PL207199B1 - Układ detekcyjny elektronów wtórnych do skaningowego mikroskopu elektronowego - Google Patents
Układ detekcyjny elektronów wtórnych do skaningowego mikroskopu elektronowegoInfo
- Publication number
- PL207199B1 PL207199B1 PL359748A PL35974803A PL207199B1 PL 207199 B1 PL207199 B1 PL 207199B1 PL 359748 A PL359748 A PL 359748A PL 35974803 A PL35974803 A PL 35974803A PL 207199 B1 PL207199 B1 PL 207199B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- plate
- microporous plate
- microporous
- axis
- scanning electron
- Prior art date
Links
- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims description 12
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 4
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 2
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/244—Detectors; Associated components or circuits therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/244—Detection characterized by the detecting means
- H01J2237/2443—Scintillation detectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/2602—Details
- H01J2237/2605—Details operating at elevated pressures, e.g. atmosphere
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest układ detekcyjny elektronów wtórnych do skaningowego mikroskopu elektronowego, zwłaszcza przeznaczonego do pracy w zakresie ciśnień w komorze przedmiotowej rzędu 100 Pa.
Z polskiego opisu patentowego nr 189 008, pt. „Wysokociśnieniowy skaningowy mikroskop elektronowy”, znany jest układ detekcyjny elektronów wtórnych, złożony z detektora elektronów wtórnych typu scyntylacyjnego, umieszczonego na przeciw płytki mikroporowatej, wbudowanej w przegrodę próżniową pomiędzy komorą pośrednią i kolumną elektronooptyczną. Scyntylator detektora i płytka mikroporowata są umieszczone współosiowo z kolumną elektronooptyczną, wzdłuż której przebiega wiązka elektronowa. Z publikacji: W. Słówko, pt. „Electron signal acquisition in HPSEM”, Vacuum 70/2-3 (2003) p. 157, znane jest bardziej funkcjonalne rozwiązanie układu detekcyjnego elektronów wtórnych do skaningowego mikroskopu elektronowego, w którym scyntylator jest umieszczony z boku osi elektronooptycznej. W obu rozwiązaniach, strumień elektronów wtórnych wprowadzany przez otwór w dolnej ś ciance komory poś redniej, stanowią cy dolną aperturę ukł adu, pada symetrycznie na powierzchnię wejściową płytki mikroporowatej umieszczonej na osi kolumny elektronooptycznej i przechodząc przez płytkę mikroporowatą ulega powieleniu. Po stronie wyjściowej płytki mikroporowatej, wzmocniony strumień elektronów wtórnych zostaje przyciągnięty przez scyntylator spolaryzowany wysokim napięciem, podlegając końcowej detekcji. Aktywna powierzchnia wejściowa płytki mikroporowatej ma tutaj kształt pierścienia, współosiowego z wiązką elektronową skanującą preparat. W części centralnej ogranicza ją średnica otworu wykonanego na osi płytki mikroporowatej dla przepuszczenia wiązki elektronowej skanującej, zaś jej rozmiar zewnętrzny wyznacza średnica okna wlotowego, jakie stanowi otwór w płytce przesłaniającej, mocującej równocześnie płytkę mikroporowatą w korpusie detektora.
Niedogodnością techniczną znanych układów detekcyjnych elektronów wtórnych do skaningowego mikroskopu elektronowego, w których skład wchodzą płytki mikroporowate jest fakt, że płytki mikroporowate przepuszczają gaz z komory pośredniej do obszaru kolumny elektronooptycznej, gdzie konieczne jest utrzymanie wysokiej próżni. Powoduje to konieczność zwiększenia wydajności układu próżniowego. Zmniejszenie przewodności gazowej płytki mikroporowatej można uzyskać przez zmniejszenie średnicy jej okna wlotowego i aktywnej powierzchni wejściowej. W układzie o symetrii osiowej, spowoduje to jednak zmniejszenie strumienia elektronów wtórnych padających na powierzchnię wejściową płytki mikroporowatej, której centralna część jest nieaktywna. W rezultacie nastąpi zmniejszenie czułości układu detekcyjnego. Poza tym, przepływ przez płytkę mikroporowatą gazów znajdujących się w komorze pośredniej, szczególnie węglowodorów polimeryzujących, powoduje po pewnym czasie jej zanieczyszczenie i konieczność wymiany.
Istota wynalazku polega na tym, że płytka mikroporowata jest uszczelniona w korpusie, a aktywna powierzchnia wejściowa płytki mikroporowatej jest usytuowana asymetrycznie względem osi skanującej wiązki elektronowej.
