyceric acid Chemical group OCC(O)C(O)=O RBNPOMFGQQGHHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 claims 1
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 claims 1
- CBOIHMRHGLHBPB-UHFFFAOYSA-N hydroxymethyl Chemical group O[CH2] CBOIHMRHGLHBPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- GRVDJDISBSALJP-UHFFFAOYSA-N methyloxidanyl Chemical compound [O]C GRVDJDISBSALJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 6
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- GEMHFKXPOCTAIP-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-n'-phenylcarbamimidoyl chloride Chemical compound CN(C)C(Cl)=NC1=CC=CC=C1 GEMHFKXPOCTAIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MAPYFJCNQHKKQK-UHFFFAOYSA-N (3-oxo-2,3-diphenyl-2-propan-2-yloxypropyl) acetate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(COC(C)=O)(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MAPYFJCNQHKKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NICBEWDPKDDXRY-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-trimethylsilyloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O[Si](C)(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 NICBEWDPKDDXRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVDOODBEVYTHNU-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-trimethylsilyloxypropan-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O[Si](C)(C)C)(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 AVDOODBEVYTHNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UICXTANXZJJIBC-UHFFFAOYSA-N 1-(1-hydroperoxycyclohexyl)peroxycyclohexan-1-ol Chemical compound C1CCCCC1(O)OOC1(OO)CCCCC1 UICXTANXZJJIBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZUYLZMQTIKGSC-UHFFFAOYSA-N 1-[6-[4-(5-chloro-6-methyl-1H-indazol-4-yl)-5-methyl-3-(1-methylindazol-5-yl)pyrazol-1-yl]-2-azaspiro[3.3]heptan-2-yl]prop-2-en-1-one Chemical compound ClC=1C(=C2C=NNC2=CC=1C)C=1C(=NN(C=1C)C1CC2(CN(C2)C(C=C)=O)C1)C=1C=C2C=NN(C2=CC=1)C AZUYLZMQTIKGSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAOHAQSLJSMLAT-UHFFFAOYSA-N 1-butylperoxybutane Chemical compound CCCCOOCCCC PAOHAQSLJSMLAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOGNACZDZNOTSN-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxy-1,2-diphenylpropan-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)(CO)C(=O)C1=CC=CC=C1 AOGNACZDZNOTSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJELTSYBAHKXRW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-triallyloxy-1,3,5-triazine Chemical compound C=CCOC1=NC(OCC=C)=NC(OCC=C)=N1 BJELTSYBAHKXRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 2-butoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIMHWOQDOOMOEV-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexyloxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(C=1C=CC=CC=1)OC1CCCCC1 CIMHWOQDOOMOEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMYSORUUODSKPY-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2,2-triphenylethanone Chemical class C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 VMYSORUUODSKPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZCDMINQJLGWEP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-diphenylpent-4-en-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(CC=C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 RZCDMINQJLGWEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIVXVZXROTWKIH-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-diphenylpropan-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 DIVXVZXROTWKIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- SYMYWDHCQHTNJC-UHFFFAOYSA-J 3-oxobutanoate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CC(=O)CC([O-])=O.CC(=O)CC([O-])=O.CC(=O)CC([O-])=O.CC(=O)CC([O-])=O SYMYWDHCQHTNJC-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCERHCFNWRGHLK-UHFFFAOYSA-N C[Si](C)C Chemical compound C[Si](C)C DCERHCFNWRGHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- ZCGHEBMEQXMRQL-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-carbamoylpyrrolidine-1-carboxylate Chemical compound NC(=O)C1CCCN1C(=O)OCC1=CC=CC=C1 ZCGHEBMEQXMRQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQRRFDWXQOQICD-UHFFFAOYSA-N biphenylen-1-ylboronic acid Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=C1C=CC=C2B(O)O JQRRFDWXQOQICD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 210000004905 finger nail Anatomy 0.000 description 1
