PL81184B1 - - Google Patents

Description

Uprawniony z patentu: Rank Xerox Limited, Londyn (Wielka Brytania) Plyta kserograficzna i sposób jej wytwarzania Przedmiotem wynalazku jest plyta kserograficz¬ na i sposób jej wytwarzania.W powielaczach kserograficznych ifotaprzewodza- ca warstwe izolacyjna plyty kserograficznej laduje sie równomiernie ladunkiem elektriositatycznym .po¬ przez oba-az obejmujacy swiatla i cienie, a nastepnie naswietla sie ja odwzorowaniem swietlnym orygina¬ lu, przez co w naswietlonych obszarach warstwy nastepuje rozproszenie ladunku.Stosuje sie równiez tworzenie na plycie kserogra¬ ficznej utajonego obrazu elektrostatycznego przez naladowanie itej plyity wedlug konfiguracji obrazu.Obraz ten jest wywolywany przez osadzenie na wa¬ rstwie zawierajacej obraz (drobnoziarnistego mate¬ rialu wywolywacza, skladajacego sie z tonera i no¬ snika tonera. Material wywolywacza zostaje przy¬ ciagniety do tych obszarów warstwy, w których znajduje sie ladunek, na skutek czego powstaje ob¬ raz proszkowy, odpowiadajacy utajonemu obrazo¬ wi elektrostatycznemu. Jezeli podloze, na którym zostal wywolany obraz jest stosunkowo tanie tak jak papier, mozna obraz proszkowy utrwalic bez- pasrednio na [tym podlozu pnzez stapianie za pomo¬ ca ciepla lub rozpuszczalnika. Mozna równiez obraz .proszkowy przenosic ma arkusz materialu, na przy¬ klad papieru i na nim obraz ten utrwalac.W celu zapewnienia skutecznego dzialania foto- przewodizacej, warstwy izolacyjnej plyty kserogra- jfocznej, koniecznym jest by potrafila ona utrzymac 10 15 20 25 30 w ciemnosci ladunek elektrostatyczny i umozliwia¬ la rozproszenie, ladunku, gdy warstwa ta zostanie naswietlona. Do sporzadzenia plyt kserograficznych stosowane sa rózne fotoprzewodzace materialy izo¬ lacyjne, takie jak antracen, siarka, selen lub ich mieszaniny. Materialy te sa na ogól czule w zakre¬ sie swiatla niebieskiego lub w poblizu uiitra^fioletu.Wszystkie te materialy oprócz selenu maja wade, polegajaca na malej czulosci swietlnej. Selen jest z tego powodu materialem najczesciej stasowanym na plyity kserograficzne. Jednak saklisty selen ma równiez powazne wady, które wynikaja z pewnego ograniczenia jego reakcji widmowej w ultrafiole¬ towych, niebieskich i zielonych pasmach promie¬ niowania.Wytwarzanie plyt ze szklistego selenu wymaga ponadto kosztownych i zlozonych zabiegów, takich jak na przyklad odparowywanie w prózni. Warstwy szklistego selenu sa przy ltym jedynie metatrwale, poniewaz w temperaturach tylko nieznacznie prze¬ kraczajacych temperatury wystepujace w znanych powielaczach kserograficznych ulegaja one latwo rekrystalizacji przybierajac nieczynne postacie kry¬ staliczne. Plyty selenowe wymagaja poza tym sto¬ sowania oddzielnej przewodzacej warstwy podloza, najkorzyslfcniej z dodatkowa warstwa przegradzaja- ca, osadzona na podlozu przed nalozeniem sele¬ nowego fotoprzewodnika.Podejmowano ostatnio szereg wysilków, zmierza¬ jacych do stworzenia izolacyjnych (materialów fotio- 811843 81184 4 przewodzacych innych niz selen, które nadawalyby sie do zastosowania w plytach kserograficznych.Proponowano zastosowanie na fotoprzewodzace warstwy izolacyjne plyt kserograficznych róznych materialów dwuskladnikowych. Materialy te skla¬ daja sie z fotoprzewodzaceigo materialu izolacyjne¬ go w postaci