PL64562B1 - - Google Patents

Description

Opublikowano: 15JY.1972 KI. 32 a, 23/18 MKP C 03 b, 23/18 Wspóltwórcy wynalazku: Jerzy Ciosek, Hipolit Makowski, January Wiza Wlasciciel patentu: Instytut Badan Jadrowych, Warszawa (Polska) Urzadzenie do zdalnego bezplomieniowego zatapiania ampulek szklanych Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do zdal¬ nego bezplomieniowego zatapiania ampulek szkla¬ nych zwlaszcza z materialami radioaktywnymi.Stosowane dotychczas urzadzenia do zatapiania ampulek szklanych wykorzystuja energie cieplna wytwarzana przy spalaniu sie gazów w palnikach gazowych.Znane sa tez urzadzenia wykorzystujace energie elektryczna do nagrzewania spirali oporowej na¬ winietej na tuleje grafitowa wewnatrz której znaj¬ duje sie zatapiany profil szklany. Zatapianie am¬ pulek szklanych za pomoca tych palników gazo¬ wych nie moze byc stosowane przy produkcji izo¬ topów promieniotwórczych w komorach oslonnych przeznaczonych do pracy z duzymi aktywnosciami ze wzgledu na zbyt duza ilosc wydzielanego ciepla, co przy malej pojemnosci komory grozic moze po¬ zarem. Ponadto duza ilosc spalin, która wydziela sie w tym procesie ulega skazeniom radioaktywnym i szybko zanieczyszcza filtry. Natomiast zatapia¬ nie przy uzyciu elementu oporowego nawinietego na tuleje grafitowa nie daje mozliwosci zatapia¬ nia ampulek z przewezeniem, poza tym niemozli¬ wa jest obserwacja przewezenia przekroju ampulki przy zatapianiu, co uniemozliwia poslugiwanie sie zdalnym sterowaniem procesu zatapiania.Celem wynalazku jest bezpieczne zdalne zatapia¬ nie ampulek szklanych zwlaszcza z substancjami radioaktywnymi przy zastosowaniu niewielkiej stre¬ fy wydzielajacej energie cieplna. 15 20 25 Cel ten zostal osiagniety przez ogrzewanie pro¬ filu szklanego ampulki, blisko umieszczonymi, dwoma elektrodami weglowymi stanowiacymi jed¬ noczesnie element oporowy wydzielajacy cieplo dzieki przeplywowi pradu elektrycznego w urza¬ dzeniu skladajacym sie z dwóch plaskich, rucho¬ mych opartych na pryzmach ostrzowych elektrod weglowych, z których kazda posiada dwie pla¬ szczyzny stykowe pomiedzy którymi znajduje sie pólokragly profil i które po zacisnieciu zachowuja os symetrii prostopadla do plaszczyzny elektrod i tworza otwór przez który przechodzi, prostopadle do powierzchni elektrod, zatapiana szyjka ampul¬ ki szklanej.Urzadzenie wedlug wynalazku eliminuje stoso¬ wanie palnika gazowego wewnatrz komory do prac z materialami radioaktywnymi, jak i tez urzadzenia z oporowym elementem grzejnym oraz zmniejsza powierzchnie ogrzewanego odcinka profilu szkla¬ nego potrzebna do jego zatapiania i pozwala na zatapianie profilowanych ampulek szklanych, któ¬ rych srednica w górnej czesci — wylotowej — jest mniejsza od srednicy czesci dolnej. Wynala¬ zek zostanie blizej objasniony na przykladzie wy¬ konania przedstawionym schematycznie na rysun¬ ku, na którym fig. 1 przedstawia przekrój pionowy urzadzenia, fig. 2 przedstawia schemat przesuwu ' elektrody ruchomej.Przewezenie ampulki 1 z radioaktywna substan¬ cja wstawia sie za pomoca manipulatora do pól- 64 56264 562 okraglego wyciecia stalej elektrody grafitowej 2 tak aby oba konce ampulki zamocowane byly w uchwytach 3 mechanizmu srubowego 4. Po zamo¬ cowaniu ampulki w uchwytach przesuwa sie elek¬ trode grafitowa 5 za pomoca mechanizmu srubo¬ wego do stalej elektrody grafitowej 2. Regulacja jednakowego docisku plaszczyzn stykowych elek¬ trod zapewniona jest dzieki wahliwemu zamoco¬ waniu elektrod w plaszczyznie poziomej, w uchwy¬ tach elektrod 6 do czego sluza pryzmy ostrzo¬ we 7. Do otwartego konca ampulki podlacza sie podcisnienie w celu spowodowania zaklesniecia sie szyjki ampulki szklanej podczas zatapiania.Nastepnie zwiekszajac natezenie pradu plynacego, elektrody rozgrzewaja sie, co powoduje miekniecie profilu szklanego umieszczonego miedzy elektro¬ dami.Pokrecajac mechanizm srubowy uchwytu ampul¬ ki 4 odciagamy zimne konce ampulki tak, aby powstalo przewezenie profilu ampulki az do zerwa¬ nia. Nastepnie chwile przetrzymujemy oba konce 10 15 20 profilu w strefie rozgrzanych elektrod celem za¬ tapiania ostrych krawedzi zatopionego profilu.Po zatopieniu ampulki zmniejsza sie natezenie pradu przeplywajacego przez elektrody do warto¬ sci zerowej i odsuwa sie ruchoma elektrode celem wyjecia zatopionej ampulki z uchwytu. PL PL

Claims (2)

1. Zastrzezenie patentowe Urzadzenie do zdalnego bezplomiennego zata¬ piania ampulek szklanych, znamienne tym, ze skla¬ da sie z dwóch plaskich, ruchomych, opartych na pryzmach ostrzowych (7) elektrod weglowych (2) i (5), z których kazda posiada dwie plaszczyzny stykowe pomiedzy którymi znajduje sie pólokragly profil i które po zacisnieciu zachowuja os syme¬ trii prostopadla do plaszczyzny elektrod (2) i (5) i tworza otwór, przez który przechodzi prostopadle do powierzchni elektrod (2) i (5), zatapiania szyjka szklanej ampulki (1). A-A Fig.

2. CZYTELNIA PL PL