- 239000000834 fixative Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M pent-4-enoate Chemical compound [O-]C(=O)CCC=C HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000546 pharmaceutical excipient Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl prop-2-enoate Chemical compound C=CCOC(=O)C=C QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012209 synthetic fiber Substances 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 1
- XHGIFBQQEGRTPB-UHFFFAOYSA-N tris(prop-2-enyl) phosphate Chemical compound C=CCOP(=O)(OCC=C)OCC=C XHGIFBQQEGRTPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G63/66—Polyesters containing oxygen in the form of ether groups
- C08G63/668—Polyesters containing oxygen in the form of ether groups derived from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
- C08G63/676—Polyesters containing oxygen in the form of ether groups derived from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds in which at least one of the two components contains aliphatic unsaturation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F299/00—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers
- C08F299/02—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates
- C08F299/04—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates from polyesters
- C08F299/0407—Processes of polymerisation
- C08F299/0421—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G63/02—Polyesters derived from hydroxycarboxylic acids or from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
- C08G63/12—Polyesters derived from hydroxycarboxylic acids or from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds derived from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
- C08G63/52—Polycarboxylic acids or polyhydroxy compounds in which at least one of the two components contains aliphatic unsaturation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L67/00—Compositions of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L67/06—Unsaturated polyesters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D167/00—Coating compositions based on polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D167/06—Unsaturated polyesters having carbon-to-carbon unsaturation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest mieszanka do otrzymywania tworzyw powlokowych: i tloczyw skladajaca sie z nienasyconego poliestru, zawiera¬ jacego reszty «, ^-nienasyconego kwasu dwukanbo- ksyflowego i reszty /?, y nienasyconego eteru i zwiaz¬ ku monomerycznego dajacego sie kopolimeryzo¬ wac z nienasyconym poliesitrem na drodze addy- Z opisu wylozeniowego Republiki Federalnej Niemiec DAS nr 1 024 654 znane sa mieszanki nie¬ nasyconych poliestrów z dajacymi sie kopolimery¬ zowac zwiazkami mono'merycznymi i dodatkami substancji pomocniczych, które mozna katalitycz¬ nie utwardzac w powietrzu, otrzymujac wypra- ski i/lub powloki. Charakterystyczna cecha niena¬ syconych poliestrów zawartych w tych mieszan¬ kach jest to, ze zawieraja one estry nienasyconych kwasów karboksylowych i /?, y-nienasycone rod¬ niki eterowe.Znane sa równiez liczne publikacje opisujace procesy, w których mieszaniny nienasyconych po¬ liestrów ze zwiazkami monomerycznymi dajacymi sie kopolimeryzowac utwardza sie za pomoca pro¬ mieni nadfioletowych. Wedlug tych publikacji z reguly jako srodki do zapoczatkowania polimery¬ zacji stosuje sie tak zwane fotoiniojatory. Przy¬ kladami takich fotoinicjatorów sa miedzy innymi zwiazki siarki, takie jak estry kwasu C-alkiloksan- togenowego uaktywnione