PL80390B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL80390B1 PL80390B1 PL1969135479A PL13547969A PL80390B1 PL 80390 B1 PL80390 B1 PL 80390B1 PL 1969135479 A PL1969135479 A PL 1969135479A PL 13547969 A PL13547969 A PL 13547969A PL 80390 B1 PL80390 B1 PL 80390B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- pigment
- quinoacridine
- board according
- photoconductive layer
- photoconductive
- Prior art date
Links
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 35
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 29
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 11
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 3
- -1 aliphatic radical Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 10
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 10
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 10
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- WBHAUHHMPXBZCQ-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound COC1=CC=CC(C)=C1O WBHAUHHMPXBZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZSUIHUAFPHZSU-UHFFFAOYSA-N 9-ethyl-2,3-dihydro-1h-carbazol-4-one Chemical compound C12=CC=CC=C2N(CC)C2=C1C(=O)CCC2 GZSUIHUAFPHZSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 241001561902 Chaetodon citrinellus Species 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 101001126084 Homo sapiens Piwi-like protein 2 Proteins 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 102100029365 Piwi-like protein 2 Human genes 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYMWQLRSSDFGEQ-ADRAWKNSSA-N [(3e,8r,9s,10r,13s,14s,17r)-13-ethyl-17-ethynyl-3-hydroxyimino-1,2,6,7,8,9,10,11,12,14,15,16-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl] acetate;(8r,9s,13s,14s,17r)-17-ethynyl-13-methyl-7,8,9,11,12,14,15,16-octahydro-6h-cyclopenta[a]phenanthrene-3,17-diol Chemical compound OC1=CC=C2[C@H]3CC[C@](C)([C@](CC4)(O)C#C)[C@@H]4[C@@H]3CCC2=C1.O/N=C/1CC[C@@H]2[C@H]3CC[C@](CC)([C@](CC4)(OC(C)=O)C#C)[C@@H]4[C@@H]3CCC2=C\1 GYMWQLRSSDFGEQ-ADRAWKNSSA-N 0.000 description 1
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 1
- 239000011149 active material Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 238000002144 chemical decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical class [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical group OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000007849 furan resin Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000012774 insulation material Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- LAQFLZHBVPULPL-UHFFFAOYSA-N methyl(phenyl)silicon Chemical compound C[Si]C1=CC=CC=C1 LAQFLZHBVPULPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 1
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001184 polypeptide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920001289 polyvinyl ether Polymers 0.000 description 1
- 229920006215 polyvinyl ketone Polymers 0.000 description 1
- 102000004196 processed proteins & peptides Human genes 0.000 description 1
- 108090000765 processed proteins & peptides Proteins 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 239000004627 regenerated cellulose Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0622—Heterocyclic compounds
- G03G5/0644—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings
- G03G5/0646—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings in the same ring system
- G03G5/0653—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings in the same ring system containing five relevant rings
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
