PL200034B1 - Układ warstw dla przezroczystych podłoży, sposób wytwarzania układu warstw, przezroczyste podłoże, zastosowanie przezroczystego podłoża - Google Patents
Układ warstw dla przezroczystych podłoży, sposób wytwarzania układu warstw, przezroczyste podłoże, zastosowanie przezroczystego podłożaInfo
- Publication number
- PL200034B1 PL200034B1 PL341644A PL34164499A PL200034B1 PL 200034 B1 PL200034 B1 PL 200034B1 PL 341644 A PL341644 A PL 341644A PL 34164499 A PL34164499 A PL 34164499A PL 200034 B1 PL200034 B1 PL 200034B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- layer
- metal oxide
- composite
- sno2
- composite metal
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 20
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 161
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims abstract description 34
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 28
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 17
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims abstract description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 claims description 6
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011029 spinel Substances 0.000 claims description 5
- 229910007717 ZnSnO Inorganic materials 0.000 claims description 4
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 3
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000037072 sun protection Effects 0.000 claims 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 25
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 21
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910003107 Zn2SnO4 Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 229910001128 Sn alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000005188 flotation Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 2
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100023185 Transcriptional repressor scratch 1 Human genes 0.000 description 1
- 101710171414 Transcriptional repressor scratch 1 Proteins 0.000 description 1
- 229910007694 ZnSnO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 229910001676 gahnite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000006115 industrial coating Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000002905 metal composite material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
- BNEMLSQAJOPTGK-UHFFFAOYSA-N zinc;dioxido(oxo)tin Chemical compound [Zn+2].[O-][Sn]([O-])=O BNEMLSQAJOPTGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
- C03C17/2453—Coating containing SnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3618—Coatings of type glass/inorganic compound/other inorganic layers, at least one layer being metallic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3652—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/211—SnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/216—ZnO
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/24—Doped oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/24—Doped oxides
- C03C2217/242—Doped oxides with rare earth metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/78—Coatings specially designed to be durable, e.g. scratch-resistant
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering
- C03C2218/155—Deposition methods from the vapour phase by sputtering by reactive sputtering
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12861—Group VIII or IB metal-base component
- Y10T428/12896—Ag-base component