w pozycji /? do atomu siarki przez podwójne wiazanie, aromatyczne dwu- siarczki i tioetery zawierajace grupy aromatycz¬ ne, a takze benzoina i jej pochodne, przy czym ta ostatnia jest szczególnie aktywna. ^, Ulepszony proces utwardzania polistrów, znany z opisu wylozeniowego Republiki Federalnej Nie¬ miec DAS nr 1694 149, polega na tym, ze miesza¬ niny nienasyconych poliestrów i monomerów da¬ jacych sie kopolimeryzowac napromieniowuje sie swiatlem nadfiolkowym, przy czym czas napro- mieniowywania mozna (bardzo wydatnie skrócic, jezeli mieszanina zawiera dodatek pewnych zwiaz¬ ków benzoiny.Od pewnego czasu znane sa przemyslowe urza¬ dzenia do mapromieniowywania, za pomoca któ¬ rych mozna by na duza skale utwardzac w cia¬ gu 2 minut powloki z mieszanin zywic z nienasy¬ conych poliestrów z dajacymi sie kopolimeryzo¬ wac monomerami zawierajacymi parafine. Do¬ tychczas jednak nie potrafiono wytwarzac schna¬ cych na powietrzu mieszanin nienasyconych polie¬ strów z dajacymi sie kopolimeryzowac monome¬ rami, zawierajacymi parfine, znanych np. z opisu wylozeniowego Republiki Federalnej "Niemiec DAS nr 1 024 654, o takiej zdolnosci do reakcji, aby dawaly sie utwardzac w tak -bardzo krótkim cza¬ sie.Na skutek tej niedogodnosci mieszanki te nie znalazly szerszego zastosowania w przemysle.Nieoczekiwanie stwierdzono, ze stosujac nowy nienasycony poliester o specjalnym skladzie przy 8897088970 wytwarzaniu mieszanki zawierajacej zywice spo¬ sobem wedlug opisu wylozeniowego Republiki Fe¬ deralnej Niemiec DAS nr 1 024 654 mozna zwiek¬ szyc reaktywnosc tej mieszanki tak znacznie, ze mozna ja utwardzac przez napromieniowywanie lub suszyc w powietrzu na skale przemyslowa w ciagu bardzo krótkich okresów czasu, inp. wyno¬ szacych 2 minuty lub mniej.Cecha mieszanki wedlug wynalazku jest to, ze jako nienasycony poliester zawiera one nowy po¬ liester zawierajacy co najmniej 26% wagowych rodników kwasu fumarowego, co najmniej 10°/o wagowych rodników przynajmniej jednego estru dwuallilowego alkoholu wielowodorotlenowego i co najmniej 22% wagowych rodników przynajmniej jednego nasyconego alkoholu zawierajacego gru¬ py eterowe, przy czym alkonol ten moze byc jed¬ no- lub wielowodorotlenowy. Ponadto niespodzie¬ wanie okazalo sie, ze wlasnie dodatek nasycone¬ go alkanolu, zawierajacego grupy eterowe, w no¬ wym nienasyconym poliestrze o specjalnym skla¬ dzie wyzej podanym, podwyzsza reaktywnosc fo- topolimeryzacyjna.Oprócz nowego poliestru mieszanka wedlug wy¬ nalazku zawiera monomer majacy zdolnosc ko- polimeryzowania i moze zawierac fotoinicjator, który umozliwia zapoczatkowanie procesu utwar¬ dzania mieszanki za pomoca napromieniowywa- nia.Jako fotoiniejatory stosuje sie korzystnie zwiaz¬ ki o ogólnym wzorze podany na rysunku, w któ¬ rym R oznacza atom wodoru, rodnik alkilowy, arylowy, aralkilowy lub hydroksymetylowy,^ X oznacza atom wodoru, rodnik alkilowy, arylowy, aralkilowy lub trójmetylosililowy, a R1 i R2 sa jednakowe lub rózne i oznaczaja atomy wodoru lulb chlorowca, rodniki alkilowe o 1—4 atomach wegla lub rodniki metoksylowe, przy czym R i X równoczesnie nie oznaczaja atomów wodoru.Jako ^-nienasycone etery wielowodorotlenowych alkoholi stosuje sie np. etery dwualilowe trójme- tylolopropanu, gliceryny, trójmetyloloetanu i pen- taerytrytu, które sa najwazniejszymi stosowanymi w technologii poliestrów eterami, wywolujacymi schniecie na powietrzu otrzymanych z nich poli¬ estrów.Jako alkanole zawierajace nasycone grupy ete¬ rowe stosuje sie np. glikol dwuetylenowy, glikol trójetylenowy glikol czteroetylenowy i glikol dwu- propylenowy oraz etery monoalkilowe tych alka- noli.Przy wytwarzaniu mieszanki wedlug wynalazku Jako monomeryczne zwiazki kopolimeryzujace sto¬ suje sie takie zwiazki, które moga kopolimeryzowac z nienasyconym poliestrem na drodze reakcji ad- dycji. Stosuje sie w tym celu nienasycone zwiazki uzywane w znanych procesach wytwarzania poli¬ estrów, zawierajace rodniki winylowe ewentualnie podstawione w