PL42269B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL42269B1 PL42269B1 PL42269A PL4226958A PL42269B1 PL 42269 B1 PL42269 B1 PL 42269B1 PL 42269 A PL42269 A PL 42269A PL 4226958 A PL4226958 A PL 4226958A PL 42269 B1 PL42269 B1 PL 42269B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- germanium
- gallium
- dissolution
- hydrogen
- separated
- Prior art date
Links
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 55
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 53
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 32
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 31
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 23
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 21
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims description 14
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 14
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 claims description 9
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 8
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 claims description 4
- 241000208152 Geranium Species 0.000 claims description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 3
- 241000779819 Syncarpia glomulifera Species 0.000 claims description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- QGJOPFRUJISHPQ-NJFSPNSNSA-N carbon disulfide-14c Chemical compound S=[14C]=S QGJOPFRUJISHPQ-NJFSPNSNSA-N 0.000 claims description 2
- 150000002259 gallium compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001739 pinus spp. Substances 0.000 claims description 2
- 235000012424 soybean oil Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000003549 soybean oil Substances 0.000 claims description 2
- 229940036248 turpentine Drugs 0.000 claims description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 2
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims 2
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N Adamantane Natural products C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 241000749936 Eolophus roseicapillus Species 0.000 claims 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims 1
- KXCAEQNNTZANTK-UHFFFAOYSA-N stannane Chemical compound [SnH4] KXCAEQNNTZANTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910000083 tin tetrahydride Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 16
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 7
- QUZPNFFHZPRKJD-UHFFFAOYSA-N germane Chemical compound [GeH4] QUZPNFFHZPRKJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052986 germanium hydride Inorganic materials 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 4
- 229910000967 As alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- UPWPDUACHOATKO-UHFFFAOYSA-K gallium trichloride Chemical compound Cl[Ga](Cl)Cl UPWPDUACHOATKO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium dioxide Chemical compound O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 2
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 2
- GEAOJWKXHMGANA-UHFFFAOYSA-N $l^{1}-stannane Chemical compound [SnH] GEAOJWKXHMGANA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-2,2-bis(chloromethyl)propane Chemical compound ClCC(CCl)(CCl)CCl KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101710134784 Agnoprotein Proteins 0.000 description 1
