PL48728B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL48728B1 PL48728B1 PL100447A PL10044763A PL48728B1 PL 48728 B1 PL48728 B1 PL 48728B1 PL 100447 A PL100447 A PL 100447A PL 10044763 A PL10044763 A PL 10044763A PL 48728 B1 PL48728 B1 PL 48728B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- bath
- liter
- nickel
- acid
- coatings
- Prior art date
Links
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 5
- 238000009499 grossing Methods 0.000 claims description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N Benzenesulfonamide Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102000007560 NF-E2-Related Factor 1 Human genes 0.000 description 2
- 108010071380 NF-E2-Related Factor 1 Proteins 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 2
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 2
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 2
- HWAQOZGATRIYQG-UHFFFAOYSA-N 4-sulfobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 HWAQOZGATRIYQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 Acetylene alcohols Chemical class 0.000 description 1
- VREVKZLUMZQJRI-UHFFFAOYSA-N [SH2]=N Chemical compound [SH2]=N VREVKZLUMZQJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLDJFQGPPSQZKI-UHFFFAOYSA-N but-2-yne-1,4-diol Chemical compound OCC#CCO DLDJFQGPPSQZKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- GPUMPJNVOBTUFM-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,3-trisulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(O)(=O)=O)=C(S(O)(=O)=O)C(S(=O)(=O)O)=CC2=C1 GPUMPJNVOBTUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZPNKQREYVVATQ-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);diformate Chemical compound [Ni+2].[O-]C=O.[O-]C=O HZPNKQREYVVATQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007065 protein hydrolysis Effects 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonamide Chemical compound CC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
Opublikowano: 15.XII.1964 48728 Maj/U KI. 4&-*r UKD BIBLIOTEKA Wspóltwórcy wynalazku: mgr inz. Zbigniew Kwiatkowski, mgr Konrad taK; Szmidt, dr inz. Tadeusz Zak Wlasciciel patentu: Instytut Mechaniki Precyzyjnej, Warszawa (Polska) j r .' ~ntov,*eg<: Kapiel do niklowania z polyskiem o dzialaniu wygladzajacym, antypitingowym i wyblyszczajacym Przedmiotem wynalazku jest kapiel do niklowa¬ nia z polyskiem, w sklad której wchodza dodatki blaskotwórcze o dzialaniu wyblyszczajacym, wy¬ gladzajacym i antypitingowym, majace na celu uzyskanie gladkich blyszczacych powlok. 5 Znane kapiele do niklowania sa oparte najcze¬ sciej na siarczanie niklawym, chlorku niklawym i kwasie borowym jak na przyklad kapiel typu Wattsa. Przy gestosci pradu 0,2 do 0,8 A/dcm2 10 otrzymuje sie z nich powloki matowe, wymagaja¬ ce polerowania dla uzyskania polysku. Przez pod¬ wyzszenie temperatury oraz wprowadzenie do ka¬ pieli pewnych dodatków blaskotwórczych jest mo¬ zliwe uzyskanie przy gestosci pradu 2 do 5 A/dcm2 15 powlok blyszczacych o gladkosci równej lub nieco wyzszej od gladkosci podloza.W celu poprawienia wlasnosci powlok stosuje sie rózne zestawy dodatków, skladajace sie z 2 do 4 substancji blaskotwórczych, które sa najczesciej 20 zwiazkami organicznymi. W kapielach do niklowa¬ nia z polyskiem musza znajdowac sie dwa rodzaje substancji blaskotwórczych. Do substancji blasko¬ twórczych pierwszego rodzaju naleza zwiazki po¬ siadajace w czasteczce grupe =C — S02—, a wiec 25 sulfokwasy lub ich sole, sulfonoamidy i sulfoimidy.Jako substancje blaskotwórcze drugiego rodzaju stosuje sie alkohole acetylenowe, zwiazki z azotem w pierscieniu czasteczki jak pirydyna, chinolina oraz kumaryna i jej pochodne. 