Uprawniony z patentu: Rank Xerox Limited, Londyn (Wielka Brytania) Plyta kserograficzna Przedmiotem wynalazku jest plyta kserograficz¬ na.Jest rzecza znana, ze przy pomocy urzadzen elek¬ trostatycznych mozna na powierzchni pewnych fo- toprzewodzacych materialów izolacyjnych wytwa¬ rzac i wywolytwac obrazy. Znany proces kserogra¬ ficzny obejmuje równomierne naladowanie foto- przewodzacej warstwy izolacyjnej, a nastepnie na¬ swietlenie tej warstwy obrazem oryginalu, wsku¬ tek czego nastepuje rozproszenie ladunków w na¬ swietlonych czesciach warstwy izolacyjnej. Utajony obraz elektrostatyczny utworzony na warstwie od¬ powiada uksztaltowaniu obrazu oryginalu. Mozna tez utworzyc na plycie utajony obraz elektrosta¬ tyczny przez naladowanie tej plyty wedlug konfi¬ guracji obrazu.Wywolanie tego obrazu uzyskuje sie przez osa¬ dzenie na warstwie zawierajacej utajony obraz drobno ziarnistego materialu wywolywacza, który zawiera 'pigment oraz nosnik pigmentu. Material wywolywacza zostaje przyciagniety do tych obsza¬ rów warstwy, na których zachowal sie ladunek, wskutek czego powstaje obraz proszkowy, który odpowiada utajonemu obrazowi elektrostatycznemu.Gdy arkusz podloza jest stosunkowo tani, na przy¬ klad papier, mozna obraz proszkowy osadzac wprost na plycie przez stapianie go na przyklad za pomoca ciepla. Mozna równiez obraz proszko¬ wy przenosic na arkusz materialu podloza, takie¬ go jak papier i na nim obraz ten utrwalac. 10 15 20 25 30 Dla zapewnienia efektywnego dzialania fotoprze- wodzacej warstwy izolacyjnej, koniecznym jest aby potrafila ona utrzymac w ciemnosci ladunek elek¬ trostatyczny i umozliwiala rozproszenie ladunku, gdy warstwa ta zostanie naswietlona. Wiadomym jest, ze do sporzadzania plyt kserograficznych sa stosowane rózne fotoprzewodzace materialy izola¬ cyjne, takie jak antracen, siarka, selen lub ich mieszaniny. Materialy te sa czule w zakresie bar- . wy niebieskiej lub w poblizu ultrafioletu, przy czym wszystkie te materialy z wyjatkiem selenu posiadaja wade, polegajaca na malej swiatloczu- losci. Z tego powodu materialem najczesciej stoso¬ wanym na plyty kserograficzne jest selen. .Szklisty selen, posiada jednak .powazne wady, które wynikaja z pewnego ograniczenia jego reak¬ cji widmowej na promieniowanie ultrafioletowe, niebieskie i zielone zakresy widma. Przygotowanie plyt ze szklistego selenu wymaga ponadto koszto¬ wnych i zlozonych zabiegów takich jak odparowy¬ wanie w prózni. Warstwy szklistego selenu sa rów¬ niez tylko metatrwale, albowiem w temperatu¬ rach, które tylko nieznacznie przekraczaja tempe¬ ratury wystepujace w konwencjonalnych powiela¬ czach kserograficznych, ulegaja one laltwo rekry¬ stalizacji, przybierajac postacie krystalicznie nie¬ czynne. Plyty selenowe wymagaja ponadto stoso¬ wania oddzielnej przewodzacej warstwy podloza, najkorzystniej z dodatkowa warstwa przegradzaja¬ ca, osadzona na podlozu przed nalozeniem seleno- 80390s wego foto|przewodnika. Podejmowano ostatnio sze¬ reg wysilków, zmierzajacych do zastosowania w plytach kserograficznych izolacyjnych materialów fotoprzewodzacych innych niz selen.Na fotoprzewodzace warstwy izolacyjne, propono¬ wano rózne dwuskladnikowe materialy plyt ksero¬ graficznych. Materialy te skladaja sie z fotoprze- wodzacego materialu izolacyjnego w postaci cza¬ stek, które sa rozproszone w izolujacym mafteria- le wiazacym. Gdy czastki skladaja sie z materialu fotoprzewodzacego obejimujacego nieorganiczne skladniki krystaliczne, które zawieraja jony meta¬ liczne, uzyskuje sie zadowalajaca czulosc fotogra¬ ficzna i czulosc widmowa. Plyity te, nawet wów¬ czas gdy zostana uczulone na barwniki, wykazuja na ogól znacznie mniejsze czulosci niz selen. Plyty takie uwazane sa na ogól za nienadajaoe sie do po¬ nownego uzycia albowiem wymagaja dla uzyska¬ nia dostatecznej czulosci stosowania tak duzych domieszek fotoprzewodzacych pigmentów, ze trud¬ no jest uzyskac gladkie powierzchnie, które nada¬ ja sie do efektywnego przenoszenia pigmentu i pózniejszego ich oczyszczania przed ponownym uzyciem.Dodatkowa cecha ujemna wystepujaca przy sto¬ sowaniu plyt w których stosuje sie nieorganiczny srodek wiazacy pigment, jest to, ze mo'zna je na¬ ladowac za pomoca urzadzen do wyladowan ulo- towych, nadajac im napiecie ujemne, lecz nie do¬ datnie. Ta wlasciwosc sprawia, iz sa one niepoza¬ dane w zastosowaniu gospodarczym, albowiem ujemne wyladowania ulotowe wytwarzaja znacz¬ nie wiecej ozonu niz dodatnie wyladowania ulo¬ towe,. oraz daja sie one na ogól trudniej regulo¬ wac.Ponadto wykazano, ze do wytwarzania fotoprze¬ wodzacych warstw izolacyjnych, nadajacych sie do uzycia w plytach zawierajacych srodki