PL84697B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL84697B1 PL84697B1 PL16137073A PL16137073A PL84697B1 PL 84697 B1 PL84697 B1 PL 84697B1 PL 16137073 A PL16137073 A PL 16137073A PL 16137073 A PL16137073 A PL 16137073A PL 84697 B1 PL84697 B1 PL 84697B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- bath
- gold
- acid
- gilding
- coating
- Prior art date
Links
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 13
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 5
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 5
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 4
- 229960002449 glycine Drugs 0.000 claims description 3
- 235000013905 glycine and its sodium salt Nutrition 0.000 claims description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical group [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 claims description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 2
- 150000003458 sulfonic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 claims 2
- 208000002177 Cataract Diseases 0.000 claims 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- -1 aliphatic hydroxy acid Chemical class 0.000 claims 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 claims 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 claims 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 claims 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 claims 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 claims 1
- NRTDAKURTMLAFN-UHFFFAOYSA-N potassium;gold(3+);tetracyanide Chemical compound [K+].[Au+3].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-] NRTDAKURTMLAFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 5
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 5
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N ammonium dihydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].OP(O)([O-])=O LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- HBZVNWNSRNTWPS-UHFFFAOYSA-N 6-amino-4-hydroxynaphthalene-2-sulfonic acid Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C=C(O)C2=CC(N)=CC=C21 HBZVNWNSRNTWPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004254 Ammonium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 229910000148 ammonium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019289 ammonium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 229930188331 cyanolide Natural products 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000002101 lytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100000572 poisoning Toxicity 0.000 description 1
- 230000000607 poisoning effect Effects 0.000 description 1
- 229910000160 potassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011009 potassium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- NCPXQVVMIXIKTN-UHFFFAOYSA-N trisodium;phosphite Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])[O-] NCPXQVVMIXIKTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Chemically Coating (AREA)
Description
****f*mqn
Twórcy wynalazku: Jan Socha, Slawomir Saiarzyski
Uprawniony z patentu: Instytut M-echaniki Precyzyjnej, Warszawa
(Polska)
Sposób zlocenia elementów wykonanych,
zwlaszcza ze stopu zelaza z niklem i kobaltem
Przedmiotem wynalazku jest sposób zlocenia
elementów wykonanych zwlaszcza ze stopu zelaza
z niklem i kobaltem; na przyklad przepustów tran¬
zystorowych oraz elementów pólprzewodnikowych.
Elementy takie, jak przepusty tranzystorowe
musza miec równa i gladka powierzchnie podloza
przed nakladaniem powloki, poniewaz nakladana
powloka o grubosci niewiele przekraczajacej za¬
kres 2 mikrometrów odwzorowuje bardzo doklad¬
nie stan powierzchni podloza. ,
W zwiazku z tym otrzymywanie tego rodzaju
wyrobów napotyka na bardzo duze trudnosci przy
nakladaniu powlok, zwlaszcza przy wykonywaniu
zlocenia elementów wykonanych ze stopów zela¬
za z niklem i kobaltem.
Znane jest z polskiego opisu patentowego nr
65 160, wytwarzanie powlok ze zlota na elementach
wykonanych ze stopów zelaza z niklem i kobal¬
tem, iktóre polega na nakladaniu miedzy warstwy
zlota o grubosci 0,2 mikrometra, sposobem elektro¬
litycznym, w kapieli zawierajacej cyjanozlocian
potasu w ilosci 2 do 4 g/l, kwas cytrynowy w
ilosci 50 fe/1, chlorek amonu w ilosci 75 g/l i pod-
fosforyn sodu w ilosci 10 g/l. Nastepnie naklada
sie sposobem chemicznym zasadnicza powloke ze
zlota w kapieli o tym samym skladzie. Sposób ten
daje dobre wyniki, wymaga jednak bardzo dok¬
ladnej i czystej pracy przy zloceniu, bowiem na¬
wet niewielkie zanieczyszczenie kapieli jonami
metali obcych, zwlaszcza grupy zelaza, powoduje
31
zatrucie kapieli do bezpradowego zlocenia, w wy¬
niku czego obniza sie wydajnosc procesu zlocenia*
Znane jest ponadto z opisów patentowych fran¬
cuskich nr 1331064 i nr 1331065, stosowanie ka¬
pieli opartej na cyjanozlocinie z dodatkiem kwa¬
su fosforowego lub polifosforowego o pH 3-6, oraz
kapieli fosforanowej zawierajacej 0,5 do 20 g/l cy¬
janozlocinu, 5 do 200 g/l kwasu: fosforowego i 35
mg/l do 100 g/l kationu metalu obcego, pracujacej
w zakresie pH 3-6.