- DJHGAFSJWGLOIV-UHFFFAOYSA-K Arsenate3- Chemical class [O-][As]([O-])([O-])=O DJHGAFSJWGLOIV-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005267 GaCl3 Inorganic materials 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N arsane Chemical compound [AsH3] RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940000489 arsenate Drugs 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011148 calcium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 description 1
- SCCCLDWUZODEKG-UHFFFAOYSA-N germanide Chemical compound [GeH3-] SCCCLDWUZODEKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940119177 germanium dioxide Drugs 0.000 description 1
- -1 germanium hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- GGQZVHANTCDJCX-UHFFFAOYSA-N germanium;tetrahydrate Chemical compound O.O.O.O.[Ge] GGQZVHANTCDJCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N tetrachlorogermane Chemical compound Cl[Ge](Cl)(Cl)Cl IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
Description
Opublikowano dn!a 11 stycznia 1960 r.Jy § e:v m*% & ^ POLSKIEJ RZECZYPOSPOLITEJ LUDOWEJ OPIS PATENTOWY Nr 42269 Zaklady Cynkome „Trzebinia"*) Trzebinia, Polska KLTlftacffl ^10 r '//te? Sposób otrzymywania germanu i galu metalicznego z koncentratów zawierajacych zwiazki germanu oraz galu Patent trwa od dnia 28 lipca 1958 r.Jako surowiec do bezposredniego przerobu germanu lub galu sluza rudy wzglednie koncen¬ traty, zawierajace od 0,1 do 1 % Ge oraz 0,05 do 0,5*/oGa. Przerób przeprowadza sie dotychczas przez chlorowanie rud, w wyniku czego otrzy¬ muje sie GeCLi oraz GaCl3. Czterochlorek ger¬ manu (GeCl4) po kilkustopniowym oczyszczaniu oraz po nastepnej hydrolizie przechodzi w dwu¬ tlenek germanu, z którego dalej przez redukcje wodorem otrzymujemy german metaliczny. Gal uzyskuje sie przez ekstrakcje- chlorku galu ete¬ rem izopropylowym i kilkustopniowe oczysz¬ czanie oraz nastepna elektrolize zwiazków ga¬ lowych. Metoda ta jest bardzo pracochlonna, a poza tym w czasie przeprowadzania licznych operacji powstaja bardzo znaczne straty.Otrzymywanie germanu z germanowodoru, ja¬ ko metoda technologiczna, dotychczas' nie bylo znane i otrzymywanie ta droga germanu znane jest tylko z prac analitycznych, w których sto¬ suje sie czyste roztwory, nie zawierajace As, Sb, ani Ga i Sn. Sposób wedlug wynalazku opiera sie na procesie rozpuszczania i ekstrakcji *) Wlasciciel patentu oswiadczyl, ze twórca wynalazku jest inz. Michal Ryczek. germanu i galu z koncentratów roztworem alka¬ licznym w wannie elektrolitycznej. Podczas elek¬ trolizy wydzielajacy sie tlen in statu nascendi, zapewnia anodowe utlenianie. German rozpusz¬ cza sie prawie calkowicie w stosunkowo krótkim czasie (i/2 do 2 godz.) przy gestosci pradu nie przekraczajacej 1 A/dcm2 i przy napieciu miedzy elektrodami 2,2—3 V, natomiast rozpuszczenie sie galu i arsenu przy tej gestosci pradu zachodzi dopiero po dluzszym czasie trwania elektrolizy (co najmniej 6 do 8 godz.). Przy gestosciach pradowych powyzej 2 A/dcm2 i przy napieciu miedzy elektrodami 5—6V german przed uply¬ wem 2 godz. jest zupelnie nierozpuszczony, pod¬ czas gdy wieksza czesc gakf i arsenu (ok. 80°/o) przeszla do roztworu.Proces rozpuszczania germanu i galu w wan¬ nie elektrolitycznej mozemy przeprowadzac dwo¬ ma sposobami.Sposób pierwszy. Przy gestosci pradu 0,8—1,5 A/dcm2 w okresie 10—12 godz. do roztworu prze¬ chodza: german, gal i arsen. Z roztworu nastep¬ nie otrzymuje sie poprzez elektrolize germano- wodór oraz gal metaliczny, wzglednie stóp gal- arsen.Sposób drugi. Rozpuszczanie selektywne galu, arsenu oraz germanu. Przy ^tosc^p^ul^kolo 6—10A/dcm2 pod¬ czas ^elekfrtto;£^ maksimum 120 min. nj|l