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Przedmiotem wynalazku jest uk lad warstw dla przezroczystych pod lo zy, zw laszcza dla szyb szklanych, z co najmniej jedn a kompozytow a warstw a tlenku metalu zawieraj ac a mieszany tlenek Zn i Sn wytwarzan a przez reaktywne napylanie katodowe z tarczy wykonanej ze stopu metali zawieraj a- cego Zn i Sn, charakteryzuj acy si e tym, ze kompozytowa warstwa tlenku metalu zawiera jeden lub kilka pierwiastków takich jak Ga, In, B, Y, La, Ge, P, As, Sb, Bi, Ce, Zr, Nb i Ta, przy czym ilo sc pier- wiastków Ga, In, B, Y, La, Ge, P, As, Sb, Bi, Ce, Zr, Nb i/lub Ta w kompozytowej warstwie tlenku me- talu w stosunku do ca lkowitej ilo sci metalu jest w zakresie od 0,5% wagowych do 6,5% wagowych i przy czym grubo sc kompozytowej warstwy tlenku metalu wynosi od 2 do 6 nm lub od 7 do 50 nm. Przedmiotem wynalazku jest przezroczyste pod lo ze ze szk la lub materia lu polimerowego, sztywnego lub elastycznego, charakteryzuj ace si e tym, ze jest powleczone na co najmniej jednej ze swych po- wierzchni uk ladem warstw wed lug wynalazku. Przedmiotem wynalazku jest zastosowanie przezroczy- stego pod lo za wed lug wynalazku do wytwarzania monolitycznych, laminowanych lub wielokrotnych szyb. Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania uk ladu warstw wed lug wynalazku, przez napy- lanie charakteryzuj acy si e tym, ze kompozytow a warstw e nanosi si e przez reaktywne napylanie z tarczy metalowej, która zawiera Zn, Sn i co najmniej jeden z nast epuj acych pierwiastków: Ga, In, B, La, Ge, P, As, Bi, Ce, Zr, Nb, Ta. PL PL PL PL
Description
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest układ warstw dla przezroczystych podłoży, sposób wytwarzania układu warstw, przezroczyste podłoże oraz zastosowanie przezroczystego podłoża. Układ warstw dla przezroczystych podłoży, zwłaszcza dla szyb szklanych, ma co najmniej jedną kompozytową warstwę tlenku metalu wytwarzaną przez reaktywne napylanie katodowe z tarczy wykonanej ze stopu metali zawierającego Zn i Sn. Podłoża, na które nanosi się te warstwy, mogą być wykonane także z przezroczystych polimerów organicznych i mogą być sztywne lub elastyczne. Sztywne podłoża polimerowe mogą być wybrane z grupy poliwęglanów lub z grupy pewnych poliuretanów. Polimerem może być także poli(metakrylan metylu). Jako elastyczne podłoża można na przykład wybrać poli(tereftalan etylenu) (PET) w postaci folii, którą następnie laminuje się z dwoma termoplastycznymi arkuszami (na przykład z poliwinylobutyralu PVB) umieszczonymi pomiędzy dwiema szybami szklanymi.
Zgłoszenia patentowe EP 0183052 i EP 0226993 ujawniają przezroczyste układy warstwowe o małej wartości E, w których funkcyjna warstwa metalu, zwłaszcza cienka warstwa srebra, jest osadzona pomiędzy dwiema dielektrycznymi warstwami przeciwodbiciowymi, będącymi produktem utleniania stopu Zn/Sn. Zależnie od stosunku Zn:Sn wytwarzana w ten sposób warstwa kompozytowa zawiera większą lub mniejszą ilość cynianu cynku Zn2SnO4, który nadaje warstwie szczególnie korzystne właściwości, zwłaszcza trwałości mechanicznej i chemicznej. Jako tarczę stosuje się korzystnie stopy Zn:Sn o stosunku wagowym Zn:Sn od 46:54 do 50:50.
W technicznym sposobie napylania przy użyciu przemysłowych układów powłokowych napylanie warstw Zn2SnO4 z tarcz ze stopu Zn/Sn jest trudniejsze niż napylanie czystych warstw ZnO lub SnO. Jest to spowodowane tym, że szczególnie na początku napylania materiał na tarczy i na częściach komory napylania daje efekty izolacji, które w konsekwencji powodują otrzymywanie wadliwych wyrobów i odrzutów produkcyjnych. Ponadto tarcze stopowe tego rodzaju muszą pracować ze zmniejszonymi szybkościami napylania, to znaczy ze zmniejszoną mocą elektryczną, ponieważ stop tarczy ma temperaturę topnienia niższą od temperatury topnienia tych dwóch składników, zwłaszcza w obszarze składu eutektycznego. Z tego powodu chłodzenie tego rodzaju tarcz musi być szczególnie intensywne. To z kolei można uzyskać tylko stosując tarcze o specjalnym kształcie, których wytwarzanie jest stosunkowo drogie.
Wynalazek ma na celu z jednej strony dalszą poprawę mechanicznych i chemicznych właściwości warstw dielektrycznych zawierających cynian cynku, a z drugiej strony ograniczenie trudności występujących podczas napylania stopów Zn/Sn.