wiazace, mozna stosowac organiczne barwniki fotoprzewo- dzace oraz szeroki zestaw zwiazków wielopierscie¬ niowych Wraz z odpowiednimi zywicami. Tego ro¬ dzaju plyty odznaczaja sie na ogól niedostatecz¬ nym poziomem czulosci w stosunku do wymagan wystepujacych przy zastosowaniu w konwencjonal¬ nych powielaczach kserograficznych. Plytom tym brak jest ponadto odpornosci na scieranie i sta¬ bilnosci dzialania, szczególnie przy pracy w pod¬ wyzszonych temperaturach.W innych typach plyt stosowane sa do wytwo¬ rzenia fotoprzewodzacych warstw izolacyjnych na¬ turalnie fotoprzewodzace polimery, uzywane czesto w polaczeniu z uczulajacymi barwnikami lub kwa¬ sami Lewis'a. Te polimerowe organiczne plyty fo- toprzewodzace posiadaja zwykle naturalna wade, polegajaca na wysokim koszcie wytwarzania, kru¬ chosci oraz slabej przyczepnosci do podlozy pod¬ trzymujacych. Szereg sposród tych fotoprzewodza¬ cych warstw izolacyjnych wykazuje sklonnosci do odksztalcen pod wplyweim ciepla, wskutek czego sa one niepozadane w automatycznych urzadzeniach kserograficznych, które czesto zawieraja silne lam¬ py i urzadzenia cieplne do topienia, które maja tendencje do nagrzewania plyty kserograficznej.Isltnieje od dluzszego czasu zapotrzebowanie na ulepszone fotoprzewodzace materialy izolacyjne, z 80390 4 których mozna by wytwarzac trwale, czule i na¬ dajace sie do ponownego uzycia plyty kserogra¬ ficzne.Celem wynalazku jest stworzenie plyty kserogra- 5 ficznej pozbawionej wyzej wymienionych wad, po¬ siadajacej czulosc rozciagajaca sie na znacznych obszarach widzialnego widma.Innym celem wynalazku jest stworzenie nadaja¬ cej sie do ponownego uzycia plyty kserograficznej, io posiadajacej znaczna czulosc oraz znaczna trwa¬ losc cieplna w porównaniu ze znanymi plytami na¬ dajacymi sie do ponownego uzycia. Jeszcze innym celem wynalazku jest stworzenie fotaprzewodzace- go materialu izolacyjnego, nadajacego sie do uzy- 15 cia w plytach kserograficznych zarówno w ukla¬ dach, w których stosuje sie pojedyncze, jak i wie¬ lokrotne uzycie.Jeszcze innym celem wynalazku jest stworzenie fotoprzewodzacej warstwy izolacyjnej, plyty ksero- 20 graficznej, która bylaby w zasadzie odporna na scieranie i ulegala znieksztalceniu dopiero w sto¬ sunkowo wysokich temperaturach. Jeszcze innym celem wynalazku jest stworzenie plyty kserogra¬ ficznej posiadajacej szeroki zakres korzystnych 25 wlasnosci fizycznych.Cele te sa osiagniete wedlug wynalazku w ten sposób, ze plyta kserograficzna, posiada warstwe fotoprzewodzaca, skladajaca sie z pigmentu chino- akrydyny w wiazaniu, z zywicy, przy czym wy- 30 mieniony pigment chinoakrydynowy ma budowe wedlug wzoru 1, gdzie R = CH3, C2H5, OCH3, OC2H5 lub halogen, a Rx jest grupa aromatyczna, alicykliczna lub alifatyczna.Opisana wyzej fotoprzewodzaca warstwe chino- 35 akrydynowo-zywicowa naklada sie na dowolne, od¬ powiednie podloze lub odlewa sie jako z niej blo¬ ne samonoisna. Plyte mozna powlekac z wierzchu dowolnym odpowiednim materialem. Fotoprzewo¬ dzaca warstwa chinoakrydynowo-zywicowa moze 40 byc uzyta dla tworzenia ukladów wielowarstwo¬ wych i umieszczona w sasiedztwie warstwy dielek¬ trycznej podobnej do przedstawionej przez Golo- wina i innych w publikacji zatytulowanej „Nowy proces kserograficzny przeprowadzony za pomoca 45 polaczonych warstw elektrycznych" Wyklady Aka¬ demii Nauk ZSRR, tom 129 nr 5 strony 1008—4/011.Listopad—grudzien 1959.Stwierdzono, ze zawartosc procentowa chino- akrydyn nalezacych do opisanej wyzej grupy, po- 50 trzebna do wytwarzania odpowiedniej czulosci ply¬ ty, jest bardzo mala. Z tego powodu mechaniczne wlasnosci warstw fotoprzewodzacych sa wyznaczo¬ ne w zasadzie przez wlasnosci substancji wiazacej.Przy zastosowaniu niniejszego wynalazku mozna 55 stosowac bardzo róznorodne zywicowe substancje wiazace poczynajac od miekkich tenmoplastyków do twardych emalii o budowie usieciowanej. Moz¬ na wiec, w celu spelnienia konkretnych wyma¬ gan, zmieniac w szerokich granicach wlasnosci fi- 60 zyczne finalnych warstw fotoprzewodzacych dobie¬ rajac odpowiednie zywice. Z tego punktu widzenia wymienione warstwy fotoprzewodzace sa doskonal¬ sze od wielu znanych dotychczas zawiesin nieorga¬ nicznych pigmentów w substancji wiazacej, które 65 wymagaja stosunkowo duzych udzialów procento-80390 £ « 6 wych pigmentów nieorganicznych taJk, ze uzyty pigment nieorganiczny w zasadzie okresla wlasnosci fizyczne finalnej warstwy fotoprzewodzacej. Wobec tego, ze potrzebny udzial procentowy pigmentu chinoakrydynowego jest stosunkowo niewielki, fo- toprzewodzaca plyta posiada bardzo twarda i bar¬ dzo gladka powierzchnie. W ten sposób zostaja usuniete liczne sposród wad znanych plyt zlozo¬ nych z pigmentów i substancji wiazacej, które na skutek znacznej zawartosci pigmentu' posiadaly bardzo szorstka i scierajaca powierzchnie.Jakkolwiek do sporzadzania fotoprzewodzacej warstwy mozna uzywac kazdej chinoakrydyny na¬ lezacej do nowej grupy tych zwiazków, to jednak stosuje sie korzystnie chinoakrydyny, w których R jest dobrane z grupy skladajacej sie z CH3, C2H5, oraz ich mieszanin a Rx = NH — \ / a^0- wiem materialy te odznaczaja sie duza czuloscia fotograficzna i .wytwarzaja najlepsze obrazy.Sposród opisanych wyzej nowych chinoakrydyn mozna stosowac róznorodne odmiany oddzielnie lub w polaczeniu z innymi zestawami w kazdej odpowiedniej mieszaninie, jako dimery, trimery, oligomery, polimery, kopolimery, lub ich miesza¬ niny.Nalezace do nowej grupy chinoakrydyny, przy¬ gotowuje sie przez zastosowanie sposobu, który obejmuje mieszanie zwiazku o wzorze 2, w któ¬ rym R = CH3, C2H5, OOH3, OC2H5 lub halogen z SOCI2 w dwumetylo-formamidzie, a nastepnie z 2R1 NH2, gdzie R1 = amina aromatyczna, alicy- kliczna lub alifatyczna.Do sporzadzania fotoprzewodzacej warstwy we¬ dlug wynalazku mozna stosowac dowolna organicz¬ na zywice wiazaca w polaczeniu z nowa grupa chinoakrydyn. Aby zywica stosowana wedlug wy¬ nalazku byla przydatna, powinna ona posiadac opornosc wlasciwa wiejksza niz 1010, korzystnie wieksza niz 1012 omów na centymetr. Typowymi zywicami sa tenmoplastyki wlaczajac polimery olefinów, takich jak polietylen i polipropylen; po¬ limery pochodne od dienów, takie jak dieny poli- butylowe, polizobutylen i policMoropren; winyl i polimery winidylenu, takie jak polistyren, kopo¬ limery styrenoakronitrylowe, polimery trójskladni¬ kowe akryilonitrylowe -butadienowe-styrenowe, po- limetakrylanimetylu, poliakryleny, poliakryle, poli- akrylonitryl, polioctan winylu, polialkohol winylo¬ wy, polichlorek winylu, polikorbazol winylowy; etery poliwinylowe i ketony poliwinylowe; fluoro- pochodne polimery weglowodorów, takie jak poli- Joztero-fluorodtylen, polifluorek winidylenu; hete- rolancuchowe termolpastyki, takie jak poliamidy, poliestry, poliuretany, polipeptydy, kazeina, poli- glikole, polisiarczki i poliweglany; oraz polimery celulozowe takie jak regenerowana celuloza, octan celulozy i azoitan celulozy. Do substancji tych na¬ leza tez zywice termoutwardzalne wlacznie z zywi¬ cami 'fenolowymi; zywice aminowe, takie jak zy¬ wice mocznikowo-formaldehydowe i zywice mela- minowo-formaldehydowe; nienasycone zywice poli¬ estrowe; zywice epoksydowe polimery silikonowe; zywice alkidowe i zywice furanowe. Mozna stoso¬ wac rózne kopolimery i mieszaniny wyzej wymie¬ nionych zywic tam gdzie istnieje mozliwosc ich stosowania. Jezeli jest to pozadane mozna obok wyzej wymienionych zywic stosowac inny odpo¬ wiedni material.Zestawy chinoakrydynowe wedlug wynalazku mozna wprowadzac do rozpuszczonej lub roztopio¬ nej zywicy wiazacej stosujac dowolny 0'dpoWiedni sposób, taki jak silne mieszanie scinajace, najko¬ rzystniej z równoczesnym przemialem. Typowe spo¬ soby obejmuja przemial kulowy, przemial walco¬ wy, przemial w mieszarkach, mieszanie ultradzwie¬ kami, sporzadzanie mieszanki przy duzych predkos¬ ciach i dowolne polaczenia tych sposobów. Mozna stosowac kazdy dowolny stosunek ilosci pigmentu do ilosci zywicy. Przy przeliczeniu wagowym sto¬ sunku ilosci, chinoakrydyna—sucha zywica rozcia¬ ga sie uzyteczny zakres mieszaniny od okolo 1 : 1 do okolo 1 : 40. Najlepsze wyniki uzyskuje sie, gdy stosunek ten wynosi od okolo 1 :4 do okolo 1:10.Optymalne wyniki uzyskuje sie przy wielkosci stosunku 1: 4. Jakkolwiek najwiejksza