i arsen przechodza w 80 •/© do roztworu, na- \ jtiiniast german jako nierozpuszczalny pozostaje w koncentracie. Nastepnie przeprowadza sie elektroliza w warunkach najkorzystniejszych dla germanu, to jest przy gestosci pradu okolo 1 A/dcm^t wtedy german i czesc pozostalego galu i arsenu przechodza do alkalicznego roz- tworu. Mozemy wtedy pracowac dwoma roz¬ tworami - roztworem galanów-arsenianów bez germanu, w celu otrzymania galu i obnizenia w koncentracie zawartosci arsenu oraz roztwo¬ rem germanianów, zawierajacych male ilosci "arsenu i galu, celem odzyskania germanu po¬ przez germanowodór....... W obydwu sposobach utlenienie anodowe moze byc prowadzone przeciwpradowo z cyr¬ kulacja lugów alkalicznych (podawanie w pier¬ wszej kolejnosci najgestszego lugu do swiezych porcji koncentratów), celem podwyzszenia w nich stezenia germanu i galu.Dla unikniecia szkodliwego dzialania pradu katodowego podezas rozpuszczania anodowego oddziela sie przestrzen anodowa od katodowej przy pomocy przepony.Przy sposobie pierwszym, roztwór alkaliczny zawierajacy german, gal i arsen oraz roztwór germanu otrzymany przy sposobie drugim pod¬ daje sie elektrolizie, celem katodowego wytwo¬ rzenia i wydzielenia czterowodorku germanu.Gestosc pradu waha sie w granicach 20-50 A/dcm2 podczas elektrolizy, natomiast uzysk GeH4 otrzymuje sie powyzej 99%.Celem unikniecia szkodliwego, utleniajacego dzialania anody, przestrzen anodowa oddzielamy od katody przy pomocy przepony. Przez stoso¬ wanie róznych materialów katodowych a mia¬ nowicie: Pb, Zn, Cd, In, Ag, grafit, Ta, Ti itd. mozemy regulowac wydajnosc wydzielania ger¬ manowodoru oraz arsenowodoru.Po calkowitym wydzieleniu germanowodoru wedlug sposobu pierwszego, w roztworze jeszcze gal, który zostaje wytracony elektrolitycznie w osobnym procesie przy gestosci pradu 2 A/dcm2 i napieciu miedzy elektrodami 2,4 — 2,6 V, jako metal zanieczyszczony arsenem.Po straceniu galu wedlug sposobu pierw¬ szego oraz po wydzieleniu germanowodoru we¬ dlug sposobu drugiego, roztwór alkaliczny wraca z powrotem jako elektrolit do, rozpuszczania anodowego. Wedlug sposobu drugiego, osobny roztwór galanów i arsenianów w alkaliach pod¬ daje sie elektrolizie, celem katodowego osadze¬ nia stopu gal-arsen. Mieszanka gazowa wycho¬ dzac z przestrzeni katodowej przy elektroli¬ tycznym odpedzeniu germanowodoru zawiera oprócz wodoru i germanowodoru jeszcze jako zanieczyszczenie arsenowodór, ewentualnie anty- monowodór, cynowodór itp. Gazy te przepro¬ wadza sie przez urzadzenia osuszajace (H2SO4, CaCl2, krzemionka), a nastepnie przy pomocy pochlaniaczy stalych jak CuS04, AgN03, NaOH itp. oraz pochlaniaczy cieklych jak: olej sojowy, dwusiarczek wegla, terpentyna, roztwór NaOH, CUSO4 itp. absorbuje sie i adsorbuje sie wszel¬ kie zanieczyszczenia. Po oczyszczeniu mieszanka wodorku germanu z wodorem przechodzi znowu przez urzadzenia osuszajace, a nastepnie od¬ dziela sie germanowodór od wodoru przez skro¬ plenie i wymrozenie. Zestalony wodorek ger¬ manu po wyparowaniu wprowadza sie do pieca, gdzie na powierzchni metalicznego germanu na-^ stepuje rozklad termiczny GeH4, przy czym osadza sie wydzielony german.German otrzymany na tej drodze osiaga zna¬ cznie wyzszy stopien czystosci niz german otrzy¬ many z czterochlorku germanu znanymi sposo¬ bami.Fig. ii przedstawia schemat urzadzenia do ano¬ dowego rozpuszczania germanu, galu i arsenu, oraz elektrolizera dla otrzymania galu metalicz¬ nego, fig. 2 — schemat urzadzenia do elektroli¬ tycznego