czastek, które sa rozproszone w izolu¬ jacym spoiwie.Jezeli material fotoprzewodzacy zawiera nieorga¬ niczne skladniki krystaliczne, zawierajace jony me¬ tali, uzyskuje sie czulosc fotograficzna i czulosc wi¬ dmowa zadowalajace z punktu /widzenia zastoso¬ wania w plytach kserograficznych. Jednakze plyty takie maja znacznie mniejsze czulosci niz plyty se¬ lenowe nawet wówczas, gdy zostana uczulone za [tyty takie uwazane sa na do ponownego uzycia, al- dostateoznej czullosci wy- | tak duzych ilosci fotoprze- i trudno jest uzyskac giad- ' nadaja sie do efektywnego przenoszenia tonera i pózniejszego ich oczyszczania przed ponownym uzyciem. Dodatkowa wada takich plyt jest to, ze mozna je ladowac tylko za pomoca ujemnych wyladowan uiotowych, a nie za pomoca dodatnich wyladowan wlotowych. Ta wlasciwosc sprawia, ze sa one niepozadane w zastosowaniach gospodarczych albowiem ujemne wyladowania ulo- towe wytwarzaja znacznie wiecej ozonuCniz < do¬ datnie wyladowania ulotowe, oraz daja sie na ogól: trudniej reigulowac. , , Do wytwarzania fotoprzewodzacych warstw izo¬ lacyjnych zawierajacych spoiwo mozna stosowac or-^ ganiczne barwniki fotoprzewodzace oraz szeroki zestaw zwiazków wielopierscieniowych wraz z od¬ powiednimi zywicami. Tego rodzaju plyty maja zwykle zbyt mala czulosc w stosunku ido wymagan dla plyt w konwencjonalnych powielaczach ksero¬ graficznych. Plytom tym brak jest ponadto odpor¬ nosci na scieranie i stabilnosci dzialania, zwlaszcza przy pracy w podwyzszonych temperaturach.W innych typach plyt do wytworzenia (fotoprze¬ wodzacych warstw izolacyjnych stosowane sa foto¬ przewodzace polimery, czesto wraz z barwnikami u- czuiajacymi lub kwasami Lewis'a. Takie warstwy fotoprzewodzace maja wade, polegajaca na du¬ zym koszcie wytwarzania, na kruchosci oraz na ma¬ lej przyczepnosci do podloza. Wiele z tych foto¬ przewodzacych warstw izolacyjnych wykazuje sklo¬ nnosci do odksztalcen pod wplywem ciepla, wsku¬ tek czego nie nadaja sie one do automatycznych powielaczy kserograficznych, w sklad których wcho¬ dza czesto silne lampy i urzadzenia cieplne ogrze¬ wajace plyte kserograficzna.Celem wynalazku jest stworzenie1 plyty kserogra¬ ficznej, pozbawionej wyzej podanych wad, czulej w szerokim pasmie widma promieniowania widzial¬ nego, nadajacej sie do ponownego ozycia, która ma duza trwalosc cieplna, w porównaniu ze znanymi plytami tego typu.Zadanie to zostalo rozwiazane wedlug wynalazku w ten sposób, ze plyta kserograficzna ma war¬ stwe fotoprzewodzaca, skladajaca sie z ibromowego barwnika azowego i spoiwa przy czym (wymienio¬ ny barwnik azowy jest zwiazkiem o wzorze struk¬ turalnym 1 gdzie R=Ca, Mg, lub Ba, a R'=CH3, C2H5, OGH3, OC2H5 lufo halogen, natomiast R"=iCH3, C2H5, OCH3 OC2H5 lub halogen. Spoiwem jest na przyklad zywica organiczna. 5 Taka warstwa /fotoprzewodzaca jest osadzona na podlozu i jest powleczona odpowiednim materia¬ lem. Fotoprzewodzaca warstwa moze byc uzyta w ukladach wielowarstwowych i ¦umieszczona w sa¬ siedztwie warstwy dielektrycznej, podobnej do 10 przedstawionej przez Golowina i innych publi¬ kacji zatytulowanej „Nowy proces kserograficzny przeprowadzony za pomoca polaczonych warstw ele¬ ktrycznych". (Wyklady Akademii Nauk ZSRR, tom 1,29 nr 5 strony 1008—ilOll, Ldstopad—Grudzien 15 1959). Stwierdzono, ze zawartosc procentowa bro¬ mowanych (barwników azowych, nalezacych do opi¬ sanej wyzej grupy, potrzebna do uzyskania odpo¬ wiedniej czulosci plyty, jest bardzo miala.Wlasnosci mechaniczne warstiwy fotoprzewodzacej 20 sa w zasadzie Okreslone przez wlasnosci spoiwa.Wedlug wynalazku mozna stosowac bardzo rózno¬ rodne zywicowe spoiwa, poczynajac od miekkich termoplastyków do twardych emalii o budowie usie- ciowanej. Mozna wiec, w celu zadoscuczynienia kon- 25 kretnym wymaganiom, dobierajac odpowiednie zy¬ wice, zmieniac w szerokich granicach wlasnosci ifii- zyczne wytworzonych warstiw fotoprzewodzacych.Z tego punktu widzenia opisywane /warstwy foto- przawodzace sa lepsze od wielu znanych dotych- ao czas zawiesin nieorganicznych barwników w sufo- "v stancji wiazacej, które musza miec duza zawartosc procentowa barwników nieorganicznych, przez 00 w zasadzie barwnik okresla wlasnosci fizyczne warstwy fotoprzewodzacej. Poniewaz niezbedna za- 35 wartosc 'bromowanego barwnika azowego jest sto¬ sunkowo niewielka, plyta kserograficzna wedlug wynalazku ma bardzo twarda i bardzo gladka po- powierzchnie.Chociaz do wytwarzania plyty wedlug wynalazku 40 nadaje sie kazdy barwnik bedacy zwiazkiem wedlug wzoru 1, korzystne jest zastosowanie zwiazków, w których R=Oa, R'=CH3 lub C2H5, a R"=ihalogen, albowiem material taki ma duza czulosc fotogra¬ ficzna i umozliwia wytworzenie najlepszych obra- 45 zów. Najlepsze wyniki uzyskuje sie gidy R=Ca. R'= =CH3 a R"=iCl.Z posród opisanych wyzej formowanych barwni¬ ków azowych mozna stosowac róznorodne odmiany oddzielnie lub w polaczeniu z innymi zestawami, 50 w kazdej odpowiedniej mieszaninie, jako diiamery, timery, oliigamery, polimery, kopolimery lub ich mieszaniny.Do sporzadzenia fotoprzewodizacej warstwy we¬ dlug wynalazku stosuje sie w polaczeniu z bromo- 55 wlanymi zwiazkami azowymi dowolna odpowiednia organiczna zywice wiazaca. Zastosowana zywica powinna posiadac opornosc wlasciwa wieksza niz okolo 1010 Q • cm a najkorzysitniej wiejksza niz 1012 Q • cm. 60 Typowymi zywicami sa tworzywa termoplastycz¬ ne wlaczajac polimery olefinów, takie jak poliety¬ len i polipropylen; polimery pochodne od diehów, takie jak polibultadien, polizobutylen i polichloro- propylen, winyl i polimery winidylenu, takie jak 65 polistyren, kopolimery styreno-akronitrylowe; po*5 81184 6 limery trójskladnikowe akronitryiowo4utadienowo- -styrenowe, polimeiakrylanometyiu, poiiakrylany, poiiakryle, paliakrylonitryl, polioctan winylu — po¬ lialkohol winylowy, polichlorek winylu, poflikarba- zol winylowy etery poliwinylowe i ketony poliwiny¬ lowe; ifluoropochodne polimery weglowodorów, ta¬ kie jak policzterofluoroetyien i poliffluorek winidy- lenu; heterolancuchowe termoplastyki, takie jak po¬ liamidy, poliestry, poliuretany, polipeptydy, kazei¬ na, poliglikole, polisiarczki, i poliweglany; oraz po¬ limery celulozowe, takie jak regenerowana celu¬ loza, octan celulozy i azotan celulozy. '3° substancji tych naleza równiez zywice termou¬ twardzalne wlacznie z zywicami fenolowymi, zywice anilinowe, takie jak zywice mocznikowo^formaldehy- dowe zywice meiaminowo-iformaldehydowe, niena¬ sycone zywice poliestrowe, zywice epoksydowe, po¬ limery silikonowe, zywice alkddowe i zywice fu- ranowe. 