PL218274B1 - Wyrzutnia magnetronowa - Google Patents
Wyrzutnia magnetronowaInfo
- Publication number
- PL218274B1 PL218274B1 PL392786A PL39278610A PL218274B1 PL 218274 B1 PL218274 B1 PL 218274B1 PL 392786 A PL392786 A PL 392786A PL 39278610 A PL39278610 A PL 39278610A PL 218274 B1 PL218274 B1 PL 218274B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- magnetron
- cathode
- core
- thermoelectric module
- launcher
- Prior art date
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 8
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims description 4
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest wyrzutnia magnetronowa z modułem termoelektrycznym, służąca jako urządzenie rozpylające do napylania bądź reaktywnego napylania magnetronowego i znajduje zastosowanie przy nanoszeniu powłok metalicznych, półprzewodnikowych i dielektryków na różnego rodzaju podłożach, metodą rozpylania jonowego.
Znana planarna wyrzutnia magnetronowa do napylania posiada katodę w postaci płaskiej tarczy, która stanowi szczelne zamknięcie obudowy katody, zawierające wewnątrz układ źródeł pola magnetycznego (najczęściej magnesów stałych lub elektromagnesów).
Z polskiego opisu patentowego nr 150 534, znane jest magnetronowe urządzenie rozpylające, które ma zbiornik próżniowy, wewnątrz którego znajduje się anoda i chłodzona wodą katoda, której układ magnetyczny wykonany jest z koncentrycznie rozmieszczonych magnesów pierścieniowych wewnętrznego i zewnętrznego, pomiędzy którymi znajduje się co najmniej jeden magnes mający wycięcie promieniowe, w którym usytuowany jest magnes o biegunowości zgodnej z biegunowością magnesu zewnętrznego i wewnętrznego.
Również z polskiego opisu patentowego nr 159 242 znana jest wyrzutnia magnetronowa, przeznaczona do zastosowana w szczególności jako źródło próżniowego napylania cienkich warstw jednoi wieloskładnikowych. Wyrzutnia ta składa się z magnetycznego obwodu i zespołu wysokonapięciowej elektrody, chłodzonej wodą. Elektroda jest połączona z korpusem. Płyta elektrody ma centralnie wbudowaną wkładkę, stanowiącą nabiegunnik magnetyczny.
Powszechnie stosowany sposób chłodzenia wyrzutni magnetronowej polega na tym, że obudowa katody ma również zamknięcie z drugiej strony, od której do jej wnętrza doprowadzony jest czynnik chłodzący (najczęściej woda) na nierozpylaną powierzchnię katody. Wadą tego sposobu jest to, że wymagany jest cały układ chłodzenia katody w zamkniętym bądź otwartym obiegu czynnika chłodzącego, a także to, że obieg medium chłodniczego wymaga szczelnej izolacji próżniowej co może powodować osłabienie pola magnetycznego na powierzchni katody, poprzez odsunięcie jej od źródła pola magnetycznego. Występowanie medium chodzącego wiąże się także z możliwością wystąpienia wycieku cieczy do komory próżniowej spowodowany ewentualną nieszczelnością.
W znanych patentach WO 2004023515 A1 oraz US 5333726 A poruszane jest zagadnienie biernego odprowadzania ciepła z katody np. przez nałożoną warstwę diamentopodobną warstwę węglową DLC (WO 2004023515 A1) lub specjalny pierścień z materiałów o wysokim przewodnictwie cieplnym.
Istotą wynalazku jest zastosowanie aktywnego sposobu chłodzenia katody magnetronowej przy użyciu modułu termoelektrycznego. Wyrzutnia magnetronowa według wynalazku charakteryzuje się tym, że ciepło wydzielane na katodzie magnetronowej podczas pracy wyrzutni odbierane jest w sposób aktywny za pomocą modułu termoelektrycznego poprzez rdzeń katody. Ciepło odprowadzone przez moduł termoelektryczny obierane jest przez radiator chłodzony powietrzem.
Przedmiot wynalazku jest bliżej objaśniony na rysunku, który przedstawia schemat ideowy przykładowego rozwiązania planarnej wyrzutni magnetronowej chłodzonej modułem termoelektrycznym.
Wyrzutnia magnetronowa składa się z radiatora 1 przymocowanego do modułu termoelektrycznego 2. Zimna strona modułu przymocowana jest do metalicznego rdzenia 3, katody, który jest odizolowany od anody 5 za pomocą cylindrycznej osłony z materiału izolacyjnego 4 i pierścieni dystansowych 10 wykonanych z materiału izolacyjnego stanowiących zarazem docisk mocujący katodę magnetronową wykonaną z rozpylanego materiału 9. Układ magnetyczny oparty jest na ferromagnetycznym rdzeniu 6 oraz na magnesie w formie pierścienia 7 i walca 8, bezpośrednio do których dociskana jest katoda magnetronowa 9. Wysokie napięcie doprowadzone jest do rdzenia 3 katody z zasilacza Z 11.