Korzystnie, płytka mikroporowata jest zamocowana powyżej dolnej przesłony dławiącej z małym otworem na osi wiązki skanującej, najkorzystniej jest, gdy dolna przesłona dławiąca jest spolaryzowana dodatnim napięciem.
Korzystnie, płytka mikroporowata ma otwór na osi wiązki skanującej.
Korzystnie, płytka mikroporowata jest przytwierdzona za pomocą płytki przesłaniającej najkorzystniej jest, gdy płytka przesłaniająca ma otwór odsłaniający aktywną powierzchnię wejściową płytki mikroporowatej.
Korzystnym jest również to, że płytka mikroporowata jest zamontowana w korpusie przestawnie, przy czym płytka mikroporowata obracana jest o pewien kąt, wokół osi wiązki skanującej.
Zaletą układu detekcyjnego elektronów wtórnych do skaningowego mikroskopu elektronowego według wynalazku jest możliwość zmniejszenia przepływu gazu do kolumny elektronooptycznej przy jednoczesnym zachowaniu jego wysokiej czułości, a także możliwość zwiększenia czasu eksploatacji płytki mikroporowatej.
Przedmiot wynalazku jest objaśniony w przykładzie wykonania na rysunku, który przedstawia układ detekcyjny elektronów wtórnych do skaningowego mikroskopu elektronowego w przekroju poprzecznym.
Układ detekcyjny elektronów wtórnych do skaningowego mikroskopu elektronowego jest zamontowany w korpusie 1, wykonanym z teflonu. W dolnej części korpusu 1 jest umieszczona dolna apertura
PL 207 199 B1 układu 2, w postaci płytki metalowej z małym otworem na osi wiązki skanującej WE. Powyżej dolnej apertury układu 2, jest umieszczona płytka mikroporowata 3. Płytka mikroporowata 3 ma otwór na osi wiązki elektronowej skanującej WE, w którym za pośrednictwem uszczelki teflonowej jest zamocowana rurka ekranująca 4. Płytka mikroporowata 3 jest uszczelniona w korpusie 1 za pomocą uszczelki 5 i przytwierdzona za pomocą pł ytki przesł aniającej 6 z otworem ograniczają cym aktywną powierzchnię wejściową 7. Pomiędzy dolną aperturą układu 2 i płytką przesłaniającą 6 jest umieszczona elektroda odchylająca 8. Po stronie wyjściowej płytki mikroporowatej 3 umieszczona jest płytka ekranująca 9, której część jest zakrzywiona w ten sposób, że odsłania aktywną powierzchnię wyjściową 10, znajdującą się po stronie scyntylatora 11 i światłowodu 12 zamocowanego z boku korpusu 1.
Tak zbudowany układ detekcyjny elektronów wtórnych do skaningowego mikroskopu elektronowego działa w następujący sposób.
Elektrony wtórne WE generowane z powierzchni preparatu mikroskopowego 13, są przyciągane przez spolaryzowaną dodatnim napięciem dolną aperturę układu 2 i przechodzą przez otwór w tej elektrodzie. Po drugiej stronie dolnej apertury układu 2, strumień elektronów wtórnych WE jest odchylany w kierunku aktywnej powierzchni wejściowej 7 przez elektrodę odchylającą 8. Przy odpowiednim doborze napięć zasilających dolną aperturą układu 2, elektrodę odchylającą 8 i płytkę przesłaniającą 6, można uzyskać zogniskowanie strumienia elektronów wtórnych WE na aktywnej powierzchni wejściowej 7. Elektrony wtórne WE przechodzą przez mikroskopijne kanaliki płytki mikroporowatej 3, zasilanej napięciem rzędu 1 kV, ulegając przy tym powieleniu dzięki emisji wtórnej ze ścianek. Wzmocniony strumień elektronów wtórnych WE opuszcza płytkę mikroporowatą 3 w obrębie aktywnej powierzchni wyjściowej 10, nie zasłoniętej przez płytkę ekranującą 9. Następnie, elektrony wtórne WE zostają przyciągnięte przez scyntylator 11, spolaryzowany dodatnim napięciem około 12 kV, gdzie generują sygnał świetlny transportowany dalej przez światłowód 12.
