PL84697B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL84697B1
PL84697B1 PL16137073A PL16137073A PL84697B1 PL 84697 B1 PL84697 B1 PL 84697B1 PL 16137073 A PL16137073 A PL 16137073A PL 16137073 A PL16137073 A PL 16137073A PL 84697 B1 PL84697 B1 PL 84697B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
bath
gold
acid
gilding
coating
Prior art date
Application number
PL16137073A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to PL16137073A priority Critical patent/PL84697B1/pl
Publication of PL84697B1 publication Critical patent/PL84697B1/pl

Links

Landscapes

  • Chemically Coating (AREA)

Description

****f*mqn Twórcy wynalazku: Jan Socha, Slawomir Saiarzyski Uprawniony z patentu: Instytut M-echaniki Precyzyjnej, Warszawa (Polska) Sposób zlocenia elementów wykonanych, zwlaszcza ze stopu zelaza z niklem i kobaltem Przedmiotem wynalazku jest sposób zlocenia elementów wykonanych zwlaszcza ze stopu zelaza z niklem i kobaltem; na przyklad przepustów tran¬ zystorowych oraz elementów pólprzewodnikowych.
Elementy takie, jak przepusty tranzystorowe musza miec równa i gladka powierzchnie podloza przed nakladaniem powloki, poniewaz nakladana powloka o grubosci niewiele przekraczajacej za¬ kres 2 mikrometrów odwzorowuje bardzo doklad¬ nie stan powierzchni podloza. , W zwiazku z tym otrzymywanie tego rodzaju wyrobów napotyka na bardzo duze trudnosci przy nakladaniu powlok, zwlaszcza przy wykonywaniu zlocenia elementów wykonanych ze stopów zela¬ za z niklem i kobaltem.
Znane jest z polskiego opisu patentowego nr 65 160, wytwarzanie powlok ze zlota na elementach wykonanych ze stopów zelaza z niklem i kobal¬ tem, iktóre polega na nakladaniu miedzy warstwy zlota o grubosci 0,2 mikrometra, sposobem elektro¬ litycznym, w kapieli zawierajacej cyjanozlocian potasu w ilosci 2 do 4 g/l, kwas cytrynowy w ilosci 50 fe/1, chlorek amonu w ilosci 75 g/l i pod- fosforyn sodu w ilosci 10 g/l. Nastepnie naklada sie sposobem chemicznym zasadnicza powloke ze zlota w kapieli o tym samym skladzie. Sposób ten daje dobre wyniki, wymaga jednak bardzo dok¬ ladnej i czystej pracy przy zloceniu, bowiem na¬ wet niewielkie zanieczyszczenie kapieli jonami metali obcych, zwlaszcza grupy zelaza, powoduje 31 zatrucie kapieli do bezpradowego zlocenia, w wy¬ niku czego obniza sie wydajnosc procesu zlocenia* Znane jest ponadto z opisów patentowych fran¬ cuskich nr 1331064 i nr 1331065, stosowanie ka¬ pieli opartej na cyjanozlocinie z dodatkiem kwa¬ su fosforowego lub polifosforowego o pH 3-6, oraz kapieli fosforanowej zawierajacej 0,5 do 20 g/l cy¬ janozlocinu, 5 do 200 g/l kwasu: fosforowego i 35 mg/l do 100 g/l kationu metalu obcego, pracujacej w zakresie pH 3-6.
Metal Industry, 1961, 99 nr 5, 90 — 2 podaje, ze znane sa kapiele fosforanowe, oparte tylko na fosforanach z dodatkiem kationu metalu wspólosa- dzajacego sie ze zlotem.
Sposób zlocenia wedlug wynalazku, elementów wykonanych zwlaszcza ze stopów zelaza z niklem i kobaltem, polega na dwukrotnym nakladaniu powloki, przy czym wstepnie naklada sie powloke ze zlota w kapieli pracujacej w slabokwasnym roztworze pH 3-5, zawierajacym 4 do 5 g/l zlota w postaci cyjanozlocianu potasowego 10-100 g/l hy- droksykwasu alifatycznego oraz 0,5 do 50 g/l po¬ chodnej kwasu sulfonowego, zawierajacego grupe; aminowa. Powloke zasadnicza naklada sie w ka¬ pieli fosforanowej pracujacej w obojetnym roztwo¬ rze pH 6,5-7,5, zawierajacym 30 g/l ikwasnego fo¬ sforanu amonowego i 30 g/l kwasnego fosforanu potasowego, do której dodaje sie w ilosci 10 da 150 g/l, pochodne kwasu jedno- lub wiecej amino- octowego o wzorze 84 6973 hw 4 7-amino-l-naftolo-3-sulfonowego? przy czympHka¬ pieli ustalono wodorotlenkiem potasowym do wartos¬ ci 4. Zlocono iprzy gestosci pradu 0,2 A/dm2 przez 10 minut. Uzyskano grubosc powloki 0,2 mikrometra.
Pq efwukrofnym wyplukaniu w wodzie destylowa¬ nej (plukanie odzyskowe) i plukanie w wodzie bie¬ zacej i destylowanej, prowadzono zasadnicze zlo¬ cenie w kapieli o skladzie: 10 g/l cyjanozlocinu po¬ tasowego, 10 g/l kwasnego fosforanu amonowego, io 15 g/l kwasnego potasowego i 60 g/l kwasu dwu- etylenotrójaminopieciooctowego, o pH kapieli 7,0.
Czas osadzania 30 minut.
Grubosc powloki 2,2 mikrometra osiagnieto w tym czasie przy gestosci pradu 0,2 A/dm*. nicze w kapieli fosforanowej, pracujacej w obo¬ jetnym zakresie o pH 6.5—7.5 zawierajacej 30 g/l kwasnego fosforanu amonowego i 30 g/l kwasnego fosforanu potasowego, do której dodaje sie pochod¬ ne kwasu jedno- lub wiecej aminooctowego w ilosci 10 do 150 g/l 6 wzorze (C2H4)nNn + 1(CH2 COOX)n+3, w którym X zastepuje H lub metal z grupy potasowców, a n=1,2,3,4. i 2i 31 30 Bltk 1555/76 r. 120 egz. A4 Cena 10 zl

