PL65181B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL65181B1 PL65181B1 PL127858A PL12785868A PL65181B1 PL 65181 B1 PL65181 B1 PL 65181B1 PL 127858 A PL127858 A PL 127858A PL 12785868 A PL12785868 A PL 12785868A PL 65181 B1 PL65181 B1 PL 65181B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- iodine
- iodide
- purity
- alkyl
- methyl iodide
- Prior art date
Links
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000011630 iodine Substances 0.000 claims description 21
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 150000001351 alkyl iodides Chemical class 0.000 claims description 8
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 4
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- DAIMKIDDOJTMOQ-UHFFFAOYSA-N [Mg].[Ni].[Cu] Chemical compound [Mg].[Ni].[Cu] DAIMKIDDOJTMOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims 1
- 150000002497 iodine compounds Chemical class 0.000 claims 1
- MVFCKEFYUDZOCX-UHFFFAOYSA-N iron(2+);dinitrate Chemical class [Fe+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O MVFCKEFYUDZOCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 7
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- HVTICUPFWKNHNG-UHFFFAOYSA-N iodoethane Chemical compound CCI HVTICUPFWKNHNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 2
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNXCXJWVOJMDPN-UHFFFAOYSA-N CCOC(C)=O.I Chemical compound CCOC(C)=O.I HNXCXJWVOJMDPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 aluminum hydrogen peroxide Chemical compound 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMKOJHQHASLBPH-UHFFFAOYSA-N isopropyl iodide Chemical compound CC(C)I FMKOJHQHASLBPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001457 metallic cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Description
Pierwszenstwo; Opublikowano: 25.Y.1972 65181 KI. 12i, 7/14 MKP COlb 7/14 ICZYTP Wspóltwórcy wynalazku: Aleksander Szczodry, Leon Rzepka, Jan Szy- manis Wlasciciel patentu: Przedsiebiorstwo Przemyslówo-Handlowe „Polskie Odczynniki Chemiczne", Gliwice (Polska) Sposób wytwarzania jodu o wysokiej czystosci i Jod jako substancja chemicznie aktywna zawiera zazwyczaj liczne zanieczyszczenia, które przez de¬ stylacje lub sublimacje nie sa calkowicie usuwane.Dla licznych celów wymagane jest stosowanie jodu o wysokiej czystosci. Dla potrzeb farmaceutycznych wymagane jest, by pozostalosc nielotna nie byla wyzsza niz 0,05°/o, podczas gdy dla potrzeb klasycz¬ nej analizy chemicznej zawartosc pozostalosci nie¬ lotnej nie powinna byc wieksza niz 0,03—0,01%.Przyjety sposób sumarycznego okreslania ilosci zanieczyszczen jest malo precyzyjny, poniewaz w jodzie wystepuja lotne zanieczyszczenia. Mimo ze jod „czysty do analizy" charakteryzuje sie stosun¬ kowo wysokim stopniem czystosci, nie jest on przy¬ datny do licznych celów nowoczesnej techniki, np. pólprzewodnikowej,' fizyki ciala stalego, analizy spektralnej itp.Znane sa liczne sposoby wytwarzania jodu o wy¬ sokiej czystosci, w których po procesie oczyszczania przez destylacje lub sublimacje stosuje sie oczysz¬ czanie za pomoca czynników chemicznie aktyw¬ nych. Sposoby te prowadza do otrzymania produktu odpowiadajacego wymaganiom farmaceutycznym lub wymaganiom klasycznej analizy chemicznej.Otrzymany tymi sposobami jod zawiera na ogól