pozycji a lub rodniki allilowe ewentualnie podstawione w pozycji fl takie jak np. styren, winylotoluen, dwuwinylobenzen, octan wi¬ nylu, kwas akrylowy i jego estry, akrylonitryl, kwas metakrylowy i jego odpowiednie pochodne, jak równiez estry allilowe, takie jak octan allilu. akrylan allilu, ester dwuallilowy kwasu ftalowego, fosforan trójallilu i cyjanuran trójallilu.Przykladami inicjatorów sa zwiazki znane np. z opisu wylozeniowego Republiki Federalnej Nie- miec DAS nr 1 694 149 i z belgijskich opisów pa¬ tentowych nr nr 731589, 736 606, 736 607, 741343 i 741341, takie jak etery benzoiny, np. eter mety¬ lowy, etylowy, II-rzed. butylowy, n-propylowy, izo¬ propylowy, butylowy, izobutylowy i fenyIowy, eter id a-metylobenzoinometylowy, a-fenylobenzoinoetylo- . wy, fenylobenzoinometylowy, a-allilobenzoinoetylo- wy, a-benzylobenzoinoetylowy, a-hydroksymetylo- benzoina i jej eter izopropylowy, eter a-acetoksy- metylobenzoinoizopropylowy, 4-benzo£ló-4-fenylo- -1,3-dioksolan, eter a-(/?-cyjanoetylo)-benzoinoetylo- wy i a-(/?-karboksyetylo)-benzoina i jej eter etylo¬ wy, etery «-(/?-karboksyetylo)-benzoinoalkilowe i ich sole, eter benzoinotrójmetylosililowy, eter a-metylo- benzoinotrójmetylosililowy, eter a-etylobenzoino- trójmetylosililowy, eter a-fenylobenzoinotrójmetylo- sililowy, eter 4,4'-dwumetylobenzoinotrójmetylosili- lowy i eter 4,4, -dwumetoksybenzoinotrójmetylosi¬ lilowy.Zwiazki lub ich mieszaniny polimeryzujace pod dzialaniem napromieniowywania mozna stabilizo¬ wac przez dodawanie inicjatorów, takich jak p- -benzochinon, hydrochinon, 3rmetylopirokatechina lub zwiazki metali. Zwiazki te dodaje sie w zwykle stosowanych ilosciach i moga one zawierac inne znane dodatki. Mozna równiez stosowac dodatki katalizatorów polimeryzacji, takich jak nadtlenki w ilosci 0,1—4% wagowych. Jako nadtlenki stosuje sie w tym celu np. nadbenzoesen III-rzed. butylu, nadtlenek dwukumylu, nadtlenek benzoilu, nadtle- nek lauroilu, a zwlaszcza nadtlenek ketonu mety- loetylowego lub nadtlenek cykloheksanonu. Doda¬ tek nadtlenków, zwlaszcza nadtlenek ketonu mety- loetylowego, jest wskazany szczególnie wtedy, gdy chodzi o usuniecie nieznacznych zmian barwy pro- 40 duktu poddawanego utwardzaniu, np. zmian bar¬ wy pod wplywem napromieniowywania lub zmian barwy zachodzacych niekiedy podczas magazyno¬ wania, pod dzialaniem swiatla.Razem z nadtlenkami ketonów mozna stosowac do- 45 datek zwiazków metali, takich jak naftenian kobaltu, naftenian cyrkonu i naftenian wanadu lub chela- towyoh zwiazków metali, takich jak acetyloaceta- nian kobaltu lub cyrkonu, przyspieszajacych utwar¬ dzanie. Nalezy jednak brac pod uwage, ze dopu- 50 Bzczalny okres skladowania preparatów skraca sie, jezeli zawieraja one równoczesnie nadtlenki i przy¬ spieszacze metaliczne. W przypadku wytwarzania powlok lakierowanych korzystnie jest przeto sto¬ sowac dwustadiowy, mianowicie najpierw powle- 55 kac przedmiot warstwa zawierajaca nadtlenek, a nastepnie te warstwe pokrywac powloka z mie¬ szanki wedlug wynalazku.W celu zabezpieczenia podloza wrazliwego na dzialanie swiatla, np. podloza drewnianego o jas- 60 nym zabarwieniu, mozna do mieszanki dodawac male ilosci srodków pochlaniajacych promieniowa¬ nie nadfioletowe, co nie wplywa ujemnie na reak¬ tywnosc skladników mieszanki. Poza tym mozna stosowac male ilosci nosników i wypelniaczy, jak 65 równiez srodków zwiekszajacych tioksotropowosc,88970 takich jak wlókna szklane, wlókna syntetyczne, krzemionka i talk. Srodki te moga byc obecne w mieszaninie podczas fotopolimeryzacji.Jako zródla napromieniowywania podczas foto¬ polimeryzacji mozna stosowac naturalne swiatlo sloneczne lub promieniowanie sztuczne, emitujace promieniowanie o dlugosci fal 250—500, korzystnie 300—400 milimikronów. Odpowiednie do tego celu sa np. lampy rteciowe, ksenonowe i wolframowe.Mieszanka wedlug wynalazku utwardza sie rów¬ niez szybko pod dzialaniem swiatla nadfiolkowego i swiatla widzialnego z lamp fluorescencyjnych o malej energii, emitujacych