30 Wspólne dzialanie powyzszych substancji blasko¬ twórczych umozliwia uzyskanie powlok o bardzo wysokim polysku, o duzej plastycznosci, niewiel¬ kich naprezeniach wlasnych i wysokiej gladkosci.Kombinacje tych zwiazków sa znane z wielu opisów potentowych. I tak na przyklad: imid kwa¬ su p-sulfobenzoesowego wchodzi w sklad kapieli podanych w opisach patentowych USP 2 576 922, USP 2 782153, w opisie patentowym brytyjskim 701 717, w opisie patentowym NRF 934 081, w opisie patentowym polskim 43 050. W opisie patentowym NRF 1 073 271 wymienia sie imid o-sulfobenzoeso- wy i produkty hydrolizy protein, w opisie patento¬ wym NRF 1071 439 wystepuje sulfonoamid lub sul- foimid, a w opisie patentowym NRF 1 063 003 2-bu- tin-l,4-diol i kwas naftalenotrójsulfonowy oraz mrówczan niklu.Istota wynalazku polega na tym, ze kapiel do ni¬ klowania wedlug wynalazku zawiera w swym skladzie jako dodatki blaskotwórcze jednoczesnie p-toiuenosulfonoamid lub amid kwasu benzenosul- fonowego w ilosci od 0,05 do 3 g/l, litr imid kwasu ortosulfobenzoesowego lub jego pochodnych wzgle¬ dnie soli w ilosci od 0,05 do 2,5 g/l litr oraz formy- lobutindiol lub produkty jego hydrolizy w ilosci od 0,1 do 2,5 g/l litr.Przykladem tego rodzaju kapieli jest kapiel o skladzie: 150 do 400 g/l siarczanu niklawego NiSOi-7 H20, 5 do So g/l chlorku niklawego NiCl2 • 6 H20, 20 do 50 g/l kwasu borowego H2B03, 4872848728 3 4 0,05 do 3 g/l p-toluenosulfonoamidu, 0,05 do 2,5 g/l cym, zawierajaca dodatek substancji blaskotwór- imidu kwasu ortosulfobenzoesowego i 0,1 do 2,5 g/l czych, znamienna tym, ze jako substancje blasko- formylobutiniiolu. Warunki pracy kapieli: pH — twórcze zawiera jednoczesnie p-toluenosulfono- 3,3 do 5,2, temperatura — 32 do 55°C i gestosc pra- amid lub amid kwasu benzenosulfonowego w ilo- du 2 do 6A/dcm2. 5 sci od 0,05 do 3 g/l litr, imid kwasu ortosulfoben¬ zoesowego lub jego pochodne, wzglednie sole, w PL
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe ilosci od 005 do 25 g/1 mr oraz f0rmylobutindiol Kapiel do niklowania z polyskiem, o dzialaniu lub produkty jego hydrolizy w ilosci od 0,1 do wygladzajacym, antypitingowym i wyblyszczaja- 2,5 g/l litr. „Ruch'' W-w?, 12.m. 1259-64 naklad PL
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL48728B1 true PL48728B1 (pl) | 1964-10-15 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3770598A (en) | Electrodeposition of copper from acid baths | |
| US3682788A (en) | Copper electroplating | |
| US2910413A (en) | Brighteners for electroplating baths | |
| US3729393A (en) | Electrodeposition of copper | |
| US2644789A (en) | Electrodeposition of nickel | |
| GB622761A (en) | Improvements in bright nickel plating | |
| US4212709A (en) | Acidic nickel electroplating bath containing sulfobetaines as brighteners and levelling agents | |
| US2662853A (en) | Electrodeposition of nickel | |
| PL48728B1 (pl) | ||
| US3862019A (en) | Composition of electroplating bath for the electrodeposition of bright nickel | |
| US3953304A (en) | Electroplating baths for nickel and brightener-leveler compositions therefor | |
| US2986498A (en) | Process for the production of metal electrodeposits | |
| US3506548A (en) | Electrodeposition of nickel | |
| US2782153A (en) | Nickel electrodeposition | |
| US3804729A (en) | Electrolyte and process for electro-depositing copper | |
| US2294311A (en) | Nickel plating | |
| US3261840A (en) | Bright nickel plating baths | |
| US2782152A (en) | Electrodeposition of nickel | |
| PL53153B1 (pl) | ||
| PL53154B1 (pl) | ||
| US3748236A (en) | Additive for nickel plating baths | |
| US2839457A (en) | Electroplating | |
| JPH04268088A (ja) | ニッケル化製品の製法及び水性酸性電気ニッケル化浴のための光沢剤混合物 | |
| SU160064A1 (pl) | ||
| PL64363B1 (pl) |