swiatloczu- losc uzyskuje sie przy istnieniu stosunku ilosci barwnika do ilosci zywicy wynoszacego '1:1 do 1 : 4, to jednak przy wyzszych koncentracjach pig¬ mentu zwieksza sie przewodnosc wlasciwa w ciem¬ nosci. Optymalne zrównowazenie miedzy czuloscia i rozpadem w ciemnosci wystepuje przy stosunku wynoszacym okolo 1 : 4. Nalezy zwrócic uwage, ze proporcje fotoprzewodnika uzywane w uprzywile¬ jowanym zakresie, sa znacznie mniejsze niz stoso¬ wane przy wytwarzaniu znanych fotoprzewodza- cych plyt z zastosowaniem nieorganicznych srod¬ ków wiazacych. Przy stosowaniu znanych plyt uzyskuje sie zadowalajaca dla kserografii czulosc jedynie wówczas, gdy stosunek ilosci pigmentu do ilosci zywicy wynosi przynajmniej 2: li.Zastosowanie mniejszych stosunków ilosci pig¬ mentu do ilosci zywicy stanowi bardzo pozadana ceche dodatnia w porównaniu z poprzednim spo¬ sobem, albowiem potrzebna jest mniejsza ilosc sto¬ sunkowo drogiego skladnika, jakim jest pigment.Z uwagi "na duza zawartosc substancji wiazacej mozna równiez uzyskac bardzo gladkie, przyczepne powloki. Maly udzial dodawanego materialu, spra¬ wia, ze material ten wplywa nieznacznie na wlas¬ nosci fizyczne zywic wiazacych. Wobec tego mozna dobierac zywice, które posiadaja pozadany zakres zmiekczania, gladkosc, twardosc, ciagliwosc, odpor¬ nosc na rozpuszczalniki, lub rozpuszczalnosc i te¬ mu podobne wlasnosci, majac pewnosc, ze pig¬ ment nie wplynie w jakims powaztnieijszyim - stop¬ niu na wymienione wlasnosci.Jezeli zamierza sie nalozyc blone chinoakrydy- nowo-zywicowa na podloze, mozna stosowac róz¬ norodne materialy podloza. Odpowiednimi do tego celu materialami sa aluminium, stal, mosiadz, szklo metalizowane, lub powleozofne tlenkiem cyn¬ ku, póljprzewodzace plastyki i zywice, pa(pier i do¬ wolny inny material, którego przewodnosc wlasci¬ wa skrosna, w czasie pracy wynosi ponad 108 Q cm lub powierzchniowa przewodnosc wlasciwa - jest wieksza niz 108 Q/cm2. Zawiesine roztworu pigmentu i zywicy lub stopiona mase pigmentu i zywicy naklada sie na przewodzace podloza przy stosowaniu dowolnego sposród znanych ' sposobów 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 607 80390 8 malowania lufo powlekania. Do sposobów tych na¬ leza natryskiwanie, powlekanie w strumieniu, po¬ wlekanie szczelinowe, powlekanie elektryczne, scia¬ ganie pretem „Mayer", powlekanie zanurzeniowe, powlekanie walkami przeciwbieznymi i inne. Na¬ tryskiwanie w polu elektrycznym jest korzystne z uwagi na uzyskiwanie gladszej powierzchni, na¬ tomiast powlekanie zanurzeniowe jest korzystne z uwagi na wygodniejsza prace laboratoryjna., Zabiegi zestalania, suszenia i/lub utwardzania stosowane przy wytwarzaniu tych plyt sa na ogól podobne do zabiegów zalecanych dla blon, w któ¬ rych uzyte sa okreslone materialy wiazace sto¬ sowane dla innych zastosowan malarskich. Na przyklad plyty chinoakryidynowo-epoksydowe moz¬ na utwardzac dodajac czynnik powodujacy budo¬ we usieciowana oraz suszac w podwyzszonej tem¬ peraturze wedlug takiego samego w przyblizeniu programu, jaki stosuje sie dla zastosowan malar¬ skich do innych wypalanych emalii wytwarzanych z tych samych zywic i podobnych pigmentów.Bardzo pozadana cecha zestawów chinoakrydy- nowyich jest to, ze sa one odporne na rozklad che¬ miczny w temperaturach uzywanych normalnie dla emalii wypalanych na powierzchni i wobec tego mozna wymienione zestawy zaliiczyc do bardzo twardych lsniacych powlok fotoprzewodzacych, któ¬ re posiadaja powierzchnie podobne do uzyskiwa¬ nych z zywic, w urzadzeniach samochodowych lub kuchennych.Grubosc blon zlozonych z chinoakrydyny i srod¬ ka wiiajzacego moze w zaleznosci od wymaganej charakterystyki zmieniac sie od okolo 1 do okplo 100 mikronów. Na przyklad, samonosnych blon nie mozna w dogodny sposób wytwarzac o grubosciach mniejszych niz okolo 10 mikronów, a najlatwiej mozna nimi manipulowac i stosowac je, w zakresie grubosci 15 do 75 mikronów. Z drugiej strony wy- twartea sie korzystnie powloki o grubosciach w za¬ kresie 5 do 30 mikronów, Przy stosowaniu niektó¬ rych zestawów i dla niektórych celów pozadanych jest zastosowanie wierzchniej powloki