Claims (2)
1. Wyrzutnia magnetronowa wyposażona w układ magnetyczny oparty na ferromagnetycznym rdzeniu oraz magnesie i katodzie, znamienna tym, że rdzeń (3) katody magnetronowej ma przymocowany moduł termoelektryczny (2) wraz z radiatorem (1), przy czym zimna strona modułu termoelektrycznego (2) przymocowana jest do metalicznego rdzenia (3) katody, który jest odizolowany od anody (5) za pomocą cylindrycznej osłony (4) z materiału izolacyjnego oraz pierścieni dystansowych (10) wykonanych z materiału izolacyjnego.
PL 218 274 B1
2. Wyrzutnia magnetronowa według zastrz. 1, znamienna tym, że pierścienie dystansowe (10) stanowią zarazem docisk mocujący rdzeń (3) katody magnetronowej z katodą (9) magnetronową wykonaną z rozpylanego materiału zaś układ magnetyczny oparty jest na ferromagnetycznym rdzeniu (6) oraz na magnesie w formie pierścienia (7) i/lub walca (8), bezpośrednio do których dociskana jest katoda (9) magnetronowa.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL392786A PL218274B1 (pl) | 2010-10-28 | 2010-10-28 | Wyrzutnia magnetronowa |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL392786A PL218274B1 (pl) | 2010-10-28 | 2010-10-28 | Wyrzutnia magnetronowa |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL392786A1 PL392786A1 (pl) | 2012-05-07 |
| PL218274B1 true PL218274B1 (pl) | 2014-10-31 |
Family
ID=46060872
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL392786A PL218274B1 (pl) | 2010-10-28 | 2010-10-28 | Wyrzutnia magnetronowa |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL218274B1 (pl) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3340274A1 (en) | 2016-12-24 | 2018-06-27 | WINDLIPIE spólka z ograniczona odpowiedzialnoscia spólka komandytowa | Magnetron sputtering device |
-
2010
- 2010-10-28 PL PL392786A patent/PL218274B1/pl unknown
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3340274A1 (en) | 2016-12-24 | 2018-06-27 | WINDLIPIE spólka z ograniczona odpowiedzialnoscia spólka komandytowa | Magnetron sputtering device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL392786A1 (pl) | 2012-05-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101994093B (zh) | 磁控溅镀装置 | |
| JP6655007B2 (ja) | 放射冷却増進エンドホール・イオン源 | |
| US5333726A (en) | Magnetron sputtering source | |
| KR101955748B1 (ko) | 온라인 조정 가능 막대 자석 | |
| ES2527877T3 (es) | Procedimiento para el depósito de capas eléctricamente aislantes | |
| US20100243620A1 (en) | Plasma processing apparatus | |
| JP2015041451A (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JP4498366B2 (ja) | 流体によって冷却されるイオン源 | |
| TW200506084A (en) | Equipment for cathode-sputtering | |
| US11174946B2 (en) | Magnetic fluid seal | |
| CN110988005B (zh) | 一种真空系统下磁化材料的强永磁体装置 | |
| JP2012234930A5 (pl) | ||
| TWI611734B (zh) | 電漿處理用磁控管電極、磁控管濺鍍電極及使用該電極之成膜方法 | |
| JP2016148108A (ja) | ネオジム磁石の表面コーティング装置及び表面コーティング方法 | |
| PL218274B1 (pl) | Wyrzutnia magnetronowa | |
| KR102158659B1 (ko) | 캡슐화된 마그네트론 | |
| JP2009293089A (ja) | スパッタリング装置 | |
| JP3917348B2 (ja) | アーク蒸発源、真空蒸着装置及び真空蒸着方法 | |
| CN104746028B (zh) | 可实时监控晶片温度的压环系统及磁控溅射设备 | |
| KR20130078371A (ko) | 스퍼터 장치 | |
| JPH10125495A (ja) | 壁密着型電極を使用した位相制御多電極型交流放電装置 | |
| JP7173973B2 (ja) | 電磁石アセンブリの製造方法 | |
| KR20190087575A (ko) | 보편적으로 장착 가능한 엔드 블록 | |
| KR20040072272A (ko) | 상용교류전원을 이용한 진공 증발원 도가니의 가열방법 | |
| US20160358763A1 (en) | Hermetically Sealed Magnetic Keeper Cathode |