PL53153B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL53153B1
PL53153B1 PL111250A PL11125065A PL53153B1 PL 53153 B1 PL53153 B1 PL 53153B1 PL 111250 A PL111250 A PL 111250A PL 11125065 A PL11125065 A PL 11125065A PL 53153 B1 PL53153 B1 PL 53153B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
bath
liter
coumarin
amount
pyridine
Prior art date
Application number
PL111250A
Other languages
English (en)
Inventor
Ryszard Kalek mgr
Marian Jarmuszkiewicz mgr
Original Assignee
Zaklady Przemyslu Metalowego H Cegielski
Filing date
Publication date
Application filed by Zaklady Przemyslu Metalowego H Cegielski filed Critical Zaklady Przemyslu Metalowego H Cegielski
Publication of PL53153B1 publication Critical patent/PL53153B1/pl

Links

Description

Pierwszenstwo: Opublikowano: 12. VI. 1967 53153 KL. 48 a, 5/46 MKP C 23 b 5/<|6 UKD 621.793:621.357.82 Wspóltwórcy wynalazku: mgr Ryszard Kalek, mgr Marian Jarmuszkiewicz Wlasciciel patentu: Zaklady Przemyslu Metalowego H. Cegielski, Przed¬ siebiorstwo Panstwowe, Poznan (Polska) Kapiel galwaniczna do osadzania blyszczacych i gladkich powlok niklowych Przedmiotem wynalazku jest kapiel galwanicz¬ na do osadzania powlok niklowych o wysokim po¬ lysku i duzej gladkosci.Znane kapiele do galwanicznego niklowania sa oparte najczesciej na roztworach siarczanu niklo¬ wego, chlorku niklowego i kwasu bornego i pra¬ cuja przy gestosci pradu od 0,2 do 1 A/dcm2.Z tych znanych kapieli otrzymuje sie pokrycia matowe, wymagajace stosowania operacji polero¬ wania w celu uzyskania lustrzanego polysku.Znane sa równiez kapiele do galwanicznego ni¬ klowania, które oprócz juz wymienionych skladni¬ ków zawieraja dodatki blaskotwórcze. Dzieki ich zastosowaniu przy gestosci pradu od 1 do 5 A/dcm2 uzyskuje sie powloki blyszczace o gladkosci rów¬ nej lub nieco lepszej od gladkosci podloza. Jako dodatki blaskotwórcze stosuje sie dwa rodzaje zwiazków chemicznych organicznych. Pierwsze z nich posiadaja w czasteczce grupe —C — S02—, drugie charakteryzuja sie posiadaniem takich grup jak C—C lub C—N. Rózne kombinacje tych zwiaz¬ ków sa znane z licznych opisów patentowych.W opisie patentowym polskim nr 48.728 wymienia sie p-toluenosulfonoamid wraz z imidem kwasu ortosulfobenzoesowego oraz formylobutindiolem.Sulfonoamid lub sulfonoimid wystepuje w opisie patentowym NRF nr 1.071.439. Benzo-a-piron wcho¬ dzi w sklad kapieli podanych w opisach patento¬ wych St. Zjedn. Am. nr 2.782.152 i nr 2.782.153 oraz w opisach patentowych kanadyjskich 10 19 20 30 nr 502.633 i nr 558.991. Zwiazki pirydyny wyste¬ puja w opisie patentowym kanadyjskim nr 546.333 oraz w opisach patentowych St. Zjedn. Am. nr 2.644.788 i nr 2.644.789.Te znane kapiele, zawierajace dodatki blasko¬ twórcze, posiadaja pewne niedogodnosci. Charakte¬ ryzuja sie one mala stabilnoscia skladu kapieli w czasie pracy oraz slaba zdolnoscia wyrównywa¬ nia podloza.Znana jest równiez opisana w patencie NRF nr 971.335 kapiel do galwanicznego niklowania za¬ wierajaca jako dodatki blaskotwórcze zwiazek aro¬ matyczny zawierajacy siarke z klasy aromatycz¬ nych sulfonianów, aromatycznych kwiasów sulfo¬ nowych, sulfonoamidów lub sulfimidów, dalej po¬ chodne kumaryny lub kumaryne i wreszcie zwia¬ zek aromatyczny zawierajacy azot grupy pochod¬ nych aminopoliarylowych metanu, polialkilenopo- liamin i alkilopochodnych pirydyny. Kapiel ta cha¬ rakteryzuje sie mala stabilnoscia skladu. Produk¬ ty redukcyjno-oksydacyjne wymienionych dodat¬ ków blaskotwórczych wymagaja czestego oczysz¬ czania kapieli. Równiez zdolnosc wyrównywania podloza jest w tej kapieli ograniczona.Wynalazek ma na celu usuniecie tych niedogod¬ nosci i sporzadzenie kapieli, która pozwoli na uzy¬ skanie pokrycia blyszczacego o gladkosci wyraznie lepszej od gladkosci podloza przy mozliwosci sto¬ sowania gestosci pradu w szerokim zakresie i przy duzej latwosci dozowania skladników kapieli. 5315353153 Dalszym celem wynalazku jest zapewnienie dobrej stabilnosci kapieli.Wedlug wynalazku cel ten osiaga sie przez za¬ stosowanie w kapieli jako dodatków blaskotwór- czych równoczesnie p-toluenosulfonoamidu lub amidu kwasu benzenosulfonowego w ilosci od 0,1 do 3 g/litr, 6-formylokumaryny lub kumaryny w ilosci od 0,05 do 3 g/litr, kwasu /?-pirydynosul- fonowego lub jego soli w ilosci od 0,01 do 2,5 g/litr oraz zwilzacza w ilosci od 0,1 do 5 g/litr.Kapiel wedlug wynalazku jest scislej przedsta¬ wiona w przykladach.Przyklad I. siarczan niklawy chlorek niklawy . kwas borowy p-toluenosulfonoamid 6-formylokumaryna kwas /?-pirydynosulfonowy laurylosulfonian sodu pH kapieli 3,5 temperatura 35°C gestosc pradu 6 A/dcm2 wy 300 g/l 35 g/l 25 g/l 0,05 g/l 0,1 g/l 0,2 g/l 3,2 g/l 15 20 25 4 Przyklad II. siarczan niklawy 420 g/l chlorek niklawy 40 g/l kwas borowy 30 g/l admid kwasu benzenosulfonowego . . 0,3 g/l kumaryna 2,5 g/l sól sodowa kwasu /?-pirydynosulfono- wego 0,8 g/l laurylosulfonian sodu 4 g/l pH kapieli 2,9 temperatura 60°C gestosc pradu 8 A/dcm2 PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Kapiel galwaniczna do osadzania blyszczacych i gladkich powlok niklowych przy zastosowaniu substancji blaskotwórczych z grupy kumaryny, pi¬ rydyny i amidów aromatycznych kwasów sulfono¬ wych, znamienna tym, ze jako dodatki blasko- twórcze zawiera jednoczesnie p-toluenosufonoamid lub amid kwasu benzenosulfonowego w ilosci 0,1—3 g/litr, 6-formylokumaryne lub kumaryne w ilosci 0,05—3 g/litr oraz kwas /?-pirydynosulfo- nowy lub jego sole w ilosci 0,01—2,5 g/litr. RSW „Prasa" Wr. Zam. 202/67. Naklad 310 egz. PL
PL111250A 1965-10-18 PL53153B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL53153B1 true PL53153B1 (pl) 1967-02-25