ochronnej.Grubosc tej wierzchniej powloki nie powinna nor¬ malnie przekraczac grubosci powloki fotoprzewo- dzacej, a najkorzystniej nie powinna ona posiadac grubosci wiekszej niz 1/4 grubosci wymieniionej po¬ wloki. Mozna stosowac kazda odpowiednia powlo¬ ke wierzchnia, na przyklad lakier nitrocelulozowy.Podane dalej przyklady stanowia dalsze okresle¬ nie róznorodnych uprzywilejowanych rozwiazan.Czesci i procenty podane sa jako wagowe, chyba, ze powiedziano inaczej.Przyklad 1. Plyta kserograficzna zostaje przygotowana przez zmieszanie na poczatku okolo 6 czesci „Pliolite S5B" kopolimerowej zywicy sty- renowo-butadienowej, mozliwej do nabycia w fir¬ mie „Goodyear Tire and Rubber Company", z oko¬ lo 43 czesciami ksylenu i okolo 1 czescia pigmen¬ tu chinoakrydynowego o wzorze chemicznym 3.Podana mieszanina zostaje umieszczona w sloju szklanym, który zawiera pewna ilosc stalowych kulek o srednicy okolo 3,42 mm i mielona w cia¬ gu 1/2 godziny na * mlynie „Red Devil Qulickie Mili" (Laboratoria Gardiner'a), w celu uzyskania jednorodnego rozproszenia. Po zmieleniu substan¬ cja zostaje naniesiona na arkusz folii aluminiowej o grubosci okolo 0,127 mm stosujac druciany dra¬ zek pociagowy Nr 36. Powloka poddana zostaje na¬ stepnie suszeniu w ciagu . okolo dwóch godzin 5 w wymuszonym obiegu powietrza w temperaturze IGO^C.Plyta zostaje nastepnie naladowana do poten¬ cjalu okolo + 650 V, za pomoca urzadzenlia do wyladowan ulotowych, jakie opisano na przyklad 10 w patencie USA 2 777 957. Naladowana plyta zo¬ staje nastepnie naswietlona stykowo, w ciagu 15 sekund, przez pozytyw filmowy, za pomoca lam¬ py wolframowej, posiadajacej temperature 3400°K.Poziom natezenia oswietlenia w plaszczyznie na- 15 swietlenia wynosi okolo 57 stoposwiec. Utajony obraz elektrostatyczny utworzony na plycie zostaje nastepnie wywolany przez kaskadowe posypywa¬ nie plyty elektroskopowymi czastkami wywoluja¬ cymi, wedlug sposobu opisanego na przyklad w pa- 20 tencie USA 2 618 551. Wywolany na plycie obraz proszkowy zostaje przeniesiony elektrostatycznie na arkusz podloza i stopiony na mim przez nagrza¬ nie. Obraz na arkuszu podloza ma dobra jakosc i odpowiada oryginalowi. 25 Przyklad 2. Plyta kserograficzna zostaje przygotowana przez zmieszanie na poczatku 2 czesci „silicone SB-82", metylowo-fenylawej zywi¬ cy silikonowej, która mozna nabyc w firmie „Ge¬ neral Electric Company", z okolo 40 czesciami ksy- 30 lenu i z okolo 1 czescia pigmentu chinoakrydyno¬ wego, o wzorze 4.Plyta ta zostaje naladowana do poczatkowego potencjalu, okolo + 290 V. Uzyskany obraz ma za¬ dowalajaca jakosc. 35 Przyklady 3—4. Zostaja przygotowane dwie plyty kserograficzne przez zmieszanie okolo 1 czes¬ ci winiHitu „VYNS" bedacego kopolimerem chlor¬ ku winylu i octanu winylu, który mozna nabyc w firmie „Umion Cerbide Corporation" z okolo 10 40 czesciami ketonu etylowego i okolo 1 czescia pig¬ mentu chinoakrydynowego o wzorze 5.Plyta zostaje powleczona, utwardzona, naladowa¬ na i wywolana, jak w przykladzie 1, lecz w przy¬ kladzie 3 nastepuje naladowanie plyty do poten- 45 cjalu okolo + 480 V a w przykladzie 4 nastepuje naladowanie plyty do potencjalu —835 V. Uzy¬ skany obraz ma doskonala jasnosc.Przyklady 5—6. Zostaja przygotowane dwie plyty kserograficzne przez zmieszanie najpierw 50 okolo 1 czesci wimilitu „VYNS", z okolo 10 czes¬ ciami ketonu etylowego i z okolo 1 czescia pig¬ mentu chinoakrydynowego o wzorze 6.Plyta zostaje powleczona, utwardzona, naladowa¬ na i wywolana jak w powyzszym przykladzie 1. 55 Jednak w tym wypadku plyta w przykladzie 5 na¬ ladowana jest do potencjalu +530 V, a w przy¬ kladzie 6 do potencjalu —630 V. W wyniku uzy¬ skuje sie dobre obrazy.Przyklady 7—8. Zostaje przygotowana ply- 60 ta kserograficzna przez zmieszanie najpierw okolo 1 czesci winilitu „VYNS" z okolo 10 czesciami ke^ tonu etylowego i z okolo 1 czescia pigmentu chi¬ noakrydynowego o wzorze 7.Plyta zostaje powleczona, utwardzona, naladowa- 65 na i wywolana jak w przykladzie 1. Jednakze80390 9 10 w tym wypadku plyta w przykladzie 7 jest na¬ ladowana do potencjalu + 410 V, a w przykladzie 8 do potencjalu —605 V. Za pomoca tych