'Tam gdzie isltnieije imozliwosc ich zastoso¬ wania, moga byc uzyte rózne kopolimery i mie¬ szaniny wyzej wymienionych zywic. Jezeli jest to pozadane mozna poza wymienionymi wyzej zywica- mkstosowac inny odpowiedni material. ,r,Bromowe zwiazki azowe mozna wprowadzac do ' rozpuszczonej lub roztopionej zywicy wiazacej, sto¬ sujac dowolny odpowiedni sposób, nla przyklad sil¬ ne mieszanie scinajace, najkorzystniej z równoczes¬ nym przemialem.Typowymi sposobami sa przemial kulowy, prze¬ mial walcowy, przemial w mieszarfeaoh, mieszanie ultradzwiekowe, sporzadzanie mieszanki przy du¬ zych predkosciach, oraz dowolne -polaczenie tych sposobów. Mozna stosowac kazdy odpowiedni stosu¬ nek ilosci barwnika do ilosci zywicy. Przyjmujac za podstawe wagowy stosunek barwnika do suchej zywicy, mozna uzyteczny sklad mieszania okres¬ lic w granicach do okolo 1:1 do okolo 1:40. Naj¬ lepsze wyniki uzyskuje sie, gdy sltosunek ten wy- ntjsirod 1: 4 do okolo 1:10.Optymalne wyniki uzyskuje sie gdy stosunek .ten wynosi 1:4. Jakkolwiek najwieksza swiaitloczulosc uzyskuje sie przy stosunku ilosci barwnika do ilos¬ ci $ywicy jak 1:1—ii: 4, to jednak przy wiekszej zawartosci barwnika zwieksza sie przewodnosc wla¬ sciwa w ciemnosci. Optymalne zrównowazenie mie¬ dzy czuloscia i rozpadem w ciemnosci wystepuje przy stosunku wynoszacym okolo 1:4. Nalezy zwró¬ cic uwage, ze udzial substancji ifiotoprzewodnifca wystepujacy w uprzywilejowanym zakresie, jest w istotny sposób mniejszy, niz stosowany przy wytwa¬ rzaniu znanych dotad fotoprzewodzacych. plyt, w których stosowane sa nieorganiczne srodki wiaza¬ ce. Przy stosowaniu tych zmayoh dotad plyt uzysku¬ je sie jedynie wówczas zadawalajaca czulosc, gdy stosunek ilosci pigmentu do ilosci zywicy wynosi przynajmniej 2:1. y Zastosowanie mniejszych stosunków ilosci pig¬ mentu do ilosci zywicy stanowi bardzo pozadana zalete, albowiem potrzebna jest mniejsza ilosc sto¬ sunkowo drogiego skladnika jakim jest barwnik.Z uwagi na duza zawartosc substancji wiazacej u- zyskuje sie bardzo gladkie, przyczepne powloki.Maly udzial dodawanego materialu sprawia, ze material ten wplywa nieznacznie na wlasnosci fi¬ zyczne zywic wiazacych. Wobec tego .mozna dobie¬ rac takie zywice, które posiadaja: pozadany zakres zmiekczania, gladkosc, twawJosc, ciagliwosc, odpor¬ nosc na rozpuszczalniki lub rozpuszczalnosc i temu podobne wlasnosci, majac pewnosc, ze barwnik za- 5 sadniczo nie wplynie na wymienione wlasnosci.Jezeli zamierza sie nalozyc warstwe swiialtioczula na podloze, mozna stosowac róznorodne materia¬ ly podtrzymujace. Odpowiednimi do tego celu ma¬ terialami sa aluminium, stal, mosiajdz, szkfto mefca- 10 lizowane lub powleczone tlenkiem cynku, pólprze- wodzace zywice, papier oraz dowolny inny odpowie¬ dni material, którego przewodnosc wlasciwa, w cza¬ sie uzycia, wynosi, ponad 10° Q • cm, lub powierzch¬ niowa przewodnosc wlasciwa jest wieksza niz 108 15 fl/om2. Zawiesine roztworu barwndka i zywicy lub stopiona mase barwnika i zywicy naklada sie na przewodzace podloze, #stosujac dowolny z posród znanych sposobów powlekania. Do sposobów tych naleza natryskiwanie, powlekanie w strumdeniu, po- 20 wlekanie szczelinowe, powlekanie elektryczne, scia¬ ganie -pretem „Mayer", powlekanie zanurzeniowe, powlekanie walkami przeciwbieznymi i inne.Korzysitone jest natryskiwanie w polu elektrycz¬ nym z uwagi na uzyskiwanie najgladszego wykon- 25 czeoia