Przy dobrym zogniskowaniu elektronów wtórnych WE, można zredukować aktywną powierzchnię wejściową 7, tak by stanowiła niewielki ułamek całkowitej powierzchni wejściowej płytki mikroporowatej 3. Nastąpi wtedy proporcjonalna redukcja szkodliwego przepływu gazu na drugą stronę płytki mikroporowatej 3. Poza tym, ponieważ aktywna powierzchnia wejściowa 7 znajduje się z boku płytki mikroporowatej 3, w przypadku jej zanieczyszczenia nie trzeba wymieniać całej płytki. Wystarczy ją obrócić o pewien kąt względem osi wiązki elektronowej skanującej we, by w otworze płytki przysłaniającej 6, wyznaczającym aktywną powierzchnię wejściową 7, znalazł się niezanieczyszczony fragment płytki mikroporowatej 3. Taki zabieg można powtarzać kilkakrotnie, w zależności od rozmiarów aktywnej powierzchni wejściowej 7 i całkowitej powierzchni płytki mikroporowatej 3.
Claims (7)
- Zastrzeżenia patentowe1. Układ detekcyjny elektronów wtórnych do skaningowego mikroskopu elektronowego, przeznaczony zwłaszcza do pracy w zakresie ciśnień w komorze przedmiotowej rzędu 100 Pa, wyposażony w korpus, scyntylator, płytkę mikroporowatą i dolną przesłonę dławiącą, znamienny tym, że płytka mikroporowata (3) jest uszczelniona w korpusie (1), a aktywna powierzchnia wejściowa (7) płytki mikroporowatej (3) jest usytuowana asymetrycznie względem osi skanującej wiązki elektronowej (WE).
- 2. Układ według zastrz. 1, znamienny tym, że płytka mikroporowata (3) jest zamocowana powyżej dolnej przesłony dławiącej (2) z małym otworem na osi wiązki skanującej (WE).
- 3. Układ według zastrz. 2, znamienny tym, że dolna przesłona dławiąca (2) jest spolaryzowana dodatnim napięciem.
- 4. Układ według zastrz. 1, znamienny tym, że płytka mikroporowata (3) ma otwór na osi wiązki skanującej (WE).
- 5. Układ według zastrz. 1 albo 4, znamienny tym, że płytka mikroporowata (3) jest przytwierdzona za pomocą płytki przesłaniającej (6).
- 6. Układ według zastrz. 5, znamienny tym, że płytka przesłaniająca (6) ma otwór odsłaniający aktywną powierzchnię wejściową (7) płytki mikroporowatej (3).
- 7. Układ według zastrz. 1 albo 2, albo 4, albo 5, albo 6, znamienny tym, że płytka mikroporowata (3) jest zamontowana w korpusie (1) przestawnie, przy czym płytka mikroporowata (3) obracana jest o pewien kąt, wokół osi wiązki skanującej (WE).
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL359748A PL207199B1 (pl) | 2003-04-17 | 2003-04-17 | Układ detekcyjny elektronów wtórnych do skaningowego mikroskopu elektronowego |
| PCT/PL2004/000026 WO2004093120A2 (en) | 2003-04-17 | 2004-04-09 | Secondary electron detector unit for a scanning electron microscope |
| EP04726840A EP1614137B1 (en) | 2003-04-17 | 2004-04-09 | Secondary electron detector unit for a scanning electron microscope |
| DE602004017153T DE602004017153D1 (de) | 2003-04-17 | 2004-04-09 | Sekundärelektronendetektor für ein rasterelektronenmikroskop |
| US11/248,431 US7425708B2 (en) | 2003-04-17 | 2005-10-13 | Secondary electron detector unit for a scanning electron microscope |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL359748A PL207199B1 (pl) | 2003-04-17 | 2003-04-17 | Układ detekcyjny elektronów wtórnych do skaningowego mikroskopu elektronowego |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL359748A1 PL359748A1 (pl) | 2004-10-18 |
| PL207199B1 true PL207199B1 (pl) | 2010-11-30 |
Family
ID=33297595
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL359748A PL207199B1 (pl) | 2003-04-17 | 2003-04-17 | Układ detekcyjny elektronów wtórnych do skaningowego mikroskopu elektronowego |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7425708B2 (pl) |
| EP (1) | EP1614137B1 (pl) |
| DE (1) | DE602004017153D1 (pl) |
| PL (1) | PL207199B1 (pl) |
| WO (1) | WO2004093120A2 (pl) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| PL207238B1 (pl) * | 2003-10-14 | 2010-11-30 | Politechnika Wroclawska | Układ detekcyjny elektronów wtórnych i wstecznie rozproszonych do skaningowego mikroskopu elektronowego |