plyt wytworzone zostaja doskonale obrazy.Przyklad 9—10. Zostaja przygotowane dwie plyty kserograficzne przez zmieszanie najpierw okolo 1)00 czesci 10-cio procentowego roztworu karbazolu poliwinylowego w benzenie, z okolo 5 czesciami cykloheksanom! i z okolo 1 czescia pig¬ mentu chinoakrydynowego wedlug przykladu 1.Plyty te zostaja powleczone, utwardzone, nalado¬ wane, naswietlone i wywolane, jak w przykladzie 1. Jednakze w tym wypadku plyta w przykladzie 9 jest naladowana do potencjalu okolo + 1J80 V, a plyta w przykladzie 10 do potencjalu okolo — 225 V. Wytwarzane sa obrazy dobrej jakosci.Przyklady 11—(12. Zostaja przygotowane ply¬ ty kserograficzne przez zmieszanie najpierw okolo 100 czesci 10 procentowego roztworu karbazolu po¬ liwinylowego w benzenie, z okolo 5 czesciami cy- kloheksanonu i z okolo 1 .czescia pigmentu chino¬ akrydynowego podanego w przykladzie 2. Plyty zostaja powleczone, utwardzone, naladowane, na¬ swietlone i wywolane jak w przykladzie 1. Jed¬ nakze w tym wypadku plyta w przykladzie 11 jest naladowana do potencjalu okolo +150 V, a w przy¬ kladzie 12 do potencjalu wynoszacego Okolo —180 V. Uzyskuje sie obrazy dobrej jakosci.Jakkolwiek w powyzszych przykladach podano konkretne skladniki i proporcje dotyczace ich uzy¬ cia z nowa grupa pigmentów chinoakrydynowych przy sporzadzaniu plyt kserograficznych, to jednak z podobnym skutkiem mozna zastosowac inne, ta¬ kie jak wyzej wyszczególniono, odpowiednie ma¬ terialy. Ponadto mozna do zestawów pigmentów chinoakrydynowych, lub do zestawów pigment—zy¬ wica, dodawac inne materialy w celu pobudzania, polepszania lub modyfikowania w inny sposób ich wlasnosci. Zestawy pigmentów i/lub zestawy pig¬ mentu—zywica odpowiadajace niniejszemu wyna¬ lazkowi moga zostac uczulone na barwe lub mozna je mieszac lub laczyc w inny sposób z innymi fo- toprzewodnikami, zarówno organicznymi jak i nie¬ organicznymi. PL PL PL
Claims (14)
1. Zastrzezenia patentowe 1. Plyta kserograficzna, znamienna tym, ze skla¬ da sie z fotoprzewodzacej warstwy, która zawiera pigment chinoakrydynowy oraz material wiazacy, przy czym wymieniony pigment chinoakrydyno¬ wy ma wzór chemiczny 1, gdzie R oznacza rod¬ nik — CH3, — C2H5, — aCH3, — OC^H5, halogen i ich mieszaniny a R1 oznacza rodnik aromatyczny, heterocykliczny, alicykliczny, alifatyczny i ich mie¬ szaniny.
2. Plyta wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze ma¬ terial wiazacy zawiera zywice organiczna.
3. Plyta- wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze zawiera pigment, w którym R oznacza rodnik — CH3, —C2H5 i ich mieszaniny. ¦¦¦-¦¦
4. Plyta wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze za¬ wiera pigment, w którym R1 oznacza rodnik NH /q\. N \—/
5. Plyta wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze warstwa fotoprzewodzaca jest warstwa samonosna.
6. Plyta wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze warstwa fotoprzewodzaca jest umieszczona na pod¬ lozu nosnym.
7. Plyta wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze stosunek (ilosci pigmentu chinoakrydynowego do ilosci, materialu wiazacego miesci sie w granicach od okolo 1:1 do okolo 1:40,
8. Plyta wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze sto¬ sunek ilosci pigmentu chinoakrydynowego do ilosci materialu wiazacego miesci sie w granicach od okolo 1: 4 do okolo 1 : 10.
9. Plyta wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze sto¬ sunek ilosci pigmentu chinoakrydynowego do ilosci materialu wiazacego wynosi okolo 1 :4.
10. Plyta wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze grubosc wymienionej warstwy fotoprzewodzacej jest w granicach od okolo 1 mikrona do olcolo 10!0 mikronów.
11. Plyta wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze grubosc wymienionej warstwy fotoprzewodzacej jest w granicach od okolo 5 mikronów do okolo 30 mikronów.
12. Plyta wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze warstwa fotoprzewodzaca jest z wierzchu powle¬ czona.
13. Plyta wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze grubosc wymienionej warstwy fotoprzewodzacej jest" wiejksza niz okolo 10 mikronów.
