PL65181B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL65181B1
PL65181B1 PL127858A PL12785868A PL65181B1 PL 65181 B1 PL65181 B1 PL 65181B1 PL 127858 A PL127858 A PL 127858A PL 12785868 A PL12785868 A PL 12785868A PL 65181 B1 PL65181 B1 PL 65181B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
iodine
iodide
purity
alkyl
methyl iodide
Prior art date
Application number
PL127858A
Other languages
English (en)
Inventor
Szczodry Aleksander
Rzepka Leon
Szy-manis Jan
Original Assignee
Przedsiebiorstwo Przemyslówohandlowe „Polskieodczynniki Chemiczne"
Filing date
Publication date
Application filed by Przedsiebiorstwo Przemyslówohandlowe „Polskieodczynniki Chemiczne" filed Critical Przedsiebiorstwo Przemyslówohandlowe „Polskieodczynniki Chemiczne"
Publication of PL65181B1 publication Critical patent/PL65181B1/pl

Links

Description

Pierwszenstwo; Opublikowano: 25.Y.1972 65181 KI. 12i, 7/14 MKP COlb 7/14 ICZYTP Wspóltwórcy wynalazku: Aleksander Szczodry, Leon Rzepka, Jan Szy- manis Wlasciciel patentu: Przedsiebiorstwo Przemyslówo-Handlowe „Polskie Odczynniki Chemiczne", Gliwice (Polska) Sposób wytwarzania jodu o wysokiej czystosci i Jod jako substancja chemicznie aktywna zawiera zazwyczaj liczne zanieczyszczenia, które przez de¬ stylacje lub sublimacje nie sa calkowicie usuwane.Dla licznych celów wymagane jest stosowanie jodu o wysokiej czystosci. Dla potrzeb farmaceutycznych wymagane jest, by pozostalosc nielotna nie byla wyzsza niz 0,05°/o, podczas gdy dla potrzeb klasycz¬ nej analizy chemicznej zawartosc pozostalosci nie¬ lotnej nie powinna byc wieksza niz 0,03—0,01%.Przyjety sposób sumarycznego okreslania ilosci zanieczyszczen jest malo precyzyjny, poniewaz w jodzie wystepuja lotne zanieczyszczenia. Mimo ze jod „czysty do analizy" charakteryzuje sie stosun¬ kowo wysokim stopniem czystosci, nie jest on przy¬ datny do licznych celów nowoczesnej techniki, np. pólprzewodnikowej,' fizyki ciala stalego, analizy spektralnej itp.Znane sa liczne sposoby wytwarzania jodu o wy¬ sokiej czystosci, w których po procesie oczyszczania przez destylacje lub sublimacje stosuje sie oczysz¬ czanie za pomoca czynników chemicznie aktyw¬ nych. Sposoby te prowadza do otrzymania produktu odpowiadajacego wymaganiom farmaceutycznym lub wymaganiom klasycznej analizy chemicznej.Otrzymany tymi sposobami jod zawiera na ogól jeszcze okolo: 10—30/o zelaza, 10—* °/o manganu, 10-^ °/o magnezu, 10—5 °/o olowiu, 10—5 °/o niklu, 10—5 °/o ty¬ tanu, 10—4 °/o glinu, 10—4 °/o wapnia, 10—5 °/o miedzi, 10—50/o kobaltu oraz inne zanieczyszczenia.Sposób wedlug wynalazku pozwala na otrzymy- 10 15 25 30 wanie jodu o wysokiej czystosci przez wykorzy¬ stanie róznic reaktywnosci chemicznej jodu i jego zanieczyszczen.Sposobem wedlug wynalazku jod przeprowadza sie w jodek alkilowy zawierajacy w rodniku alki¬ lowym 1^5 atomów wegla, zwlaszcza w jodek me¬ tylu, który nastepnie destyluje sie i rozklada przez dzialanie czynnika utleniajacego o wysokiej czy¬ stosci. Oczyszczanie od zanieczyszczen, zwlaszcza metalicznych nastepuje wskutek tego, ze kationy metaliczne nie tworza lotnych zwiazków alkilowych i podczas destylacji, zwlaszcza w obecnosci wolnego jodiu, pozostaja w niedogonie. Najkorzystniejszym zwiazkiem posrednim przy rafinacji jodu jest jo¬ dek metylu, poniewaz wrze w niskiej temperaturze.Sposób wytwarzania jodku alkilowego nie posia¬ da istotnego znaczenia dla sposobu otrzymywania jodu wedlug wynalazku, natomiast jest istotne dla sposobu oczyszczania, by podczas rektyfikacji jod¬ ku alkilowego w naczyniu destylacyjnym znajdo¬ wal sie wolny jod, który gwarantuje postac katio¬ nowa wystepujacych w jodku alkilowym zanie¬ czyszczen metalicznych. Destylacje jodków alkilo¬ wych przeprowadza sie pod normalnym cisnieniem w nastepujacych temperaturach: 41—43°C jodek metylu, 71—72°C jodek etylu, 89—90°C jodek izo¬ propylu.Rozklad oczyszczonych jodków alkilowych z wy¬ dzieleniem jodu przeprowadza sie dzialajac na nie w temperaturze otoczenia wysoce czystymi utlenia- 6518165181 czarni niemetalicznymi np. okolo 30°/o-ówyin wod- glinu nym roztworem nadtlenku wodoru, lub stezonym cynku roztworem, (63%) kwasu azotowego. wapnia Przyklad I. Do 1500 g jodku metylu dodaje strontu sie 5 g jodu i destyluje pod szklana kolumna de- 5 sodu stylacyjna o 20 pólkach teoretycznych pod normal- potasu nym cisnieniem, w temperaturze 41—43°C, zawra¬ cajac pierwsze porcje destylatu, az do calkowitego oczyszczenia czesci chlodzacej aparatu. Nastepnie odbiera sie destylat pozostawiajac 10°/o niedogonu 10 w naczyniu destylacyjnym. Otrzymany jodek me¬ tylu w ilosci 1200 g umieszcza sie w naczyniu z tworzywa fluoroweglowego i dodaje porcjami 1440 g 64%-wego kwasu azotowego, zawierajacego nie wiecej niz: miedzi 1.10—7 %, zelaza 1.10—6 %, 15 glinu, 1.10-70/o, magnezu 1.10-60/o, cyny 1.10-70/o, manganu 5.10—60/©, olowiu 1.10-70/o, tytanu 5.10-80/o, chromu 1.10—7 °/o, niklu 1.10—6 °/o, boru 1.10-6 °/o, ar¬ senu 1.10-70/o.Rozklad jodku metylowego przeprowadza sie 20 w temperaturze 20°C. Wydzielony jod oddziela sie od roztworu przez odsaczenie na filtrach ze szkla spiekanego, przemywa rektyfikowanym jodkiem metylowym i suszy w strumieniu czystego powie¬ trza w temperaturze 20°C. 25 Otrzymany jod w ilosci 710 g wykazuje nastepu¬ jacy sklad: najwyzej 1.10—5 °/o, 1.10—6%s 2.10-50/o, 2.10-50/o, 1.10-40/o, 1.10—40/o, Przyklad II. Do 1500 g jodku etylu dodaje sie 5 g jodu i destyluje pod szklana kolumna destyla¬ cyjna o 20 pólkach teoretycznych w temperaturze 71—72°C w sposób analogiczny jak w przykla¬ dzie 1.Otrzymany jodek etylu w ilosci 1250 g umieszcza sie w naczyniu z tworzywa fluoroweglowego i roz¬ klada w temperaturze 20°C za pomoca 2900 g 64°/o-ego kwasu azotowego o czystosci jak w przy¬ kladzie I. Wydzielony jod oddziela sie od roztworu przez odsaczenie na filtrach ze szkla spiekanego, przemywa rektyfikowanym jodkiem etylowym i su¬ szy w strumieniu czystego powietrza w tempera¬ turze 40°C. Otrzymuje sie 675 g jodu, którego czystosc jest taka sama jak produktu uzyskanego w przykladzie I. PL PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe zawartosc jodu substancji nielotnych azotanów zelaza magnezu niklu miedzi olowiu najwyzej 99,8 °/o, 0,01 0,05 °/o, 1.10-5 o/o, 1.10-50/o, 1.10-60/o, 1.10-60/o, 1.10-6 o/o, 35 Spcsób wytwarzania jodu o wysokiej czystosci przez wytwarzanie zwiazku jodu, oczyszczanie go i nastepny rozklad, znamienny tym, ze jodek alkilo¬ wy, zwlaszcza jodek metylu poddaje sie destylacji w jego temperaturze wrzenia w obecnosci wolnego jodu i nastepnie tak oczyszczony jodek alkilowy roz¬ klada sie na jod w temperaturze otoczenia za po¬ moca kwasu azotowego lub wody utlenionej. KZG 1, z. 42/72 — 200 Cena zl 10.— PL PL
PL127858A 1968-07-02 PL65181B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL65181B1 true PL65181B1 (pl) 1972-02-29