Przedmiotem wynalazku jest układ warstw dla przezroczystych podłoży, zwłaszcza dla szyb szklanych, z co najmniej jedną kompozytową warstwą tlenku metalu zawierającą mieszany tlenek Zn i Sn wytwarzaną przez reaktywne napylanie katodowe z tarczy wykonanej ze stopu metali zawierają cego Zn i Sn, charakteryzujący się tym, że kompozytowa warstwa tlenku metalu zawiera jeden lub kilka pierwiastków takich jak Ga, In, B, Y, La, Ge, P, As, Sb, Bi, Ce, Zr, Nb i Ta, przy czym ilość pierwiastków Ga, In, B, Y, La, Ge, P, As, Sb, Bi, Ce, Zr, Nb i/lub Ta w kompozytowej warstwie tlenku metalu w stosunku do całkowitej ilości metalu jest w zakresie od 0,5% wagowych do 6,5% wagowych i przy czym grubość kompozytowej warstwy tlenku metalu wynosi od 2 do 6 nm lub od 7 do 50 nm.
Korzystnie, w układzie warstw według wynalazku, kompozytowa warstwa tlenku metalu zawiera od 35% wagowych do 70% wagowych Zn i od 29% wagowych do 64,5% wagowych Sn, w każdym przypadku w przeliczeniu na całkowitą ilość metalu.
Korzystnie, w układzie warstw według wynalazku, kompozytowa warstwa tlenku metalu zawiera od 66% wagowych do 69% wagowych Zn, od 29% wagowych do 32% wagowych Sn i od 1% wagowego do 4% wagowych Sb.
Korzystnie, w układzie warstw według wynalazku, kompozytowa warstwa tlenku metalu jest dolną i/lub górną przeciwodbiciową warstwą układu warstw zawierającego jedną lub kilka funkcyjnych warstw wytwarzanych z metalu, takiego jak srebro.
Korzystnie, w układzie warstw według wynalazku, kompozytowa warstwa tlenku metalu jest warstwą barierową dla dyfuzji w układzie wielowarstwowym.
Korzystnie, w układzie warstw według wynalazku, kompozytowa warstwa tlenku metalu jest podwarstwą górnej i/lub dolnej warstwy przeciwodbiciowej.
Korzystnie, w układzie warstw według wynalazku, kolejność warstw jest następująca:
SnO2/ZnO/Ag/ewentualnie warstwa blokująca/SnO2/ZnSnO:Sb; lub kolejność jest następująca:
SnO2/ZnO/Al/ewentualnie warstwa blokująca/SnO2/SiO2/SnO2/SnZnO:Sb.
PL 200 034 B1
Korzystnie, układ warstw według wynalazku, zawiera co najmniej jedną warstwę funkcyjną z metalu takiego jak Ag, NiCr, stal lub z azotku takiego jak TiN lub ZrN.
Korzystnie, układ warstw według wynalazku, spełnia funkcję układu przeciwsłonecznego, układu o małej emisji, układu przeciwodbiciowego lub układu elektrycznego.
Korzystnie, w układzie warstw według wynalazku, kompozytowa warstwa ma strukturę spinelową.
Przedmiotem wynalazku jest przezroczyste podłoże ze szkła lub materiału polimerowego, sztywnego lub elastycznego, które według wynalazku jest powleczone, na co najmniej jednej ze swych powierzchni wyżej określonym układem warstw.
Przedmiotem wynalazku jest zastosowanie wyżej określonego przezroczystego podłoża, do wytwarzania monolitycznych, laminowanych lub wielokrotnych szyb.
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania wyżej określonego układu warstw przez napylanie, który według wynalazku polega na tym, że kompozytową warstwę nanosi się przez reaktywne napylanie z tarczy metalowej, która zawiera Zn, Sn i co najmniej jeden z następujących pierwiastków: Ga, In, B, La, Ge, P, As, Bi, Ce, Zr, Nb, Ta.
Kompozytowa warstwa tlenku metalu zawiera jeden lub kilka pierwiastków takich jak Al, Ga, In, B, Y, La, Ge, Si, P, As, Sb, Bi, Ce, Ti, Zr, Nb i Ta.