Metal Industry, 1961, 99 nr 5, 90 — 2 podaje, ze
znane sa kapiele fosforanowe, oparte tylko na
fosforanach z dodatkiem kationu metalu wspólosa-
dzajacego sie ze zlotem.
Sposób zlocenia wedlug wynalazku, elementów
wykonanych zwlaszcza ze stopów zelaza z niklem
i kobaltem, polega na dwukrotnym nakladaniu
powloki, przy czym wstepnie naklada sie powloke
ze zlota w kapieli pracujacej w slabokwasnym
roztworze pH 3-5, zawierajacym 4 do 5 g/l zlota
w postaci cyjanozlocianu potasowego 10-100 g/l hy-
droksykwasu alifatycznego oraz 0,5 do 50 g/l po¬
chodnej kwasu sulfonowego, zawierajacego grupe;
aminowa. Powloke zasadnicza naklada sie w ka¬
pieli fosforanowej pracujacej w obojetnym roztwo¬
rze pH 6,5-7,5, zawierajacym 30 g/l ikwasnego fo¬
sforanu amonowego i 30 g/l kwasnego fosforanu
potasowego, do której dodaje sie w ilosci 10 da
150 g/l, pochodne kwasu jedno- lub wiecej amino-
octowego o wzorze
84 6973
hw
4
7-amino-l-naftolo-3-sulfonowego? przy czympHka¬
pieli ustalono wodorotlenkiem potasowym do wartos¬
ci 4. Zlocono iprzy gestosci pradu 0,2 A/dm2 przez 10
minut. Uzyskano grubosc powloki 0,2 mikrometra.
Pq efwukrofnym wyplukaniu w wodzie destylowa¬
nej (plukanie odzyskowe) i plukanie w wodzie bie¬
zacej i destylowanej, prowadzono zasadnicze zlo¬
cenie w kapieli o skladzie: 10 g/l cyjanozlocinu po¬
tasowego, 10 g/l kwasnego fosforanu amonowego,
io 15 g/l kwasnego potasowego i 60 g/l kwasu dwu-
etylenotrójaminopieciooctowego, o pH kapieli 7,0.
Czas osadzania 30 minut.
Grubosc powloki 2,2 mikrometra osiagnieto w
tym czasie przy gestosci pradu 0,2 A/dm*.
nicze w kapieli fosforanowej, pracujacej w obo¬
jetnym zakresie o pH 6.5—7.5 zawierajacej 30 g/l
kwasnego fosforanu amonowego i 30 g/l kwasnego
fosforanu potasowego, do której dodaje sie pochod¬
ne kwasu jedno- lub wiecej aminooctowego w
ilosci 10 do 150 g/l 6 wzorze (C2H4)nNn + 1(CH2
COOX)n+3, w którym X zastepuje H lub metal z
grupy potasowców, a n=1,2,3,4.
i
2i
31 30
Bltk 1555/76 r. 120 egz. A4
Cena 10 zl
Claims (7)
1. Zastrzezenie patentowe
2. (CA)nNn +1(CH,COOX) n + 3 w którym X zastepuje H lub metal z grupy po- tasowców, a n=1,2,3,4.
3. Sposób wedlug wynalazku polega na tym, ze elementy po przeprowadzeniu odtluszczania, plu¬ kania, trawienia i powtórnego plukania poddaje sie zloceniu wstepnemu.
4. W pierwszym etapie naklada sie podklad zlota o grubosci rzedu maksimum 0,2 mikrometra w ka¬ pieli silnie aktywujacej metal podloza, bez naru¬ szenia struktury krystalicznej warstwy wierzchniej, przed nalozeniem w nastepnym etapie, w kapieli obojetnej, wlasciwej warstwy czystego zlota.