jeszcze okolo: 10—30/o zelaza, 10—* °/o manganu, 10-^ °/o magnezu, 10—5 °/o olowiu, 10—5 °/o niklu, 10—5 °/o ty¬ tanu, 10—4 °/o glinu, 10—4 °/o wapnia, 10—5 °/o miedzi, 10—50/o kobaltu oraz inne zanieczyszczenia.Sposób wedlug wynalazku pozwala na otrzymy- 10 15 25 30 wanie jodu o wysokiej czystosci przez wykorzy¬ stanie róznic reaktywnosci chemicznej jodu i jego zanieczyszczen.Sposobem wedlug wynalazku jod przeprowadza sie w jodek alkilowy zawierajacy w rodniku alki¬ lowym 1^5 atomów wegla, zwlaszcza w jodek me¬ tylu, który nastepnie destyluje sie i rozklada przez dzialanie czynnika utleniajacego o wysokiej czy¬ stosci. Oczyszczanie od zanieczyszczen, zwlaszcza metalicznych nastepuje wskutek tego, ze kationy metaliczne nie tworza lotnych zwiazków alkilowych i podczas destylacji, zwlaszcza w obecnosci wolnego jodiu, pozostaja w niedogonie. Najkorzystniejszym zwiazkiem posrednim przy rafinacji jodu jest jo¬ dek metylu, poniewaz wrze w niskiej temperaturze.Sposób wytwarzania jodku alkilowego nie posia¬ da istotnego znaczenia dla sposobu otrzymywania jodu wedlug wynalazku, natomiast jest istotne dla sposobu oczyszczania, by podczas rektyfikacji jod¬ ku alkilowego w naczyniu destylacyjnym znajdo¬ wal sie wolny jod, który gwarantuje postac katio¬ nowa wystepujacych w jodku alkilowym zanie¬ czyszczen metalicznych. Destylacje jodków alkilo¬ wych przeprowadza sie pod normalnym cisnieniem w nastepujacych temperaturach: 41—43°C jodek metylu, 71—72°C jodek etylu, 89—90°C jodek izo¬ propylu.Rozklad oczyszczonych jodków alkilowych z wy¬ dzieleniem jodu przeprowadza sie dzialajac na nie w temperaturze otoczenia wysoce czystymi utlenia- 6518165181 czarni niemetalicznymi np. okolo 30°/o-ówyin wod- glinu nym roztworem nadtlenku wodoru, lub stezonym cynku roztworem, (63%) kwasu azotowego. wapnia Przyklad I. Do 1500 g jodku metylu dodaje strontu sie 5 g jodu i destyluje pod szklana kolumna de- 5 sodu stylacyjna o 20 pólkach teoretycznych pod normal- potasu nym cisnieniem, w temperaturze 41—43°C, zawra¬ cajac pierwsze porcje destylatu, az do calkowitego oczyszczenia czesci chlodzacej aparatu. Nastepnie odbiera sie destylat pozostawiajac 10°/o niedogonu 10 w naczyniu destylacyjnym. Otrzymany jodek me¬ tylu w ilosci 1200 g umieszcza sie w naczyniu z tworzywa fluoroweglowego i dodaje porcjami 1440 g 64%-wego kwasu azotowego, zawierajacego nie wiecej niz: miedzi 1.10—7 %, zelaza 1.10—6 %, 15 glinu, 1.10-70/o, magnezu 1.10-60/o, cyny 1.10-70/o, manganu 5.10—60/©, olowiu 1.10-70/o, tytanu 5.10-80/o, chromu 1.10—7 °/o, niklu 1.10—6 °/o, boru 1.10-6 °/o, ar¬ senu 1.10-70/o.Rozklad jodku metylowego przeprowadza sie 20 w temperaturze 20°C. Wydzielony jod oddziela sie od roztworu przez odsaczenie na filtrach ze szkla spiekanego, przemywa rektyfikowanym jodkiem metylowym i suszy w strumieniu czystego powie¬ trza w temperaturze 20°C. 25 Otrzymany jod w ilosci 710 g wykazuje nastepu¬ jacy sklad: najwyzej 1.10—5 °/o, 1.10—6%s 2.10-50/o, 2.10-50/o, 1.10-40/o, 1.10—40/o, Przyklad II. Do 1500 g jodku etylu dodaje sie 5 g jodu i destyluje pod szklana kolumna destyla¬ cyjna o 20 pólkach teoretycznych w temperaturze 71—72°C w sposób analogiczny jak w przykla¬ dzie 1.Otrzymany jodek etylu w ilosci 1250 g umieszcza sie w naczyniu z tworzywa fluoroweglowego i roz¬ klada w temperaturze 20°C za pomoca 2900 g 64°/o-ego kwasu azotowego o czystosci jak w przy¬ kladzie I. Wydzielony jod oddziela sie od roztworu przez odsaczenie na filtrach ze szkla spiekanego, przemywa rektyfikowanym jodkiem etylowym i su¬ szy w strumieniu czystego powietrza w tempera¬ turze 40°C. Otrzymuje sie 675 g jodu, którego czystosc jest taka sama jak produktu uzyskanego w przykladzie I. PL PL