Stwierdzono, że wprowadzenie wymienionych pierwiastków, które bez wyjątku należą do pierwiastków grupy głównej i do podgrup III, IV i V okresowego układu pierwiastków, daje znaczną poprawę wszystkich ważnych właściwości warstwy, a także poprawę wydajności napylania.
Mieszane tlenki wytwarzane przez wprowadzane pierwiastki, na przykład przez wprowadzenie Sb, mają jakościowy skład ZnO · ZnSnO3 · Zn2SnO4 · ZnAl2O4 · ZnSb2O6 w zależności od wyboru ilości metali Zn i Sn. Podczas krystalizacji niektóre z tych tlenków tworzą struktury spinelowe, które same z siebie krystalizują ze szczególnie gęstym upakowaniem atomów. Uzyskane ulepszenia właściwości warstw można chyba wyjaśnić szczególnie dużą gęstością upakowania struktur spinelowych uzyskaną przez wprowadzenie wymienionych dodatkowych pierwiastków, podczas gdy korzystny wpływ napylania można chyba przypisać zwiększeniu przewodnictwa elektrycznego mieszanych tlenków w wyniku wprowadzenia dodatkowych pierwiastków. Dzięki gęstej strukturze krystalicznej warstwy mają nie tylko szczególnie dobre właściwości trwałości mechanicznej i chemicznej, ale także utrudniają one procesy dyfuzji w tę warstwę i przez tę warstwę. Zmniejsza to ryzyko wystąpienia zmian w wymienionej warstwie lub w dowolnej innej warstwie układu, które można przypisać cząsteczkom wody, tlenu i Na+ i, o ile to można zastosować (to jest gdy uk ład zawiera warstwę lub warstwy Ag), Ag+ dyfundującym w warstwę, zwłaszcza podczas wygrzewania i przechowywania.
Dla uzyskania maksymalnie gęstej struktury spinelowej jest szczególnie korzystne, jeśli promień jonowy dodanego pierwiastka nie różni się zbytnio od promienia jonowego Zn2+ i Sn4+, które mają, odpowiednio, promienie jonowe 8,3·10-11 m [0,83 A] (Zn2+) i 7,4·10-11 m [0,74 A] (Sn4+). Warunek ten jest spełniony zwłaszcza dla pierwiastków Al i Sb, przy czym promień jonowy Al3+ = 5,7·10-11 m [0,57 A] i Sb5+ = = 6,2·10-11 m [0,62 A]. Z drugiej strony, jak już wspomniano, wprowadzenie wymienionych dodatkowych pierwiastków do warstwy co najmniej częściowo krystalicznej zwiększa przewodnictwo elektryczne warstw tlenku na powierzchniach czołowych i na ściankach komór powlekania, a także na samej powierzchni tarczy. W wyniku znacznie poprawiają się z kolei czasy pracy tarczy w sposobie napylania, dzięki czemu poprawiają się nie tylko właściwości warstwy, ale widoczna jest także poprawa samego napylania.
Ilość pierwiastków wprowadzanych według wynalazku do kompozytowej warstwy tlenku metali wynosi korzystnie od 0,5% wagowych do 6,5% wagowych, w przeliczeniu na całkowitą ilość metalu.
Stwierdzono, że szczególnie korzystne są takie składy kompozytowej warstwy tlenku metalu, w których ilość Zn wynosi od 35% wagowych 70% wagowych i ilość Sn od 29% wagowych do 64,5% wagowych, w każdym przypadku w przeliczeniu na całkowitą ilość metalu. Do wytwarzania tej kompozytowej warstwy tlenku metalu stosuje się tarcze stopowe zawierające korzystnie od 50% wagowych do 70% wagowych, korzystniej od 66% wagowych do 69% wagowych Zn, korzystnie od 29% wagowych do 50% wagowych, korzystniej od 29% wagowych do 32% wagowych Sn i korzystnie od 1% wagowego do 4% wagowych, korzystniej od 1,5% wagowych do 3% wagowych Al lub Sb.
