PL85143B2 - - Google Patents

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania walków poligraficznych z poliestrów i dwuizocyjanianu toluilenu przez wstepne odwodnienie w podwyzszonej temperaturze i przy obnizonym cisnieniu z poliestru lub mieszaniny poliestrów, nastepnie dodaniu dwizocyjanianu lub mieszaniny dwuizocyjanianów i ogrzewaniu mieszaniny do czesciowego przereagowania izocyjanianu z grupami wodorotlenowymi poliestru lub mieszaniny poliestrów.

Wstepnie przereagowana mieszanine poliestrów i izocyjanianu poddaje sie juz w formach dalszej wielostop¬ niowej obróbce termicznej. Jako poliestry stosuje sie produkty kondensacji kwasu adypinowego i/lub sebacyno- wego lub ich mieszaniny z glikolem etylenowym, dwuetylenowym, propylenowym lub ich mieszanina oraz alkoholi trójfunkcyjnych i czterofunkcyjnych jak gliceryna, trójmetylolopropan, heksanotriol, pentaerytryt.

Otrzymywane znanymi sposobami poligraficzne walki poliuretanowe posiadaja szereg korzystnych wlas¬ nosci eksploatacyjnych, jak latwosc przyjmowania i oddawania farby drukarskiej, gladka powierzchnie, stala twardosc w temperaturze eksploatacji oraz latwosc rpycia ich powierzchni za pomoca rozpuszczalników i roztworów powszechnie stosowanych w poligrafii. Walki te posiadaja tez pewna wade, a mianowicie masa poliuretanowa, z której sa one wykonane, jest stosunkowo malo odporna na stosowne w czasie druku lub do mycia maszyn i walków roztwory kwasne i alkaliczne. Stosowane do wytwarzania walków poliestry otrzymywa¬ ne z kwasu adypinowego i/lub sebacynowego maja wiazania estrowe stosunkowo malo odporne na hydrolize, amonolize i alkoholize. Wymieniona wada stosowanych poliestrów znacznie skraca okres uzytkowania walków - poliuretanowych poligraficznych.

Znane sa poliestry kwasu tereftalowego i glikolu etylenowego jako polimery o duzej odpornosci na dzialanie wody i chemikaliów, lecz ze wzgledu na wysoka temperature topnienia nie mozna ich stosowac do otrzymywania tworzyw poliuretanowych do produkcji walków poligraficznych.

Okazalo sie, ze mozna otrzymywac poligraficzne walki poliuretanowe o podwyzszonej odpornosci na hydrolize, amonolize i alkoholize oraz o podwyzszonej odpornosci na dzialanie farb drukarskich, spoiwa farb drukarskich i rozpuszczalników organicznych, stosujac jako skladnik poliestrowy nasycone kopoliestry blokowe.2 85143 zawierajace^wbudowane segmenty oligoestrów kwasu tereftalowego i glikolu etylenowego. Takie kopoliestry blokowe uzyskuje sie przez kondensacje oligoestru kwasu tereftalowego i glikolu etylenowego o ciezarze czasteczkowym ponizej 800 z mieszanina kwasu adypinowego, glikolu dwuetylenowego, 1,2-propylenowego, 1,3-butylenowego oraz ewentualnie alkoholu trójwodorotlenowego albo z poliestrem uzyskanym z takiej miesza¬ niny.

Stosowany kopoliester blokowy ma ciezar czasteczkowy 1500—3500, liczbe kwasowa ponizej 3 mg KOH/g, liczbe hydroksylowa 40-75 mg KOH/g i funkcyjnosc nie wieksza niz 3.

Udzial oligoestru kwasu tereftalowego i glikolu etylenowego w kopoliestrze blokowym wynosi 5-30% wagowych, najkorzystniej 10-20% wagowych.

Przyklad I. 1000 g kopoliestrodiolu o liczbie hydroksylowej 56 mg KOH/g, liczbie kwasowej 1,5 mg KOH/g, lepkosci 860 cP w75°C i funkcyjnosci 2,8, uzyskanego przez kondensacje 50 g oligotereftalang etylenu o ciezarze czasteczkowym 560 i liczbie hydroksylowej 200 mg KOH/g, 100 g kwasu adypinowego, 86 g glikolu dwuetylenowego i 5 g trójmetylolopropanu ogrzewa sie mieszajac wciagu 30 min. w temperaturze 110-120° C pod cisnieniem lOmmHg w celu odwodnienia, chlodzi do temperatury 50°C i wylacza próznie, dodaje 176g dwuizocyjanianu toluilenu i miesza wciagu 10 min, pod normalnym cisnieniem i 30 min. pod cisnieniem 10 mm Hg, po czym wylacza sie mieszadlo. Po calkowitym odgazowaniu masy reakcyjnej napelnia k sie uprzednio pokryta warstwa smaru rozdzielajacego forme i poddaje obróbce termicznej poczatkowo w tempe¬ raturze 70°C w ciagu 30 min., nastepnie 1 h w temperaturze 90°C i 3 h w temperaturze 110°C. Otrzymane walki posiadaja twardosc 25° Shore'a wedlug skali A.' Przyklad II. Mieszanine 500 g kopoliestru blokowego o liczbie hydroksylowej 56 mg KOH/g, liczbie kwasowej 2 mg KOH/g i funkcyjnosci 2 uzyskanego przez kondensacje blokowa 400 g poliadypinianu glikolu dwuetylenowego o ciezarze czasteczkowym 700 i 200 g oligotereftalanu etylenowego o ciezarze czasteczkowym 600 oraz 500 g kopoliestru uzytego w przykladzie I ogrzewa sie przy ciaglym mieszaniu w temperaturze 110-120°C wciagu 30 min. pod cisnieniem lOmmHg, chlodzi do temperatury 60°C i wylacza próznie, nastepnie dodaje sie 250g 4,4-dwuizocyjanianodwufenylometanu i miesza wciagu 5 min. pod cisnieniem normalnym oraz 15 min. pod cisnieniem 1 mm Hg, po czym wylacza sie mieszadlo. Po calkowitym odgazowaniu masy reakcyjnej napelnia sie formy i poddaje obróbce termicznej jak w przykladzie I. Otrzymane walki maja twardosc 45° Shore'a wedlug skali A.

Claims (2)

Zastrzezenia patentowe

1. Sposób wytwarzania walków poligraficznych przez reakcje poliestrów z dwuizocyjanianem, a nastepnie wielostopniowa obróbke termiczna masy poliuretanowej w formach, znamienny tym, ze jako poliestry stosuje sie kopoliestry blokowe zawierajace wbudowane segmenty oligoestrów kwasu tereftalowego ic;;ko!u etylenowego.

2. Sposób wedlug ?astrz. 1, znamienny tym, ze jako poliestry stosuje sie kopoliestry blokowe, zawierajace 5-35% wagowych, a najkorzystniej 10-25% wagowych wbudowanych segmentów oligoestru kwasu tereftalowego i glikolu etylenowego o ciezarze czasteczkowym ponizej 800. Prac. Poligraf. UP PRL Naklad 120 + 18 egz. Cena 10 zl