PL62864B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL62864B1
PL62864B1 PL118215A PL11821566A PL62864B1 PL 62864 B1 PL62864 B1 PL 62864B1 PL 118215 A PL118215 A PL 118215A PL 11821566 A PL11821566 A PL 11821566A PL 62864 B1 PL62864 B1 PL 62864B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
foil
polyimides
resistant
solution
coating
Prior art date
Application number
PL118215A
Other languages
English (en)
Inventor
Domagala Lucjan
Jedlinski Zbigniew
DanutaSek
Original Assignee
Politechnika Slaska Im W Pstrowskiego
Filing date
Publication date
Application filed by Politechnika Slaska Im W Pstrowskiego filed Critical Politechnika Slaska Im W Pstrowskiego
Priority to DE1967P0043693 priority Critical patent/DE1646064C3/de
Priority to FR1549101D priority patent/FR1549101A/fr
Priority to GB5916867A priority patent/GB1215479A/en
Priority to AT1181567A priority patent/AT295869B/de
Publication of PL62864B1 publication Critical patent/PL62864B1/pl

Links

Description

Pierwszenstwo: Opublikowano: 10.Y.1971 62864 KI. 21 c, 2/33 MKP H Ol b, 17/62 uiSUOT&K- Wspóltwórcy wynalazku: Lucjan Domagala, Zbigniew Jedlinski, Danuta Sek Wlasciciel patentu: Politechnika Slaska im. W. Pstrowskiego (Katedra Technologii Polimerów), Gliwice (Polska) Sposób wytwarzania laminowanych folii metalicznych dla urzadzen elektro- i radiotechnicznych, oraz elektronicznych Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarza¬ nia laminowanych folii metalicznych dla urzadzen elektro- i radiotechnicznych oraz elektronicznych przeznaczonych np. dla wyrobu elektronicznych i elektrotechnicznych obwodów drukowanych wzglednie innych konstrukcji elektrotechnicznych powleczonych powloka izolacyjna jak okladzin kondensatorów, oporów drukowanych itp.Do wykladzin laminowanych folii dla elektro¬ nicznych i elektrotechnicznych obwodów druko¬ wanych stosuje sie obecnie technike polegajaca na laminowaniu folii metalicznej, najczesciej mie¬ dzianej, warstwa laminatu z zywicy polimerowej.Jako zywice stosowane sa najczesciej zywice ter¬ moutwardzalne fenolowe, epoksydowe, nowolako- we-epoksydowe itp.Proces wytwarzania laminowanej folii miedzia¬ nej przebiega w kilku etapach i jest dosc czaso¬ chlonny i klopotliwy. Faza pierwsza produkcji polega na wytworzeniu laminatu z zywicy synte¬ tycznej wzmocnionej nosnikiem np. wlóknem szklanym. Faza druga to powlekanie powierzchni folii metalicznej odpowiednim klejem utwardzal- nym na goraco. Faza trzecia koncowa to laczenie laminatu zywicznego z pokryta klejem folia przez prasowanie na goraco.Stwierdzono, ze cienkie laminowane folie nada¬ jace sie do produkcji obwodów drukowanych wzglednie innych elementów izolacyjnych jak np. okladzin kondensatorowych itp., których wlasnos- 10 15 20 25 2 ci dielektryczne, mechaniczne i termiczne nie uste¬ puja wlasnosciom laminatów szklanych opartych na zywicach termoutwardzalnych otrzymuje sie przez naniesienie bezposrednio na folie miedziana roztworu termoodpornej zywicy polimerowej.Jako zywice nalezy stosowac odpowiednie ga¬ tunki termoodpornych polimerów typu poli- arylanów lub poliimidów w postaci roztworu w rozpuszczalniku organicznym. Zywice takie wyka¬ zuja odpowiednia przyczepnosc do folii metalicz¬ nej i tworza na niej gladka powloke, niedzialaja chemicznie na folie, wykazuja odpornosc termicz¬ na przynajmniej do 250°C i odpowiednie wlas¬ nosci dielektryczne w szerokim zakresie tempera¬ tur, sa odporne na stopione lutowie w tempera¬ turze 260°C w przeciagu co najmniej 10 sek., jak równiez odporne na dzialanie 30°/o roztworu chlor¬ ku zelazowego.Jak wykazano najlepiej do tego celu nadaja sie zywice poliarylanowe w tym poliarylany zawiera¬ jace skondensowane uklady naftalenowe i poliimi- dy bezwodnika piromelitowego.Przy wytwarzaniu laminowanych folii sposobem wedlug wynalazku roztwór zywicy nanosi sie na folie metaliczna—miedziana ewentualnie aluminio¬ wa recznie pedzlem, natryskiem lub metoda elek- troforetyczna. Grubosc powloki zaleznie od prze¬ znaczenia wynosi od 15—150 \i co reguluje sie iloscia nanoszonych warstw zywicy.Zastosowanie metody wedlug wynalazku pozwa- 6286462864 la uzyskac laminowane folie o wysokiej odpornos¬ ci termicznej i mechanicznej i korzystnych wlas¬ nosciach dielektrycznych. Laminaty otrzymane tym sposobem sa w odróznieniu od klasycznych metod laminowania folii elastyczne i moga byc stosowane w postaci plaskiej jak tez zwijanych rulonów, co znacznie ulatwia miniaturyzacje urzadzen elek¬ trycznych.Sposób wytwarzania folii laminowanych wedlug wynalazku ma najwieksze znaczenie przy produk¬ cji foliowanych laminatów elektrotechnicznych o malej grubosci — ponizej 0,5 mm. Sposób lami¬ nowania folii metalicznych wedlug wynalazku jest przy tym znacznie prostszy i latwiejszy jak kla¬ syczna metoda, laminowania folii.Przyklad. 100 kg kopolimeru tereftalanu dia¬ nu i 4,4-dwuhydroksydwunaftylu 1,1' — o stosun¬ ku dianu i dwuhydroksydwunaftylu 1:1, o liczbie kwasowej równej 8 mg KOH/1 g, liczbie hydro¬ ksylowej równej 15 mg KOH/1 g oraz ciezarze czasteczkowym rzedu 5000,. rozpuszczono w 900 kg czterochloroetanu. Proces rozpuszczania prowadzo¬ no w temperaturze pokojowej w mieszalniku z mieszadlem ramowym lub turbinowym. Tak przy¬ gotowany roztwór przesaczono dwukrotnie na cie¬ plo przez prase filtracyjna ramowa z podwójnymi przekladkami z plótna filtracyjnego i bibuly fil¬ tracyjnej pod cisnieniem 4—5 atm.Roztwór naniesiono dwukrotnie na folie miedzia¬ na natryskowo, podsuszono w temperaturze poko¬ jowej w ciagu 4 godzin, a nastepnie w suszarce w temperaturze 140°C w ciagu 6 godzin. Grubosc powloki polimeru wynosila ok. 80 \.\.Wlasnosci powloki na folii miedzianej sa na¬ stepujace: chlonnosc wody w temperaturze 25° — 0,1%, odpornosc powierzchniowa wlasciwa — 2,1 X X1015 om, odpornosc skrosna wlasciwa — I,8X X1014 om X cm, napiecie przebicia — 55,7— 90,0 KV/mm, wspólczynnik stratnosci dielektrycz¬ nej tg 6 50 Hz 800 Hz 800 Hz 20°C 20°C 180°C 20°C 180°C — 0,0023 — 0,0016 — 0,0040 300 KHz — 0,0024 300 KHz — 0,0052 wytrzymalosc na oderwanie paska folii o szero¬ kosci 25 mm — 2,7 KG. PL PL