promieniowanie o dlu¬ gosci fal 300—580 milimikronów, przy czym otrzy¬ muje sie prawie bezbarwne wypraski lub powloki.Przy wytwarzaniu wyprasek z mieszanki wedlug wynalazku korzystnie- jest zwlaszcza utwardzac mieszanke nie dopuszczajac do zbyt egzotermicznej reakcji, a mianowicie regulujac odpowiednio na¬ promieniowanie, gdyz wówczas nawet dosc duze wypraski wytwarza sie bez pekniec. Jezeli nie sto¬ suje sie nadtlenków i przyspieszaczy metalicznych, wówczas proces utwardzania mozna przerywac w dowolnym momencie, umieszczajac mieszanke w ciemni, a nastepnie zakonczyc utwardzanie w do¬ wolnym czasie.Wytwarzanie mieszanek wedlug wynalazku opi¬ sano dokladnie w nizej podanych przykladach, przy -czym w przykladzie Ib opisano wytwarzanie mie¬ szanki znanej (próba porównawcza). W przykladach tych, jezeli nie podano inaczej, czesci i procenty oznaczaja czesci i procenty wagowe.Przyklad la. 2550 czesci kwasu fumarowego i 451 czesci glikolu 1,2-propylenowego ogrzewa sie powoli, w strumieniu azotu, do temperatury 150°C i w tej temperaturze dodaje 1441 czesci glikolu dwuetylenowego, 941 czesci eteru trójmetylopropa- nodwuallilowego, 428 czesci eteru monobutylowego glikolu dwuetylenowego i 0,34 czesci hydrochinonu.Mieszanine ogrzewa sie do temperatury 180°C z predkoscia 10°C na godzine i prowadzi kondensa¬ cje az do otrzymania produktu kondensacji w ilos¬ ci wynoszacej 98% ilosci obliczeniowej teoretycz¬ nie. Stopien estryfikacji kontroluje sie latwo mie¬ rzac lepkosc mieszaniny reakcyjnej i jej liczbe kwasowa. Proces kondensacji przerywa sie korzy¬ stnie, gdy lepkosc mierzona zgodnie z norma DJN-4 • wynosi 19,5 sekundy, a liczba kwasowa wynosi 30.Otrzymany poliester chlodzi sie do temperatury 140°C, rozciencza styrenem tak, aby otrzymac roz¬ twór o stezeniu 69%, dodaje 0,31 czesci hydrochi¬ nonu jako utrwalacza i miesza z 2,5% pochodnych benzoiny, wymienionych w tablicy.Otrzymane roztwory poliestrów naklada sie war¬ stwami o grubosci 500 mikronów na szklane pod¬ loze, stosujac urzadzenie do wytwarzania blon i z odleglosci 8 cm napromieniowuje w ciagu 90 se¬ kund za pomoca fluorescencyjnej lampy wysylaja¬ cej promieniowanie superaktyniczne (Philips TLAK 40W) i nastepnie za pomoca wysokocisnieniowej lampy rteciowej (Philips HTQ 70 cm).Po uplywie 1 godziny mierzy sie twardosc pro¬ duktu wahadlowa metoda Albert-Koeniga. Wyniki uzyskane dla róznych fotoinicjatorów podano w ta- bliof. Nalezy nadmienic, ze po napromieniowywa- 6 niu w ciagu lacznego czasu 120 sekund powloki ba¬ dane paznokciem nie daly sie zarysowywac.Tablica 40 50 55 60 65 Dodany fotoinicjator i jego ilosc w % wagowych w stosunku do zywicy 2,2% a-fenylomeekaptopro- piofenon 2,2% eter izopropylowy benzoiny 2,2% eter Il-rzed. butylowy benzoiny 1 2,2% eter etylowy benzoiny j 2,2% eter cykloheksylowy benzoiny 2,2% eter etylowy a-allilo- benzoiny 2,2% eter trójmetylosililowy a-metylobenzoiny 2,2% a-metylobenzoina 2,2% eter izopropylowy 4,4- -dwumetylobenzoiny Twardosc w se¬ kundach metoda wahadla 63 107 * 102 102 93 104 100 105 104 Przyklad Ib. Nienasycony poliester otrzy¬ many przez kondensacje 1765 czesci bezwodnika kwasu maleinowego, 756 czesci glikolu, 405 czesci butanodiolu-1,3 i 1540 czesci eteru dwuallilowego trójmetylolopropanu w obecnosci 0,83 czesci hydro¬ chinonu rozpuszcza sie w styrenie, wytwarzajac roztwór o stezeniu 70%. 100 czesci tego roztworu miesza sie z 1 czescia % roztworu naftenianu kobaltu w toluenie i 2,2 czesciami eteru izopropylowego benzoiny, po czym z otrzymanej mieszanki wytwarza blone i bada ja w sposób opisany w przykladzie la. Twardosc tej blony wynosi 22 sekundy.Przyklad II. 2550 czesci kwasu fumarowego i 451 czesci glikolu 1,2-propylenowego ogrzewa sie do temperatury 50°C w czteroszyjnej kolbie wy¬ posazonej w mieszadlo, termometr, rurke do wpro¬ wadzania azotu i skraplacz.W czasie ogrzewania przez mieszanine przepusz¬ cza sie strumien azotu. Nastepnie mieszanine og¬ rzewa sie do temperatury 150°C z predkoscia 