wydzielania germanowodoru, fig. 3 — schemat aparatury do oczyszczania germanowo¬ doru z innych gazowych zanieczyszczajacych wodorków metali, fig. 4 — schemat aparatury do skraplania i zestalania germanowodoru, fig. 5 — schemat pieca do rozkladu termicznego germa¬ nowodoru, fig. 6—schemat urzadzenia do selek¬ tywnego rozpuszczania germanu oraz arsenu i galu wedlug [sposobu drugiego, fig. 7 — schemat urzadzenia do elektrolitycznego wydzielania germanowodoru Oraz elektrolizera dla otrzymy¬ wania galu metalicznego wedlug sposobu dru¬ giego, fig. 8 — schemat aparatury do oczyszcza¬ nia germanowodoru z innych gazowych zanie¬ czyszczajacych wodorków metali wedlug sposobu drugiego, fig. 9 — schemat aparatury do skrapla¬ nia i zestalania germanowodoru wedlug sposobu drugiego, fig. 10 — schemat pieca do rozkladu termicznego germanowodoru wedlug sposobu drugiego.Wedlug sposobu pierwszego zbiornik ano¬ dowy b napelnia sie koncentratem germano- i galonosnym, który dostaje sie ze zbiornika e, Elektroliza przebiega w wannie elektrolitycznej a w przestrzeni anodowej, oddzielonej od strefykatodowej przy pomocy przepony d. Katoda c wykonana jest z blachy zelaznej, a elektrolit z roztworu wodorotlenków alkalii odprowadza sie z wanny elektrolitycznej a" po katodowym wy¬ dzielaniu germanu i straceniu galu.Roztwór otrzymany w elektrolitycznym roz¬ puszczeniu, zawierajacy german, gal i arsen, wprowadza sie do przestrzeni katodowej elek- trólizera a', oddzielonego przepona d' od prze¬ strzeni anodowej, celem wydzielenia germanu w postaci germanowodoru, pozostaly zas roztwór wprowadza sie do wanny elektrolitycznej a", celem uzyskania galu metalicznego. Wydzielona mieszanke germanowodoru z wodorem przepro¬ wadza sie przez urzadzenia osuszajace /, do po- chlaniaczów cieklych g oraz stalych h, nastep¬ nie zas przez urzadzenia osuszajace /' do chlo¬ dni i. Zestalony w chlodni i germanowodór wyparowuje w wyparnikach j, po czym gaz przechodzi przez piec k. W piecu k na pretach germanowych l nastepuje rozklad termiczny GeH4.Wedlug sposobu drugiego zbiornik anodowy b napelnia sie koncentratem germano- i galonos- nym, który dostaje sie tu ze zbiornika e. Elek¬ trolize przeprowadza sie w wannie elektrolitycz¬ nej a w przestrzeni anodowej, oddzielonej od strefy katodowej przy pomocy przepony d. Ka¬ toda c wykonana z blachy zelaznej. Elekrolity roztworu wodorotlenków alkalicznych odprowa¬ dza sie z wanny elektrolitycznej a"' po katodo¬ wym wytraceniu galu jako stopu Ga-As. Roz¬ twór otrzymany w procesie elektrolitycznego rozpuszczania, zawierajacy gal i arsen, wprowa¬ dza sie do wanny elektrolitycznej a"' celem elektrolitycznego osadzenia galu jako stopu Ga-As. Zbiornik anodowy b przenosi sie do wanny elektrolitycznej a', gdzie nastepuje ano¬ dowe utlenienie i rozpuszczenie germanu. Elek¬ trolit: roztwór wodorotlenków alkaliów wyply¬ wa z elektrolizera a". Roztwór zawierajacy ger¬ man, celem wydzielenia go w postaci GeH4 wprowadza sie do przestrzeni katodowej elek¬ trolizera a", oddzielonego przepona d" od prze¬ strzeni anodowej. Germanowodór przechodzi nastepnie przez takie samo urzadzenie jak przy sposobie pierwszym. PL
Claims (1)