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AU2004239226B2 (en) High purity electrolytic sulfonic acid solutions
ES2609384T3 (es) Baño galvánico de electrodeposición de níquel o aleación de níquel para depositar un níquel semibrillante o aleación de níquel, método de electrodeposición y uso de tal baño y compuestos para el mismo
KR940001679B1 (ko) 팔라듐 필름의 전착
US3729393A (en) Electrodeposition of copper
US2644789A (en) Electrodeposition of nickel
US2662853A (en) Electrodeposition of nickel
KR20160100364A (ko) 전해질로부터 구리-주석 및 구리-주석-아연 합금의 전착
PL53153B1 (pl)
ES2890664T3 (es) Baño de galvanizado de níquel para depositar un revestimiento de níquel decorativo sobre un sustrato
US5264112A (en) Acidic nickel baths containing 1-(2-sulfoethyl)-pyridiniumbetaine
NO147994B (no) Fremgangsmaate til fremstilling av en elektrolytisk utfelling og pletteringsopploesning til utfoerelse av fremgangsmaaten
US3206383A (en) Electrolyte for use in the galvanic deposition of bright leveling nickel coatings
US2994648A (en) Nickel plating additives
US2782153A (en) Nickel electrodeposition
US2294311A (en) Nickel plating
US3008883A (en) Electrodeposition of bright nickel
GB884035A (en) Process for the production of electrolytic copper platings
SU452107A3 (ru) Блескообразующа добавка
US3152975A (en) Electrodeposition of nickel
CN108441898A (zh) 一种电镀溶液及方法
JPS6112037B2 (pl)
PL48728B1 (pl)
US3748236A (en) Additive for nickel plating baths
US2696467A (en) Copper plating bath and process
US3386897A (en) Electroplasting bright nickel