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
da Silveira Salla et al. Enhanced catalytic performance of CuFeS2 chalcogenide prepared by microwave-assisted route for photo-Fenton oxidation of emerging pollutant in water
CN104860358A (zh) 一种高纯度铑的回收提纯方法
CA1204100A (en) Silicates with high ion exchange capacity derived from sepiolite and processes for their production
EP0097842B1 (de) Verfahren zur Gewinnung von Edelmetallen aus Lösungen
US3334054A (en) Purification of benzotriazole
PL65181B1 (pl)
DE69020081T2 (de) Verfahren zur Herstellung von 3,3',4,4'-Biphenyltetracarbonsäure von hoher Reinheit oder deren Dianhydrid.
JPS55128552A (en) Treatment of liquid containing cyano gold compound
DE2927624C2 (pl)
US2780633A (en) Method of making benzoxazole
DE2231994A1 (de) Verfahren zur herstellung von hochreinem, wasserfreiem magnesiumchlorid
EP0061057B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Formaldehyd
DE1806647B2 (de) Verfahren zur kontinuierlichen herstellung von arsen
DE352431C (de) Verfahren zur Herstellung eines Katalysators fuer die Hydrogenisation von ungesaettigten organischen Verbindungen
DE1135486B (de) Verfahren zur Herstellung von Hydrochinon oder Chinhydron
DE1173879B (de) Verfahren zur Reinigung von Siliciumchloroform
DE1583890C (de) Verfahren zur Herstellung von metallischem Osmium
AT82465B (de) Verfahren zur Darstellung von Propylen aus Azetylen und Methan.
CH421918A (de) Verfahren zur Reinigung von Siliciumchloroform
DE838606C (de) Verfahren zur Gewinnung von Tonerde aus silicathaltigen Rohstoffen, insbesondere aus Kohlenasche
US2601022A (en) Purification of metal carbonyls
CH395949A (de) Verfahren zur Reinigung von Silicium-IV-chlorid
Rakshit XL.—Metallic derivatives of alkaloids
DE1768255A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Tries (dialkylamino) boran-metallcarbonylen
DE1153371B (de) Verfahren zur UEberfuehrung von organischen Natriumaluminiumkomplexen in organische Kaliumaluminiumkomplexe