powierzchni, natomiast powlekanie zanurze¬ niowe jest korzystne z uwagi na wygodniejsza pral¬ ce laboratoryjna. Zabiegi zestalania, suszenia i/lub utwardzania, stosowane przy wytwarzaniu tych plyt, sa na ogól podobne do zabiegów, kltóre za- 30 lecane sa dla blon utworzonych z okreslonych ma¬ terialów wiazacych, uzywanych do innych zastoso¬ wan malarskich. Na przyklad plyty z bromowanego barwnika azowego i zywicy epoksydowej mozna Utwardzac, dodajac czynnik, powodujacy budowe 35 usieciowana, oraz suszac je w podwyzszonej tem¬ peraturze wedlug takiego samego, w przybaizeniu, programu, jaki stosuje sie w zastosowaniach ma¬ larskich, dla innych wypalanych emalii, kltóre wy¬ twarzane sa z tych samych zywic d podobnych 40 barwników.Grubosc blon z bromowanych barwników azo- wych i srodków wiazacych, moze w zaleznosci od wymaganej charakterystyki, zmieniac sie od okolo 1 do okolo 100 mikronów. Na przyklad, blon samo- 45 nosnych nie mozna wytwarzac w dogodny sposób przy grubosciach mniejszych niz okolo 10 mikronów, a najlatwiej mozna nimi manipulowac i stosowac je, gdy grubosc ich miesci sie w zakresie tó do 75 mikronów. Z drugiej strony wytwarza sie po- 50 wloki korzystnie o grubosciach lezacych w zakre¬ sie 5 do 30 mikronów.Przy stosowaniu niektórych zesitawów i dla nie¬ których celów, pozadanym jest zastosowanie wie¬ rzchniej powloki ochronnej. Grubosc tej wierzch- 55 niej powloki nie powinna przekraczac grubosci po¬ wloki fotoprzewodzacej, a jnajkorzystniej nie po¬ winna ona przekraczac 1/4 grubosci tej powloki.Mozna stosowiac dowolna powloke wienzchnia, na przyklad bromowany szelak. " 60 Wynalazek jest blizej omówiony na podstawie przykladów. Czesci i procenty podane sa jako wago¬ we, chyba ze zaznaczono to inaczej.Przyklad I. Plyte kserograficzna wykonuje sie przez zmieszanie okolo 6 czesci „Foliolite S5B" ko- 65 polimerowej zywicy styrenowobuitadienowej, imozli-7 81184 8 wej do inaibycda w firmie „Goodyear" Tire and Rub¬ ber Company" z okolo 43 czesciami ksylenu i okolo 1 czescia bromowanego barwnika azowego o wzo¬ rze 2.Mieszanine umieszcza sie w sloju szklanym, który zawiera pewna ilosc stalowych kulek o srednicy 3,42 mm i miele sie w ciagu okolo 1/2 godziny w mlynie ^Bed Devil Quickie Mali" (Laboratoria Gar- d&ner'a) w celu uzyskania jednorodnego rozprosze¬ nia. Po zmieleniu rozproszona substancja zostaje na¬ niesiona na arkusz folii aluminiowej o grubosci 04i27 mm przy zastosowaniu drucianego drazka po¬ ciagowego nr 36. Powloka ta zostaje nastepnie pod¬ dana suszeniu w ciagu okolo dwóch godzin w wy¬ muszonym obiegu powietrza w temperaturze okolo 100°C Plyta zostaje nastepnie na&adowania ido do¬ datniego potencjalu okolo 650 V, za pomoca urza¬ dzenia do wyladowan uiotowych. Naladowana ply¬ ta zostaje nastepnie naswietlona stykowo w ciagu 15 sekund przez pozytyw (filmowy, iza pomoca lam- py wolframowej posiadajacej temperature 34W°K.Poziom natezenia oswietlenia w plaszczyznie na¬ swietlenia wynosi okolo 57 stoposwiec. Utajony ob¬ raz elektrostatyczny utworzony na plycie, zostaje nastepnie wywolany przez kaskadowe posypywanie plyty proszkiem wywolywacza. Obraz proszkowy zo¬ staje przeniesiony z pftyty elektrostatycznie na ar¬ kusz podloza i zostaje ma nim stopiony przez na¬ grzanie. Obraz na arkuszu podloza ma doskonala jakosc i odpowiada stykowo