5. Drugi*-etap zlocenia prowadzi sie w kapieli fo¬ sforanowej pracujacej w obojetnym zakresie pH
6.5—
7.5, do której wprowadza sie dodatkowo po¬ chodne kjtfasu jedno- lub wiecej aminooctowego. ±-» *Bbda*tel£ teji w kapieli do zlocenia ma dwojakie dzialanie.-.fest silnie kompleksujacym metale gru¬ py zelaza, które z tego zwiazku sa elektrolitycznie nieredukowalne i kapiel nie jest wrazliwa na ewentualne zanieczyszczenie tymi metalami. Dru¬ gie pozytywne dzialanie tego zwiazku polega na jego dzialaniu powierzchniowym, hamujacym wzrost krysztalów wydzielanego zlota, w zwiazku z czym otrzymuje sie powloki drobnokrystaliczne bardzo szczelne i gladkie. Przyklad: Przepusty tranzystorowe po od¬ tluszczeniu oplukano i przeniesiono na przeciag 15 sekund do konwencjonalnej kapieli trawiacej .a nastepnie wyplukano w wodzie biezacej i destylo¬ wanej. Po tych operacjach przepusty zlocono wstepnie w kapieli o skladzie 5 g/l cyjanozlocinu potasowego, 20 g/l kwasu maleinowego i 5 g/l kwasu Sposób zlocenia elementów wykonanych, zwlasz¬ cza ze stopu zelaza z niklem i kobaltem, polega¬ jacy na dwukrotnym nakladaniu powloki, zna- :0 mienny tym, ze wstepnie naklada sie powloke ze zlota w kapieli pracujacej w slabokwasnym zakre¬ sie o pH 3-5, zawierajacej 4 do 5 g/l zlota w po¬ staci cyjanozlocinu potasowego, 10 do 100 g/l hy- droksykwasu alifatycznego oraz 0,5 do 50 g/l po- 25 chodnej kwasu sulfonowego zawierajacego grupe aminowa, a' nastepnie prowadzi sie zlocenie zasad- *
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL16137073A PL84697B1 (pl) | 1973-03-20 | 1973-03-20 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL16137073A PL84697B1 (pl) | 1973-03-20 | 1973-03-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL84697B1 true PL84697B1 (pl) | 1976-04-30 |
Family
ID=19961946
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL16137073A PL84697B1 (pl) | 1973-03-20 | 1973-03-20 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL84697B1 (pl) |
-
1973
- 1973-03-20 PL PL16137073A patent/PL84697B1/pl unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3900370A (en) | Process for treating aluminum surfaces | |
| DE4343946C2 (de) | Galvanisches Kupferbad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Kupfer | |
| TWI229016B (en) | Aqueous alkaline zincate solutions and methods | |
| DE10313517B4 (de) | Lösung zum Ätzen von Kupfer, Verfahren zum Vorbehandeln einer Schicht aus Kupfer sowie Anwendung des Verfahrens | |
| CN101978096B (zh) | Ni-P层系统及其制备方法 | |
| Boto | Organic additives in zinc electroplating | |
| DE102008033174B3 (de) | Cyanidfreie Elektrolytzusammensetzung zur galvanischen Abscheidung einer Kupferschicht und Verfahren zur Abscheidung einer kupferhaltigen Schicht | |
| KR20140044768A (ko) | 내식성 피막을 가지는 기판 및 이의 제조 방법 | |
| US3230098A (en) | Immersion plating with noble metals | |
| CN100529195C (zh) | 用于镀金的无氰型电解溶液 | |
| JPH05222569A (ja) | 銀めっき液 | |
| NL8000586A (nl) | Elektrolytisch bekledingsbad en werkwijze voor het vervaardigen van glanzende, zeer effen elektrolytische nikkel-ijzerafzettingen. | |
| US3928147A (en) | Method for electroplating | |
| US3775265A (en) | Method of plating copper on aluminum | |
| PL84697B1 (pl) | ||
| JP3052515B2 (ja) | 無電解銅めっき浴及びめっき方法 | |
| KR20140007438A (ko) | 아연-철 합금 층 재료 | |
| DE10035102B4 (de) | Verfahren zur Beschichtung von Bauteilen aus gehärtetem Stahl oder Eisenguss mit Zink-Nickel-Legierungen und mit diesem Verfahren erhältliche beschichtete Substrate | |
| US3730855A (en) | Method and composition for electroplating zinc | |
| ES434016A1 (es) | Mejoras introducidas en un procedimiento para producir un electrodeposito brillante de aleacion de hierro-niquel. | |
| CS212001B1 (en) | Method of electrolytic precipitation of the nickle and alloying elements alloys layers | |
| JPH0575837B2 (pl) | ||
| RU2061104C1 (ru) | Электролит для непосредственного никелирования алюминия и его сплавов | |
| DE4406419C1 (de) | Bad zum galvanischen Abscheiden von Silber-Gold-Legierungen | |
| JP2697747B2 (ja) | ボンデイング可能な純金皮膜を電析するための浴 |