10°C na godzine, po czym dodaje 1441 czesci glikolu dwuetylenowego, 757 czesci eteru dwuallilowego gli¬ ceryny, 428 czesci eteru monobutylowego glikolu dwuetylenowego i 0,32 czesci hydrochinonu. Mie¬ szanine poddaje sie procesowi kondensacji w tem¬ peraturze wzrastajacej do 170°C, az do osiagniecia lepkosci wynoszacej 19,5 sekund (DIN-4) i liczby kwasowej 32. Z otrzymanego produktu wytwarza sie 69% roztwór w styrenie, dodaje 2,5% eteru izopropylowego benzoiny i wytwarza blony w spo¬ sób opisany w przykladzie la. Twardosc blony ba¬ dane metoda wahadlowa Albert-Koeniga wynosi 84 sekundy.Nizej podane poliestry otrzymuje sie wedlug przykladów la i II stosujac wymienione skladniki i ich ilosci.Przyklad III. Poliester otrzymano z 2552 cze¬ sci wagowych kwasu fumarowego, 522,7 czesci wa¬ gowych butanodiolu-1,3- 1558, 2 czesci wagowych glikolu dwuetylenowego i 968,0 czesci wagowych88970 8 eteru dwualilowego trójmetyloloetanu, 0,78 czesci wagowych hydrochinionu. Liczba kwasowa: 35; Rozpuszcza sie 68 czesci wagowych wyzej poda¬ nego poliestru w 29,5 czesciach wagowych styrenu i do roztworu dodaje 2,5 czesci wagowych eteru i izopropylowego benzoiny. Wedlug przykladu la po naswietleniu lampa fluorescencyjna wysylajaca pro¬ mieniowanie superaktyniczne przez 90 sekund i wy- sokoscieniowa lampa rteciowa przez 30 sekund z odleglosci po 8 cm otrzymuje sie blone, której twardosc oznacza wahadlowa metode Albert-Koe- niga wynosi 105 sekund po przebywaniu w ciem¬ nosci przez1 godzine.P r z y k l a^ IV. Poliester otrzymano z 255,2 cze¬ sci wagowych kwasu fumarowego, 451 czesci wa¬ gowych glikolu propylenowego-1,2 1558,2 czesci \wa- gowych glikolu dwuetylenowego, 854,6 czesci wa¬ gowych eteru dwualilowego pentaerytrytu, 0,78 czesci wagowych hydrochinonu. Liczba kwasowa: 37.Rozpuszcza sie 68 czesci wagowych wyzej podanego poliestru w 29,5 czesciach wagowych styrenu i do roztworu dodaje sie 2,5 czesci wagowych eteru izopropylowego benzoiny. Po naswietleniu, wedlug przykladu la przez 90 sekund pod superaktyniczna lampa fluorescencyjna, 30 sekund pod wysokocis¬ nieniowa lampa rteciowa z odleglosci po 8 cm otrzymuje sie blone, której twardosc mierzona wa¬ hadlowa metoda Alberta-Coeniga wynosi 104 se¬ kundy po przebywaniu w ciemnosci przez 1 godzi¬ ne. PL PL PL PL PL PL PL
Claims (9)
1. Zastrzezenia patentowe 1. Mieszanka do otrzymywania tworzyw powlo¬ kowych i tloczyw skladajacych sie z nienasycone¬ go poliestru zawierajacego reszty a, fl nienasycone¬ go kwasu dwukarboksylowego i reszty fi, y-niena- syconego eteru i zwiazku monomerycznego dajace¬ go,sie kopolimeryzowac z nienasyconym poliestrem na drodze addycji, katalizatorów polimeryzacji, fo- toinicjatorów, znamienna tym, ze jako nienasycony 10 15 20 25 30 35 40 poliester zawiera nowy nienasycony poliester, za¬ wierajacy co najmniej 26% wagowych rodników kwasu fumarowego, co najmniej 10% wagowych ro¬ dników przynajmniej jednego eteru dwualliiowego alkoholu wielowodorotlenowego i co najmniej 22% wagowych rodników przynajmniej jednego nasyco¬ nego alkoholu zawierajacego grupy eterowe.
2. Mieszanka wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze zawiera poliester, który jako reszty eteru alko¬ holu wielowodorotlenowego, zawiera reszty eteru trójmetylopropanu lub gliceryny.
3. Mieszanka wedlug zastrz. 1 znamienna tym, ze zawiera poliester, który jako reszty nasyconego alkoholu zawiera reszty glikolu dwuetylenowego, glikolu trójetylenowego, glikolu czteroetylenowego, glikolu dwupropylenowego lub eteru monoalkilo- wego jednego z tych glikoli.
4. Mieszanka wedlug zastrz. 1 znamienna tym, ze zawiera fotoinicjator o ogólnym wzorze poda¬ nym na rysunku, w którym R oznacza atom wo¬ doru lub rodnik alkilowy, arylowy, aralkilowy al¬ bo hydroksymetyIowy, X oznacza atom wodoru, rodnik alkilowy, arylowy, aralkilowy lub trójme- tylosililowy, a R1 i R2 sa jednakowe lub rózne i oznaczaja atomy wodoru lub chlorowca albo rod¬ nik alkilowy o 1—4 atomach wegla lub rodnik metoksylowy..