| US7531812B2 (en) * | 2003-10-27 | 2009-05-12 | Politechnika Wroclawska | Method and system for the directional detection of electrons in a scanning electron microscope |
| US7952073B2 (en) * | 2008-08-01 | 2011-05-31 | Direct Electron, Lp | Apparatus and method including a direct bombardment detector and a secondary detector for use in electron microscopy |
| US10439964B2 (en) * | 2010-04-22 | 2019-10-08 | Nokia Technologies Oy | Method and apparatus for providing a messaging interface |
| US9659260B2 (en) | 2011-03-15 | 2017-05-23 | Dan Caligor | Calendar based task and time management systems and methods |
| CN104508791B (zh) | 2012-07-30 | 2017-03-01 | Fei 公司 | 环境扫描电子显微镜气体喷射系统 |
| US9418819B2 (en) | 2013-09-06 | 2016-08-16 | Kla-Tencor Corporation | Asymmetrical detector design and methodology |
| US9478390B2 (en) * | 2014-06-30 | 2016-10-25 | Fei Company | Integrated light optics and gas delivery in a charged particle lens |
| US20160196248A1 (en) * | 2015-01-05 | 2016-07-07 | Musaed Ruzeg N. ALRAHAILI | System, apparatus, method and computer program product to set up a request for, generate, receive and send official communications |
| DK201670595A1 (en) * | 2016-06-11 | 2018-01-22 | Apple Inc | Configuring context-specific user interfaces |
| US11239048B2 (en) * | 2020-03-09 | 2022-02-01 | Kla Corporation | Arrayed column detector |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62184752A (ja) * | 1986-02-07 | 1987-08-13 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビ−ム測長機 |
| JP3081393B2 (ja) * | 1992-10-15 | 2000-08-28 | 株式会社日立製作所 | 走査電子顕微鏡 |
| US5408098A (en) * | 1993-09-10 | 1995-04-18 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for detecting low loss electrons in a scanning electron microscope |
| US6265812B1 (en) * | 1996-11-06 | 2001-07-24 | Hamamatsu Photonics K.K. | Electron multiplier |
| US5990483A (en) * | 1997-10-06 | 1999-11-23 | El-Mul Technologies Ltd. | Particle detection and particle detector devices |
| PL189008B1 (pl) | 1998-10-21 | 2005-05-31 | Politechnika Wroclawska | Wysokociśnieniowy skaningowy mikroskop elektronowy |
| EP2088615B1 (en) * | 2000-03-31 | 2013-02-13 | Hitachi Ltd. | Charged particle beam device |
-
2003
- 2003-04-17 PL PL359748A patent/PL207199B1/pl unknown
-
2004
- 2004-04-09 EP EP04726840A patent/EP1614137B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-04-09 WO PCT/PL2004/000026 patent/WO2004093120A2/en not_active Ceased
- 2004-04-09 DE DE602004017153T patent/DE602004017153D1/de not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-10-13 US US11/248,431 patent/US7425708B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US7425708B2 (en) | 2008-09-16 |
| WO2004093120A2 (en) | 2004-10-28 |
| US20060027748A1 (en) | 2006-02-09 |
| WO2004093120A3 (en) | 2004-12-09 |
| EP1614137B1 (en) | 2008-10-15 |
| EP1614137A2 (en) | 2006-01-11 |
| DE602004017153D1 (de) | 2008-11-27 |
| PL359748A1 (pl) | 2004-10-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7629578B2 (en) | Charged particle beam device | |
| US7589328B2 (en) | Gas field ION source for multiple applications | |
| EP0462554B1 (en) | Charged particle beam apparatus | |
| JP5571355B2 (ja) | ガス増幅を使用した走査透過電子顕微鏡 | |
| JP5707286B2 (ja) | 荷電粒子線装置、荷電粒子線装置の調整方法、および試料の検査若しくは試料の観察方法。 | |
| PL207199B1 (pl) | Układ detekcyjny elektronów wtórnych do skaningowego mikroskopu elektronowego | |
| JP2002507045A (ja) | 走査型電子顕微鏡 | |
| CN111819654B (zh) | 具有改善的信号电子检测性能的多束检测设备 | |
| CN108352284B (zh) | 宽场大气压扫描电子显微镜 | |
| US8859992B2 (en) | Charged particle beam devices | |
| US20060249674A1 (en) | Detector system of secondary and backscattered electrons for a scanning electron microscope | |
| PL217173B1 (pl) | Układ detekcyjny elektronów i skaningowy mikroskop elektronowy | |
| JP5976147B2 (ja) | 荷電粒子線装置、荷電粒子線装置の調整方法、および試料の検査若しくは試料の観察方法。 | |
| PL329339A1 (en) | High-pressure scanning electron microscope | |
| TWI807604B (zh) | 帶電粒子束設備、掃描電子顯微鏡和操作帶電粒子束設備的方法 | |
| PL208151B1 (pl) | Układ do detekcji elektronów w skaningowym mikroskopie elektronowym | |
| KR20250077808A (ko) | 대물 렌즈 커버 및 이를 포함하는 하전입자선 장치 |