Kompozytowe warstwy metalu według wynalazku można w szczególności stosować korzystnie w częściowo odbijających układach warstw z metalową warstwą funkcyjną ze srebra. W takich układach warstw można je stosować zarówno jako warstwę wiążącą lub przeciwodbiciową, jako warstwę kondensacyjną dla naniesionych na powierzchnię warstw srebra, jako warstwę blokującą pod lub nad warstwami srebra i jako podwarstwę w obszarze dolnej i/lub górnej warstwy układu warstw.
PL 200 034 B1
Poniżej opisano przykładowe układy warstw, przy czym otrzymywane właściwości porównano z wł a ściwoś ciami odpowiadają cego ukł adu warstw wedł ug stanu techniki.
Dla oceny właściwości warstw na próbkach wykonywano 10 różnych prób, a mianowicie:
A. Twardość przy zarysowaniu
W tym przypadku przeciąga się z okreś loną szybkością nad warstwą obciążoną igłę. Obciążenie powodujące widoczne ślady zarysowania jest miarą twardości przy zarysowaniu.
B. Twardość przy zarysowaniu po przechowywaniu w wodzie
Sposób postępowania jak w A, lecz po przechowywaniu próbek w ciągu 30 minut w wodzie o temperaturze 20°C.
C. Próba płukania Erichsena według normy ASTM 2486
Ocena wzrokowa.
D. Próba skraplania wody (WCI, od „water condensation test)
Próbki poddaje się próbie w ciągu 140 h w temperaturze mb 60°C przy 100-proc. wilgotności względnej. Ocena wzrokowa.
E. Wypłukiwanie Zn2+
Pomiar wykonuje się sposobem płytkowym według Kimel et al., Z. Glastechnische Berichte 59 (1986), strona 252 i następne. Próba informuje o odporności na hydrolizę układów warstw zawierających Zn.
F. Wypłukiwanie Ag+
Pomiar wykonuje się także sposobem płytkowym według Kimel et al., stosowanym do oznaczania wypłukiwania Zn2+. Wynik pomiaru podaje analityczną ocenę gęstości warstw dielektrycznych nad warstwą Ag.
G. Próba kwasu solnego
W tym przypadku zanurza się próbkę szkła na 8 minut w 0,01 N HCl w temperaturze 38°C i ocenia procentowy ubytek zdolnoś ci emisyjnej.
H. Próba kwasu solnego, ocena wzrokowa
Próbkę szkła zanurza się w kwasie solnym, jak w próbie
G. Kryterium oceny jest wygląd zanurzonej krawędzi.
I. Próba EMF
Próbę opisano w Z. Silikattechnik 32 (1981), str. 216, „Untersuchungen zur elektrochemischen
Prijfung dϋnner Metallschichten (Elektrochemiczne badania cienkich warstw metalu). Próba informuje o pasywacyjnych właściwościach warstwy powierzchniowej nad warstwą srebra i o odporności warstwy Ag na korozję. Im mniejsza jest różnica potencjału, w mV, pomiędzy układem warstw a elektrodą odniesienia, tym lepsza jest jakość warstwy.
K. Próba warstwy wodnej
Stronę warstwową próbek styka się w ciągu 24 h z cienką warstwą wody. Próba informuje o trwałości podczas przechowywania powleczonych szyb szklanych ułożonych w stosie, jeśli pomiędzy szybami szklanymi znajdują się ślady wody. Ocenę wykonuje się wzrokowo.
Przykład porównawczy 1
W takim samym układzie powlekania i w porównywalnych warunkach powlekania naniesiono ponownie na szyby szkła flotacyjnego o grubości 6 mm następujący układ warstw według stanu techniki:
szyba szkła - 40 nm SnO2 - 2 nm CrNi - 10 nm Ag - 4 nm CrNi - 34 nm SnO2 - 4 nm Zn2SnO4 - 4,5 nm TiO2.