5. Mieszanka wedlug zastrz. 1, znamienna tym,« ze zawiera dodatek katalizatora polimeryzacji w ilosci 0,1^-4% wagowych.
6. Mieszanka wedlug zastrz. 5, znamienna tym, ze jako katalizator zawiera nadtlenek ketonu.
7. Mieszanka wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze zawiera dodatek zwiazku metalu stanowiacego przyspieszacz procesu utwardzania.
8. Mieszanka wedlug zastrz. 6, znamienna tym, ze jako katalizator polimeryzacji zawiera, nadtle¬ nek ketonu metyloetylowego.
9. Mieszanka wedlug zastrz. 1 znamienna tym, ze zawiera dodatek srodka pochlaniajacego promie¬ niowanie nadfioletowe. DN-3, zam. 162/77 Cena 10 zl PL PL PL PL PL PL PL
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2113998A DE2113998C3 (de) | 1971-03-23 | 1971-03-23 | Photopolymerisierbare Form- oder Überzugsmassen aus ungesättigten Polyestern |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL88970B1 true PL88970B1 (pl) | 1976-10-30 |
Family
ID=5802469
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL1972154233A PL88970B1 (pl) | 1971-03-23 | 1972-03-22 |
Country Status (19)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5621764B1 (pl) |
| AR (1) | AR193247A1 (pl) |
| AT (1) | AT322856B (pl) |
| BE (1) | BE781127A (pl) |
| BR (1) | BR7201672D0 (pl) |
| CA (1) | CA989996A (pl) |
| CH (1) | CH572506A5 (pl) |
| CS (1) | CS172366B2 (pl) |
| DD (1) | DD98100A5 (pl) |
| DE (1) | DE2113998C3 (pl) |
| ES (1) | ES401077A1 (pl) |
| FR (1) | FR2130626B1 (pl) |
| GB (1) | GB1363015A (pl) |
| HU (1) | HU167554B (pl) |
| IT (1) | IT957580B (pl) |
| NL (1) | NL172959C (pl) |
| PL (1) | PL88970B1 (pl) |
| SE (1) | SE395711B (pl) |
| ZA (1) | ZA721961B (pl) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL166489C (nl) * | 1972-06-20 | 1981-08-17 | Akzo Nv | Werkwijze voor het stabiliseren van door u.v. licht hardbare onverzadigde polyesterharsen. |
| DE2251469C3 (de) * | 1972-10-20 | 1978-06-08 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Hochreaktive, durch UV-Licht härtbare Harzmassen, die Acrylamidmethyloläther enthalten |
| DE3010428A1 (de) * | 1980-03-19 | 1981-09-24 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Photopolymerisierbare polyesterharze, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als lackbindemittel |
| CN116096780A (zh) | 2020-11-27 | 2023-05-09 | 巴斯夫欧洲公司 | 包含不饱和聚酯的无过氧化物涂料组合物 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL106999C (pl) * | 1955-06-30 | |||
| US3225014A (en) * | 1962-07-09 | 1965-12-21 | Scott Paper Co | Ethylene dicarboxylic esters of 1,2 alkane ketals |
| US3326710A (en) * | 1964-04-16 | 1967-06-20 | Sherwin Williams Co | Method of curing polyester compositions and coatings containing synergistic combination of photosensitizers and compositions thereof |
| FR1461383A (fr) * | 1964-04-16 | 1966-02-25 | Sherwin Williams Co | Procédé et appareil pour recouvrir un support d'un film stabilisé |
| AT271667B (de) * | 1964-06-15 | 1969-06-10 | Mueanyagipari Ki | Verfahren zur Herstellung von glänzenden, schnell härtenden, nicht klebrigen Überzügen |
| FR1485874A (fr) * | 1965-06-30 | 1967-06-23 | Berger Johann | Procédé pour la production d'un revêtement de surface stabilisé |
| DE1694149C2 (de) * | 1967-05-06 | 1976-01-02 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Polyester-Form- und Überzugsmassen |
| DE1769854C3 (de) * | 1968-07-26 | 1982-08-19 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Photoinitiatoren und Verfahren zur Photopolymerisation |
-
1971
- 1971-03-23 DE DE2113998A patent/DE2113998C3/de not_active Expired
-
1972
- 1972-03-20 CS CS1858A patent/CS172366B2/cs unknown
- 1972-03-21 CA CA137,614A patent/CA989996A/en not_active Expired
- 1972-03-21 AT AT239372A patent/AT322856B/de not_active IP Right Cessation