naswietlonemu orygi¬ nalowi.Przyklad II. Plyte kserograficzna wytwarza sie przez zmieszanie okolo 2 czesci „Silicone SR-8E" mety^owo-(fienylowej zywicy silikonowej, która moz¬ na nabyc w firmie „General Electric Company" z okolo 40 czesciami ksylenu i z okolo 1 czescia bromowanego barwnika azowego o wzorze 3.Plyta ta zostaje naladowana do poczatkowego po¬ tencjalu dodatoiego okolo 290V. Uzyskany obraz ma dobra jakosc.Przyklad III—IV. Zostaja wytworzone dwie plyty kserograficzne przez zmieszanie okolo 1 cze¬ sci wdmlitu „VYNS", bedacego kopodimetem chlor¬ ku winylu i octanu winylu, który mozna nabyc w firmie „Union Carbide Corporation" z okolo 10 czesciami ketonu etylowego i z okolo 1 czescia bromowanego barwnika azowego, o wzorze 1, gdzie R' = Br, R" = CH3 a R++ = Ba++.Plyta zostaje powleczona, utwardzona, naladowa¬ na, naswietlona i wywolana jak podano w przy¬ kladzie I, jednak w przykladzie III nastepuje nala¬ dowanie plyty do potencjalu dodatniego 480V, a w przykladzie IV nastepuje naladowanie plyty do po¬ tencjalu ujemnego 835V. Uzyskany obraz ma zada¬ walajaca jakosc.Przyklad V—VI. Zostaja wytworzone dwie ply¬ ty kserograficzne przez zmieszanie okolo 1 czesci wimilitu „VYNS" £ okolo 10 czesciami ketonu ety¬ lowego i z okolo 1 czescia bromowanego barwnika azowego o wzorze 4.Plyta zostaje powleczona, utwardzona, naladowa¬ na, naswietlona i wywolana jak w przykladzie I, jednak w przyladzie V plyta jest naladowana do potencjalu dodatniego, 530 V, a w przykladzie VI do potencjalu ujemnego 6d0 V. W wyniku uzyskuje sie dobre obrazy. PL PL

Claims (10)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Plyte laeragraifkzna, zHamlenaa tym, ze ma warstwe fotoprzewodzaca, zlozona z bromowanego barwnika azowego oraz spoiwa, przy czym wy¬ mieniony bromowany barwnik azowy jest zwiaz¬ kiem o wzorze 1, gdzie R jest wapniem, magne¬ zem, barem lub ich mieszanina, R' jest wybrane sposród CH3, C*H5, OCH3, OGfHs, halogenu, emaz 10 15 20 25 30 as 40 45 50 G5 60 Przyklady VII—VIII. Zostaje przygotowana plyta kserogratfiiczna przez zmieszanie okolo 1 cze¬ sci winilitu „VYNS" z okolo 10 czesciami ketonu etylowego i z okolo 1 czescia bromowanego barw¬ nika Gzowego, o wzorze 5. Plyta BGSfbaje powleczona, utwardzona, naladowa¬ na i wywolana jak w podanym wyzej przykladzie I. Jednakze w tym wypadku plyta dla przykladu VII -jest naladowana do potencjalu dodatniego 410 V, a dla przykladu VIII do potencjalu ujemnego 605 V. Za pomoca tych plyt wytworzone zostaja doskonale obrazy. J.5 Przyklady IX—X. Zostaja przygotowane dwie plyty kserograficzne przez zmieszanie okolo.100 cze- sci 10 procentowego roztworu karJbaaelu paliwi- nyUowego w benzenie z okolo 5 czesciami cyklo- 20 heksanonu i z okolo 1 czescia bromowanego barw¬ nika azowego podanego w przykladzie I. Plyty te zostaja powleczone, utwardzone, naladowane, .na¬ swietlone i wywolane, jak w przykladzie L Jednak¬ ze w tym wypadku plyta dla przykladu IX jest na- 25 ladowana do potencjalu dodatniego, okolo 180 V a dla przykladu X do potencjalu ujemnego okolo 215 V. Wytwarzane sa obrazy doskonalej jakosci. Przyklady XI—XII. Zostaja przygotowane ply¬ ty kserograficzne przez zmieszanie najpierw okolo 30 100 czesci 10 procentowego roztworu karbazolu po¬ liwinylowego w benzenie z okolo 5 czesciami cy- klokeksanonu i z okolo 1 czescia bromowanego barwnika azowego podanego w przykladzie II. Ply¬ ty zostaja powleczone, utwardzone, naladowane, na- *5 swietlome i wywolane jak w przykladzie I. Jednakze w tym wypadku plyta dla przykladu XI jest na¬ ladowana do potencjalu dodatniego okolo 150 V, a dla przykladu XII do potencjalu (ujemnego, okolo 180 V. Uzyskuje sie obrazy daiwej jjatoscd. 