14. Plyta wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze grubosc wymienionej warstwy fotojpnzewodzacej lezy w granicach od okolo 15 mikronów do okolo 75 mikronów. 10 15 20 25 30 35 4080390 0 II O —CNHCH2 XC-NH-R 0 CH2NHC-<0) R 0^^ R'-NH-C Wzór 1 9 R O )—CNHCH X0,H 2 --/^N 0 CH2NHC C02H' mór 280390 Wzór 3 0 II CH.NHC NH-C II O O / Wzór 4 PL PL PL
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US75472668A | 1968-08-22 | 1968-08-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL80390B1 true PL80390B1 (pl) | 1975-08-30 |
Family
ID=25036048
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL1969135479A PL80390B1 (pl) | 1968-08-22 | 1969-08-21 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3667943A (pl) |
| BE (1) | BE737810A (pl) |
| BR (1) | BR6909996D0 (pl) |
| CH (1) | CH519183A (pl) |
| DE (1) | DE1942700A1 (pl) |
| ES (1) | ES370720A1 (pl) |
| FR (1) | FR2016183A1 (pl) |
| GB (1) | GB1278702A (pl) |
| NL (1) | NL6912733A (pl) |
| PL (1) | PL80390B1 (pl) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH572233A5 (pl) * | 1971-12-28 | 1976-01-30 | Ciba Geigy Ag | |
| DE2237679C3 (de) * | 1972-07-31 | 1981-10-15 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial |
| IT1051922B (it) * | 1975-12-23 | 1981-05-20 | Milant Effe Elle Snc | Parete mobile ad ante scorrevoli e pieghevoli |
| CH655762A5 (en) * | 1981-11-06 | 1986-05-15 | Karl Haab | Folding sliding part for external and internal walls of buildings |
| US4760004A (en) * | 1986-11-10 | 1988-07-26 | Ciba-Geigy Corporation | Thioquinacridones and isothioquinacridones, preparation and use thereof |
| US4952471A (en) * | 1988-07-01 | 1990-08-28 | Xerox Corporation | Quinacridone photoconductor imaging members |
| DE19505839A1 (de) * | 1995-02-21 | 1996-08-22 | Losch Wandsysteme Gmbh | Abschirm- oder Schutzvorrichtung für Wandöffnungen |
-
1968
- 1968-08-22 US US754726A patent/US3667943A/en not_active Expired - Lifetime
-
1969
- 1969-06-20 BR BR209996/69A patent/BR6909996D0/pt unknown
- 1969-08-20 GB GB41586/69A patent/GB1278702A/en not_active Expired
- 1969-08-21 BE BE737810D patent/BE737810A/xx unknown
- 1969-08-21 CH CH1269269A patent/CH519183A/de not_active IP Right Cessation
- 1969-08-21 DE DE19691942700 patent/DE1942700A1/de active Pending
- 1969-08-21 FR FR6928700A patent/FR2016183A1/fr not_active Withdrawn
- 1969-08-21 PL PL1969135479A patent/PL80390B1/pl unknown
- 1969-08-21 ES ES370720A patent/ES370720A1/es not_active Expired
- 1969-08-21 NL NL6912733A patent/NL6912733A/xx unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BE737810A (pl) | 1970-02-23 |
| NL6912733A (pl) | 1970-02-24 |
| DE1942700A1 (de) | 1970-02-26 |
| BR6909996D0 (pt) | 1973-01-23 |
| CH519183A (de) | 1972-02-15 |
| ES370720A1 (es) | 1972-01-01 |
| FR2016183A1 (pl) | 1970-05-08 |
| GB1278702A (en) | 1972-06-21 |
| US3667943A (en) | 1972-06-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2735785A (en) | Process of electrostatic printing | |
| US2959481A (en) | Electrophotographic recording member and process of producing same | |
| US3252794A (en) | Photoconductive layers and process for electrophotography | |
| US2659670A (en) | Method of developing electrostatic images | |
| US2990279A (en) | Electrostatic printing | |
| DE1797536A1 (de) | Verwendung von organischen substanzen als photohalbleiterschicht in einem elektrophotographischen aufzeichnungsmaterial | |
| US3434832A (en) | Xerographic plate comprising a protective coating of a resin mixed with a metallic stearate | |
| US3640710A (en) | Phthalocyanine photoconductive elements containing multiple binder materials | |
| PL80390B1 (pl) | ||
| US3667944A (en) | Quinacridone pigments in electrophotographic recording | |
| US3482970A (en) | Electrophotographic plate and process using naphthylazo compounds as the primary photoconductor | |
| US2963365A (en) | Electrostatic printing | |
| US3832226A (en) | Method for dry electrostatic coating | |
| US3725061A (en) | Method of producing and using a photoconductive recording medium | |
| US3667945A (en) | Quinacridone pigments in electrophotographic imaging | |
| US3460963A (en) | Process for the manufacture of an electrophotographic material | |
| US3241958A (en) | Electrophotographic recording members and processes of preparing same | |
| US2979402A (en) | Electrostatic printing | |
| US4281050A (en) | Migration imaging system | |
| CA1043183A (en) | Procedure for making a reusable photoconducting charge image carrier and charge image carriers prepared by this method | |
| US3622368A (en) | Method for developing electrostatic latent images by utilizing coupling reaction | |
| US3615409A (en) | Electrophotographic plate and process employing a photoconductive pigment of general formula r2n4s3 | |
| PL81184B1 (pl) | ||
| US3174856A (en) | Electrolytic recording sheets | |
| GB2102010A (en) | Photoconductive composition containing polymers, and electrophotographic materials containing the composition |