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe zawartosc jodu substancji nielotnych azotanów zelaza magnezu niklu miedzi olowiu najwyzej 99,8 °/o, 0,01 0,05 °/o, 1.10-5 o/o, 1.10-50/o, 1.10-60/o, 1.10-60/o, 1.10-6 o/o, 35 Spcsób wytwarzania jodu o wysokiej czystosci przez wytwarzanie zwiazku jodu, oczyszczanie go i nastepny rozklad, znamienny tym, ze jodek alkilo¬ wy, zwlaszcza jodek metylu poddaje sie destylacji w jego temperaturze wrzenia w obecnosci wolnego jodu i nastepnie tak oczyszczony jodek alkilowy roz¬ klada sie na jod w temperaturze otoczenia za po¬ moca kwasu azotowego lub wody utlenionej. KZG 1, z. 42/72 — 200 Cena zl 10.— PL PL
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL65181B1 true PL65181B1 (pl) | 1972-02-29 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| da Silveira Salla et al. | Enhanced catalytic performance of CuFeS2 chalcogenide prepared by microwave-assisted route for photo-Fenton oxidation of emerging pollutant in water | |
| CN104860358A (zh) | 一种高纯度铑的回收提纯方法 | |
| CA1204100A (en) | Silicates with high ion exchange capacity derived from sepiolite and processes for their production | |
| EP0097842B1 (de) | Verfahren zur Gewinnung von Edelmetallen aus Lösungen | |
| US3334054A (en) | Purification of benzotriazole | |
| PL65181B1 (pl) | ||
| DE69020081T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von 3,3',4,4'-Biphenyltetracarbonsäure von hoher Reinheit oder deren Dianhydrid. | |
| JPS55128552A (en) | Treatment of liquid containing cyano gold compound | |
| DE2927624C2 (pl) | ||
| US2780633A (en) | Method of making benzoxazole | |
| DE2231994A1 (de) | Verfahren zur herstellung von hochreinem, wasserfreiem magnesiumchlorid | |
| EP0061057B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Formaldehyd | |
| DE1806647B2 (de) | Verfahren zur kontinuierlichen herstellung von arsen | |
| DE352431C (de) | Verfahren zur Herstellung eines Katalysators fuer die Hydrogenisation von ungesaettigten organischen Verbindungen | |
| DE1135486B (de) | Verfahren zur Herstellung von Hydrochinon oder Chinhydron | |
| DE1173879B (de) | Verfahren zur Reinigung von Siliciumchloroform | |
| DE1583890C (de) | Verfahren zur Herstellung von metallischem Osmium | |
| AT82465B (de) | Verfahren zur Darstellung von Propylen aus Azetylen und Methan. | |
| CH421918A (de) | Verfahren zur Reinigung von Siliciumchloroform | |
| DE838606C (de) | Verfahren zur Gewinnung von Tonerde aus silicathaltigen Rohstoffen, insbesondere aus Kohlenasche | |
| US2601022A (en) | Purification of metal carbonyls | |
| CH395949A (de) | Verfahren zur Reinigung von Silicium-IV-chlorid | |
| Rakshit | XL.—Metallic derivatives of alkaloids | |
| DE1768255A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Tries (dialkylamino) boran-metallcarbonylen | |
| DE1153371B (de) | Verfahren zur UEberfuehrung von organischen Natriumaluminiumkomplexen in organische Kaliumaluminiumkomplexe |