Claims (2)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania laminowanych folii me¬ talicznych miedzianych, aluminiowych i innych dla urzadzen elektro- i radiotechnicznych oraz elektronicznych odpornych na wysokie tempera¬ tury, znamienny tym, ze folie metaliczna pokry¬ wa sie warstwa termoodpornego polimeru typu poliestrowego lub poliimidowego naniesionego w postaci roztworu a otrzymana powloke suszy sie w temperaturze 100—300°C.
2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako poliestry stosuje sie poliarylany oparte o kwas tereftalowy lub izoftalowy, a jako poliimi- dy — produkty reakcji — bezwodnika piromelito- wego z dwuaminami. PZG w Pab., zam. 380-71, nakl. 260 egz. PL PL
PL118215A 1966-12-29 1966-12-29 PL62864B1 (pl)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1967P0043693 DE1646064C3 (de) 1966-12-29 1967-12-22 Verfahren zur Herstellung von mit Polyesterharzen beschichteten Metallfolien für elektro- und radiotechnische sowie elektronische Zwecke
FR1549101D FR1549101A (pl) 1966-12-29 1967-12-28
GB5916867A GB1215479A (en) 1966-12-29 1967-12-29 Method of manufacturing laminated metal foils for electrical radio and electronic devices
AT1181567A AT295869B (de) 1966-12-29 1967-12-29 Verfahren zur Erzeugung von mit Kunststoff laminierten Kupfer-, Aluminium- u.a. metallischen Folien für elektro- und radiotechnische sowie elektronische Einrichtungen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL62864B1 true PL62864B1 (pl) 1971-04-30

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI450817B (zh) 金屬箔疊層聚醯亞胺樹脂基板
US4353954A (en) Flexible printed circuit base board and method for producing the same
US20090211786A1 (en) Process for producing polyimide film with copper wiring
JPS59207234A (ja) 樹脂と金属導電体との複合製品とその製法
CN101024315A (zh) 层压体及其制造方法
KR20120065349A (ko) 폴리이미드 필름 및 폴리이미드 필름의 제조 방법
JP2002113812A (ja) ポリイミドと導体層の積層体およびそれを用いてなる多層配線板ならびにその製造方法
JP5266925B2 (ja) 金属化ポリイミドフィルムとその製造方法
CN204674123U (zh) 一种双层介质无胶挠性覆铜板
PL62864B1 (pl)
JP6252988B2 (ja) 2層銅張積層板及びその製造方法、並びにそれを用いたフレキシブル配線板及びその製造方法
JP2015104896A (ja) 銅ポリイミド積層フィルム
WO2007043670A1 (ja) 金属配線基板の製造方法
CN206644406U (zh) 用于超细线路fpc及cof材料的纳米金属基板
JP4304459B2 (ja) 金属薄膜付きポリイミドフィルム
WO2014199848A1 (ja) バスバー及びその製造方法
JPS58153390A (ja) プリント回路用基材及びその製造方法
JP2780380B2 (ja) 複合金属積層シートおよびその使用方法
JP4911296B2 (ja) 金属配線耐熱性樹脂基板の製造方法
JPH03104185A (ja) 両面導体ポリイミド積層体の製造方法
JP2009170673A (ja) プリント基板用複合めっき材及びその製造方法
JP2016087899A (ja) 2層銅張積層板及びその製造方法、並びにそれを用いたフレキシブル配線板及びその製造方法
JP2003001753A (ja) 耐熱性フレキシブル積層板の製造方法
DE1646064A1 (de) Verfahren zur Erzeugung von laminierten Metallfolien fuer elektro- und radiotechnische sowie elektronische Einrichtungen
JPS6031918B2 (ja) フレキシブル銅張板の製造法