Claims (7)

1. Zastrzezenie patentowe
2. (CA)nNn +1(CH,COOX) n + 3 w którym X zastepuje H lub metal z grupy po- tasowców, a n=1,2,3,4.
3. Sposób wedlug wynalazku polega na tym, ze elementy po przeprowadzeniu odtluszczania, plu¬ kania, trawienia i powtórnego plukania poddaje sie zloceniu wstepnemu.
4. W pierwszym etapie naklada sie podklad zlota o grubosci rzedu maksimum 0,2 mikrometra w ka¬ pieli silnie aktywujacej metal podloza, bez naru¬ szenia struktury krystalicznej warstwy wierzchniej, przed nalozeniem w nastepnym etapie, w kapieli obojetnej, wlasciwej warstwy czystego zlota.
5. Drugi*-etap zlocenia prowadzi sie w kapieli fo¬ sforanowej pracujacej w obojetnym zakresie pH
6.5—
7.5, do której wprowadza sie dodatkowo po¬ chodne kjtfasu jedno- lub wiecej aminooctowego. ±-» *Bbda*tel£ teji w kapieli do zlocenia ma dwojakie dzialanie.-.fest silnie kompleksujacym metale gru¬ py zelaza, które z tego zwiazku sa elektrolitycznie nieredukowalne i kapiel nie jest wrazliwa na ewentualne zanieczyszczenie tymi metalami. Dru¬ gie pozytywne dzialanie tego zwiazku polega na jego dzialaniu powierzchniowym, hamujacym wzrost krysztalów wydzielanego zlota, w zwiazku z czym otrzymuje sie powloki drobnokrystaliczne bardzo szczelne i gladkie. Przyklad: Przepusty tranzystorowe po od¬ tluszczeniu oplukano i przeniesiono na przeciag 15 sekund do konwencjonalnej kapieli trawiacej .a nastepnie wyplukano w wodzie biezacej i destylo¬ wanej. Po tych operacjach przepusty zlocono wstepnie w kapieli o skladzie 5 g/l cyjanozlocinu potasowego, 20 g/l kwasu maleinowego i 5 g/l kwasu Sposób zlocenia elementów wykonanych, zwlasz¬ cza ze stopu zelaza z niklem i kobaltem, polega¬ jacy na dwukrotnym nakladaniu powloki, zna- :0 mienny tym, ze wstepnie naklada sie powloke ze zlota w kapieli pracujacej w slabokwasnym zakre¬ sie o pH 3-5, zawierajacej 4 do 5 g/l zlota w po¬ staci cyjanozlocinu potasowego, 10 do 100 g/l hy- droksykwasu alifatycznego oraz 0,5 do 50 g/l po- 25 chodnej kwasu sulfonowego zawierajacego grupe aminowa, a' nastepnie prowadzi sie zlocenie zasad- *
PL16137073A 1973-03-20 1973-03-20 PL84697B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL16137073A PL84697B1 (pl) 1973-03-20 1973-03-20