- 1972-03-21 IT IT49128/72A patent/IT957580B/it active
- 1972-03-21 DD DD161686A patent/DD98100A5/xx unknown
- 1972-03-21 JP JP2752372A patent/JPS5621764B1/ja active Pending
- 1972-03-22 ES ES401077A patent/ES401077A1/es not_active Expired
- 1972-03-22 GB GB1341472A patent/GB1363015A/en not_active Expired
- 1972-03-22 SE SE7203693A patent/SE395711B/xx unknown
- 1972-03-22 ZA ZA721961A patent/ZA721961B/xx unknown
- 1972-03-22 CH CH427672A patent/CH572506A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-03-22 BR BR721672A patent/BR7201672D0/pt unknown
- 1972-03-22 PL PL1972154233A patent/PL88970B1/pl unknown
- 1972-03-23 FR FR7210272A patent/FR2130626B1/fr not_active Expired
- 1972-03-23 HU HUBA2717A patent/HU167554B/hu unknown
- 1972-03-23 AR AR241117A patent/AR193247A1/es active
- 1972-03-23 BE BE781127A patent/BE781127A/xx unknown
- 1972-03-23 NL NLAANVRAGE7203904,A patent/NL172959C/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL172959C (nl) | 1985-05-17 |
| FR2130626B1 (pl) | 1976-10-29 |
| GB1363015A (en) | 1974-08-14 |
| AT322856B (de) | 1975-06-10 |
| DE2113998C3 (de) | 1985-05-15 |
| NL172959B (nl) | 1983-06-16 |
| DD98100A5 (pl) | 1973-06-05 |
| IT957580B (it) | 1973-10-20 |
| SE395711B (sv) | 1977-08-22 |
| AR193247A1 (es) | 1973-04-11 |
| DE2113998B2 (de) | 1973-10-25 |
| CA989996A (en) | 1976-05-25 |
| CS172366B2 (pl) | 1976-12-29 |
| BE781127A (fr) | 1972-09-25 |
| HU167554B (pl) | 1975-11-28 |
| FR2130626A1 (pl) | 1972-11-03 |
| BR7201672D0 (pt) | 1973-05-31 |
| JPS5621764B1 (pl) | 1981-05-21 |
| CH572506A5 (pl) | 1976-02-13 |
| DE2113998A1 (de) | 1972-10-12 |
| NL7203904A (pl) | 1972-09-26 |
| ZA721961B (en) | 1972-12-27 |
| ES401077A1 (es) | 1975-02-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE1769854C3 (de) | Photoinitiatoren und Verfahren zur Photopolymerisation | |
| US3582487A (en) | Polyester moulding and coating compositions hardening by ultra-violet radiation in the presence of a benzoin aryl ether photosensitizer | |
| US3914166A (en) | Butyric acid derivatives as novel photosensitizers | |
| SU411689A3 (pl) | ||
| US3720635A (en) | Polyester moulding and coating masses which can be cured by ultraviolet irradiation | |
| US4189365A (en) | Photopolymerizable compositions based on acrylic or methacrylic acid esters containing organic phosphites | |
| US3912606A (en) | Photosensitive compositions containing benzoxazole sensitizers | |
| US3686084A (en) | Initiators for the photopolymerisation of unsaturated compounds | |
| US3898144A (en) | Air-drying, light-curing, unsaturated polyester resins | |
| PL88970B1 (pl) | ||
| US3657088A (en) | Moulding and coating masses hardenable by uv irradiation | |
| US4040922A (en) | Photopolymerizable polymeric compositions containing halogen containing heterocyclic compound | |
| DE2613098C2 (de) | Durch Strahlung und Wärme härtbare Formmassen auf der Basis ungesättigter Polyester | |
| JPH05255461A (ja) | 感光性組成物 | |
| EP0014293A1 (en) | Photocurable unsaturated polyester resin compositions and process for curing them | |
| US4207155A (en) | Diluents for ultraviolet coating compositions | |
| EP0068632B1 (en) | Polymerizable carbamic ester resins useful for preparing cast optical articles | |
| DE1694149C2 (de) | Polyester-Form- und Überzugsmassen | |
| JPH05249669A (ja) | 感光性組成物 | |
| US3766111A (en) | Polyester moulding and coating materials which can be set by ultraviolet irradiation | |
| RU2395827C2 (ru) | Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии | |
| US4082821A (en) | 1-oxo-2-(phosphona)-1,2-diphenylethanes | |
| US3664937A (en) | Photosensitizing molding and coating compositions with benzoin-silyl-esters | |
| SU310450A1 (pl) | ||
| DE1769853C3 (de) | Durch UV-Bestrahlen polymerisierbare Massen |