Warstwę Zn2SnO4 ponownie reaktywnie napylano z tarczy ze stopu metali, która składała się z 52,4% wagowych Zn i 47,6% wagowych Sn. Podczas napylania warstwy Zn2SnO4 znowu występowały niepożądane łuki elektryczne powodujące wady w powłokach. Warstwę TiO2 reaktywnie napylano z tarczy metalicznego tytanu przy użyciu katody DMS i gazu roboczego stanowiącego mieszaninę Ar/O2/N2.
Próby wymienione pod literami A do K wykonano ponownie na próbkach powlekanych szyb szkła. Wyniki prób zebrano w Tabeli 2, razem z wynikami prób dla próbek wytwarzanych według przykładu 1.
P r z y k ł a d 1
W takich samych warunkach powlekania i dla takiego samego układu powlekania naniesiono na szyby szkła flotacyjnego o grubości 6 mm układ warstw według wynalazku z następującą kolejnością warstw:
szyba szkła - 40 nm SnO2 - 2 nm CrNi - 10 nm Ag - 4 nm CrNi - 34 nm SnO2 - 4 nm ZnxSnySbzOn - 4,5 nm TiO2.
Jedyna różnica w porównaniu z przykładem porównawczym polegała na tym, że w celu wytworzenia podwarstwy zawierającej mieszany tlenek Zn/Sn tarczę wykonano ze stopu zawierającego
PL 200 034 B1
68% wagowych Zn, 30% wagowych Sn i 2% wagowych Sb. Podczas napylania tego stopu nie stwierdzono niepożądanych łuków.
Próbki powleczonych szyb poddano próbom wymienionym pod literami A do K. Wyniki zebrano w tabeli 2 poniż ej, razem z wynikami otrzymanymi dla próbek z przykł adu porównawczego 1:
T a b e l a 1
Próba | Przykład porównawczy 1 | Przykład 1 |
A, g | 30 | 45 - 50 |
B, g | 35 | 55 |
C, 1000 uderzeń | 1 średnia rysa | 1 mała rysa |
D, 140 h | słabe czerwienienie | bez wad nawet po 400 h |
E, mg/25 ml | 0,19 | 0,15 |
F, mg/25 ml | 0,35 | 0,01 |
G, ΔE w% | 1 | 0 |
H | czerwone smugi | bez wad |
I, mV | 80 | 30 |
K | bez wad | bez wad |
Wyniki prób pokazują, że przykrywająca warstwa TiO2 ma lepszą mieszalność z kompozytową warstwą według wynalazku niż z warstwą cynianu cynku z przykładu porównawczego. Ujawnia się to w dalszej poprawie wyników prób, zwł aszcza znacznie lepszych wyników w próbie D (próba skraplania wody) i w wyraźnie lepszym wyniku próby EMF. Wynik wypłukiwanie Ag+ jest także wyraźnie lepszy, tak więc ten układ warstw ma ogólnie doskonałą jakość.
Jako wniosek można podać, że kompozytowe warstwy według wynalazku umożliwiają zarówno uproszczenie nanoszenia, jak również poprawę chemicznej i mechanicznej trwałości zawierających je układów, zwłaszcza gdy warstwa według wynalazku jest warstwą ostatnią lub bezpośrednią warstwą przed ostatnią warstwą układu (czyli warstwą przedostatnią). Taki rodzaj warstwy umożliwia otrzymywanie bardziej odpornych układów warstw stosujących jako warstwy dielektryczne tlenek metalu, co zbliża ich trwałość do trwałości układów stosujących zamiast nich warstwy dielektryczne wytwarzane z azotków, takich jak azotek krzemu. Wydaje się, że poprawa trwałości jest jeszcze większa przy zastosowaniu Sb zamiast Al w warstwie kompozytowego tlenku.