40 Jakkolwiek w powyzszych przykladach podano konkretne skladniki i proporcje dotyczace ich uzy¬ cia z bromowanymi pigmentami azowymi przy spo¬ rzadzaniu plyt kseiPOgraficznych, to jednak z po¬ dobnym skutkiem mozna zastosowac inne octpowied- 45 nie materialy, takie jak zosttaly powyzej wyszcze¬ gólnione. Ponadto do zestawów bromowanych bar¬ wników aaowych lub do aesitawow barwnik-^y^ifia mozna dodawac inne materialy w celu pobudzania, polepszania lub modyfikowania ich wlasnosci. Ze- 50 stawy barwników i/luib zestawy barwnik^zywica moga zostac uczulone na barwe lub mozna je mae- szac lub laczyc w inny sposób z innymi fotoprae- wotinikami, zarówno organicznymi jak i nieorga¬ nicznymi.9 ¦lW.H^K 10 ich mieszanin, a R" jest wybrane sposród CH3, CjH5, OGH3, OC2Hb, fialogenu i ich mieszanin.

2. Plyta wedlug zestrz. 1, znamienna tym, ze spoi¬ wo jest zywica organiczna.

3. Plyta wedjug zastrz. 1—2, znamienna tym, ze R jest wapnieip.

4. Ply^ta wedlug zastrz. 1^-3, znamienna tym, ze R' (jest wybrane sposród CJH3, C1H5 i ich miesza¬ nin.

5. Plyta wedlug zastrz. 1^3, znamienna tym, ze rodnikiem R' jest CH3.

6. Plyta wedlug zastrz. 1-^5, znamienna tym, ze R" jest haiagenem.

7. Plyta »wedlug zastrz. 1«—S, ^znamienna tym, ze R" jest chlorem.

8. Plyta wedlug zastrz. 1—7, znamienna 4ym, ze warstwa fiotoprzewodzaca umieszczona-jestLtia po¬ dlozu.

9. Plyta wedlug aastrz. I1—6f znamienna tym, ze stosunek ilosc) bromowanego barwnika azowego do ilosci spoiwa wynosi od okolo 1:1 do okolo 1:40. 10.."Plyta wedlug zastrz. 1^8, znamienna tym, ze stosunek ilosci bromowanego iarwnika azowego do ilosci spoiwa wynosi od okolo 1:4 do okolo 1:10. 11. Plyta wedlug zastrz. 1^8, znamienna tym, ze stosunek ilosci bromowanego barwnika azowego do ilasci spoiwa wynasi okolo 1:4. 12. Plyba wedlug zastrz. 1—flU, znamienna tym, ze grublpsc warstwy fotoprzewodzacej lezy w gra¬ nicachjod fywn do'100 \nm. 13. Plyta wedlug zastrz. 1—^11, znamienna tym, ze grubosc warstwy fat&przewadzacej lezy w gra¬ nicach od 5 \um do 80 \nm. 14. Plyta wedlug zastrz. 1—tlil, znamienna tym, ze warstwa fotoprzewodzaca jest z wierzchu po¬ wleczona. 15. Sposób -wytwarzania plyty kserograficznej, wedlug zastrz. 1—*14, znaanieimy tym, xe bromowa¬ ny barwnik azpwy miesza sie z zywica organiczna w srodowisku cieklym, przy czyim wymieniony bar¬ wnik jest zwiazkiem brane z grupy skladajacej sie z Ca, Mig, Ba i ich mieazanin, R' jest wybrane z igBupy skladajacej sie z aH3, 0*H5, nin, a TL" jest wybrane z grupy skladajacej sie z CH3, C1H5, QC£i3, OC*H5, hailpgenu, i ich- miesza¬ nin. * 16. Sposób wedlug «esttrz. 15, znamienny tym, ze wymierapne srodowtfsfco ciekle jest dobrym rozpu¬ szczalnikiem wymienionej zywdey. 17. Sposób wedlug-zastrz. 1S, J/ab 16, znamienny tym, ze warstwe Setaprzewodzaca naklada sie na podloze podtrzymujace w celu utworzenia w ten sposób plyty kserograficznej. 1<8. Sposób wedlug zastrz. 15—dT, znamienny tym, ze R jest wapniem.