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL16137073A PL84697B1 (pl) 1973-03-20 1973-03-20

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL84697B1 true PL84697B1 (pl) 1976-04-30

Family

ID=19961946

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL16137073A PL84697B1 (pl) 1973-03-20 1973-03-20

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL84697B1 (pl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3900370A (en) Process for treating aluminum surfaces
DE4343946C2 (de) Galvanisches Kupferbad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Kupfer
TWI229016B (en) Aqueous alkaline zincate solutions and methods
DE10313517B4 (de) Lösung zum Ätzen von Kupfer, Verfahren zum Vorbehandeln einer Schicht aus Kupfer sowie Anwendung des Verfahrens
CN101978096B (zh) Ni-P层系统及其制备方法
Boto Organic additives in zinc electroplating
DE102008033174B3 (de) Cyanidfreie Elektrolytzusammensetzung zur galvanischen Abscheidung einer Kupferschicht und Verfahren zur Abscheidung einer kupferhaltigen Schicht
KR20140044768A (ko) 내식성 피막을 가지는 기판 및 이의 제조 방법
US3230098A (en) Immersion plating with noble metals
CN100529195C (zh) 用于镀金的无氰型电解溶液
JPH05222569A (ja) 銀めっき液
NL8000586A (nl) Elektrolytisch bekledingsbad en werkwijze voor het vervaardigen van glanzende, zeer effen elektrolytische nikkel-ijzerafzettingen.
US3928147A (en) Method for electroplating
US3775265A (en) Method of plating copper on aluminum
PL84697B1 (pl)
JP3052515B2 (ja) 無電解銅めっき浴及びめっき方法
KR20140007438A (ko) 아연-철 합금 층 재료
DE10035102B4 (de) Verfahren zur Beschichtung von Bauteilen aus gehärtetem Stahl oder Eisenguss mit Zink-Nickel-Legierungen und mit diesem Verfahren erhältliche beschichtete Substrate
US3730855A (en) Method and composition for electroplating zinc
ES434016A1 (es) Mejoras introducidas en un procedimiento para producir un electrodeposito brillante de aleacion de hierro-niquel.
CS212001B1 (en) Method of electrolytic precipitation of the nickle and alloying elements alloys layers
JPH0575837B2 (pl)
RU2061104C1 (ru) Электролит для непосредственного никелирования алюминия и его сплавов
DE4406419C1 (de) Bad zum galvanischen Abscheiden von Silber-Gold-Legierungen
JP2697747B2 (ja) ボンデイング可能な純金皮膜を電析するための浴