- Zastrzezenia patentowe 1. Sposób otrzymywania germanu i galu metalicz¬ nego z koncentratów zawierajacych zwiazki germanu oraz galu, znamienny tym, ze german i gal rozpuszcza sie w procesie elektrolitycz¬ nym w roztworze alkalicznym •przy równo¬ czesnym utlenianiu anodowym w przestrzeni anodowej, oddzielonej od katodowej przepona, przy czym stosuje sie przeciwpradowa cyrku¬ lacje elektrolitów. r 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze roztwór alkaliczny germanianów lub mie¬ szanke germanianów i galahów jako elektro¬ lit poddaje sie elektrolizie wyrzadzeniu zam¬ knietym i oddzielonym od anolitu przy pomocy przepony, stosujac przy tym jako katode rózne materialy jak Pb, Zn, Cd itp., przy czym roztwór alkaliczny po usunieciu zen germanu, a nastepnie galu powraca jako rozpuszczalnik regenerowany do rozpuszczenia anodowego. 3. Sposób wedlug zastrz. 1 i 2, znamienny tym, ze wydzielony na katodzie zanieczyszczony germanowodór oddziela sie od zanieczyszczen gazowych (jak AsHs, SbHs, SnH4, SAH4 itd.) przez ich absorfocje w rozpuszczalnikach cie¬ klych, jak dwusiarczek wegla, olej sojowy, ter¬ pentyna, roztwór siarczanu miedzi it£. oraz adsorbcje na substancjach stalych jak wodo¬ rotlenek sodu, siarczan miedzi itp. 4. Sposób wedlug zastrz. 1-3, znamienny tym, ze oczyszczony germanowodór poddaje sie termicznemu rozkladowi na powierzchni me¬ talowej, najlepiej na germanie metalicznym. 5. Odmiana sposobu wedlug zastrz. 1-4, zna¬ mienna tym, ze stosuje sie selektywne roz¬ puszczanie germanu i galu oraz gestosc pradu anodowego 2 A/dcm2 przy rozpuszczaniu galu i ponizej 2 A/dcm2 przy rozpuszczaniu ger¬ manu. Zaklady Cynkowe „Trzebinia" Zsstepca: dr Adam Poniklo, rzecznik patentowyFig. /. Do opisu patentowego nr 42269 b" ^7 +^- ^ i) H Fig. 2. fjfiF Fig, 3. FigA. Fig. 5. F,g.$. L,t4- V 1 i£L —i ^ 7. tF fij *£. U LU i^z^ Hn T/p. 9. Fig.lo. ^ZJMlTWWWW Wzór jcdn. CWD, zam. Nr 312 Kc/PJ KZG 2 - 17GG - 28. 8. 59 - 100 - Al "plsm. 7 ki. [60 g - Wa-10 PL
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL42269B1 true PL42269B1 (pl) | 1959-06-15 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2861030A (en) | Electrolytic production of multivalent metals from refractory oxides | |
| US3114685A (en) | Electrolytic production of titanium metal | |
| CA3013259A1 (en) | Optimized ore processing using molten salts for leaching and thermal energy source | |
| CN101906643B (zh) | 高铅铋银合金电解法脱铅工艺 | |
| JP6524973B2 (ja) | 高純度In及びその製造方法 | |
| NO139096B (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av hoeyrent elektrolyttkobber ved reduksjonselektrolyse | |
| JP2017066520A (ja) | ビスマスの精製方法 | |
| US2848395A (en) | Electrolytic process for production of titanium | |
| GB1427228A (en) | Process for the electrolytic recovery of metals | |
| WO2018138917A1 (ja) | ビスマスの精製方法 | |
| US4287030A (en) | Process for producing high-purity indium | |
| US3737381A (en) | Apparatus for treating copper ores | |
| US4085017A (en) | Recovery of copper and nickel from alloys | |
| EP0161224B1 (en) | Process for copper chloride aqueous electrolysis | |
| JPS5836654B2 (ja) | 硫化鉛を含む材料から鉛を製出する方法 | |
| PL42269B1 (pl) | ||
| US2892763A (en) | Production of pure elemental silicon | |
| US4895626A (en) | Process for refining and purifying gold | |
| US1996985A (en) | Process for parting residues, sweepings, and the like containing precious metals | |
| US2939823A (en) | Electrorefining metallic titanium | |
| JP4797163B2 (ja) | テルル含有粗鉛の電解方法 | |
| US4737351A (en) | Process for the recovery of tin | |
| US3288561A (en) | Chlorination of electrolytic copper refinery slimes in a molten salt bath | |
| US3334034A (en) | Electrolytic method for the recovery of nickel and cobalt | |
| RU2181780C2 (ru) | Способ извлечения золота из золотосодержащих полиметаллических материалов |