10. Sposób wedlug zastrz. 19-^14, znamienny tyin, ze R' jest wybrane z grupy skladajacej «i^ z CH3, 6 C2H5 i ich mieszanin. 20. Sposób wedlug zastrz. 15—18, znamienny tym, ze rodnik R' jest CH3. 21. Sposób wedlug zastrz. 15—ii©, znamienny tym, ze R" jest halogenem. 10 22. Sposób wedlug zastrz. 15—19, znamienny tym, ze R" jest chlorem. 23. Sposób wedlug zastrz. 16^h22, znamienny tym, ze stosunek ilosci bromowanego barwnika azowe¬ go do; ilosci spoiwa miesci sie w granicaefi fod oko- w lo 1:1 do okolo 1:40. • 24. Sposób wedlug zastrz. 15—22, znamienny tym, ze stosunek ilosci bromowanego4arwffiikal azowe¬ go do ilosci spoiwa miesci sie w granitach od okolo 1:4 do okolo 1:10. 20 05. Sposób we$$ag zastrz. 15—22, znamienny tym, ze stosunek losci bromowanego barwnika azowego do ilosci spoiwa wynosi 0&olo 1:4. ~3& Sposób wedlug zastrz. 15—25, znamienny tym, ze grabosc warstwy fotoprzewodzacej lezy-w gra- 2S nicach od okolo 1 onikr#na do okolo 100 * mikro¬ nów. (27. Sposób wedlpg zastrz. 15—^25, znamienny tym, ze grubosc wa»s*wy fototprzewodzacej lezy < w gra¬ nicach od okolo 5 mikronów do okolo 30; mikro- 30 nów. 28. Sposóbwtfdkig zastrz. 1&^27, znamienny tym, ze (miesza sie w srodowisku cieklym ^bromowany barwnik azowy z zywica, a otrzymana ciekla mie¬ szanina naklada sie na przewodzace podloze, po 35 czyim z tak otrzymanej jwaretwy mieszaniny od¬ parowuje sie jej czes£ ciekla i tworzy sie w ten sposób stala fotoprzewodzaca warstwe stykajaca • sie elektrycznie z podlozem. 29. Sposób wytwarzania utajonego obrazu ele- 40 ktrostatycznego, który obejmuje ladowanie elektro¬ statyczne warstwy fotoprzewotojcet iWy ksero¬ graficznej oraz naswietlenie wymienionej warstwy promieniowaniem ^ektwwnaenetycznyim, znamien¬ ne tym, ze plyta ksepograrfdczna odpowiada zastrz. 30. Sposób wedlug zastrz. "29, znamienny tym^ ze wymienione warstwy fotoprzewodzace umieszcza sie w styku elektrycznym z podlozem podtrzymu¬ jacym. 50 31. Sposób wedlug zastrz. 29 lub 30, znamienny tym, ze plyte nalaKowuje sie elektrycznie, naswie¬ tla sie i wywoluje sie za pomoca elektioskopowego wywolywacza. .._,.. 32. Sposób wedlug- zastrz. $9-^30,znamienny tym, 35 ze plyta przechodzi dwukrotnie przez cykl obej¬ mujacy naladowanie, naswietlenie obrazu i wy¬ wolanie.81184 C2H5 R ++ SO. N N Br o o OH C02" Wzór 1 Wzór 3 ^A-°h BrA^kAC0< Ca -h Wzor 2 Wzór 481184 C2H5 Ca ¦++ Wzór 5 R ++ Wzór 6 PL PL