Wynalazek można stosować dla podłoży szklanych lub dla dowolnych innych przezroczystych podłoży, korzystnie wytwarzanych z organicznych polimerów, o czym wspomniano we wstępnej części zgłoszenia.
Warstwy według wynalazku można stosować jako cienką ochronną warstwę powierzchniową lub jako warstwę „blokującą” (określenie to oznacza, że warstwa ta chroni warstwę funkcyjną, z metalu takiego jak Ag, przed pogorszeniem właściwości spowodowanym przez nanoszenie następnej warstwy tlenku metalu sposobem reaktywnego napylania w obecności tlenu), na przykład w zakresie grubości od około 2 nm do około 6 nm. Grubość może być większa, na przykład od około 7 nm do około 50 nm, jeśli warstwa ma spełniać znaczącą rolę optyczną.
Warstwy według wynalazku można wprowadzać do wielu układów cienkich warstw interferencyjnych, zwłaszcza w układach zawierających przezroczyste warstwy funkcyjne o właściwościach przeciwsłonecznych lub o małej emisji, jak warstwa (warstwy) Ag. Układ może zawierać jedną lub kilka warstw Ag, jak podano w następujących opisach: EP 638528, EP 718250, EP 844219, EP 847965, FR2784984 i FR2784985. Układ może także zawierać warstwę funkcyjną innego rodzaju, na przykład z metalu takiego jak stop Ni-Cr lub stal, jak podano w opisie EP 511901, lub z azotku takiego jak TiN lub ZrN.
Warstwa dielektryczna według wynalazku może być częścią i przeciwodbiciowego układu warstw podanego w opisie EP 728712 lub WO 97/43244, częścią dowolnego innego układu warstw o funkcji termicznej, optycznej lub elektrycznej i stosują cego dielektryczne/tlenkowe warstwy o wartości współczynnika załamania światła około 2.
PL 200 034 B1
Podłoża można stosować także do wytwarzania monolitycznych (z pojedynczym podłożem), laminowanych lub wielokrotnych szyb (szyby podwójne, przednie szyby samochodowe i tym podobne). Można je także wstawiać w budynkach, pojazdach, tablicach reklamowych i tym podobnych.
Przykładowo podano poniżej pewne układy warstw ml zawierających warstwę według wynalazku: podłoże przezroczyste/SnO2/ZnO/Ag/ewentualnie warstwa blokująca taka jak NiCr/SnO2/ZnSnO:Al lub Sb;
podłoże przezroczyste/SnO2/ZnO/Al/ewentualnie warstwa blokująca, taka jak NiCr lub Ti/SnO2/SiO2/SnO2/ZnSnO: Al lub Sb.
Układy mogą zawierać dwie warstwy Ag.
Należy także podkreślić, że ilości metalu, takiego jak Al lub Sb, wprowadzonego do tarczy metalowej są w przybliżeniu takie same, jak w warstwach otrzymywanych z tarczy.
Układy mogą oczywiście zawierać kilka warstw według wynalazku, zwłaszcza warstwę blokującą i warstwę powierzchniową.
Claims (13)
1. Układ warstw dla przezroczystych podłoży, zwłaszcza dla szyb szklanych, z co najmniej jedną kompozytową warstwą tlenku metalu zawierającą mieszany tlenek Zn i Sn, wytwarzaną przez reaktywne napylanie katodowe z tarczy wykonanej ze stopu metali zawierającego Zn i Sn, znamienny tym, że kompozytowa warstwa tlenku metalu zawiera jeden lub kilka pierwiastków takich jak Ga, In, B, Y, La, Ge, P, As, Sb, Bi, Ce, Zr, Nb i Ta, przy czym ilość pierwiastków Ga, In, B, Y, La, Ge, P, As, Sb, Bi, Ce, Zr, Nb i/lub Ta w kompozytowej warstwie tlenku metalu w stosunku do całkowitej ilości metalu jest w zakresie od 0,5% wagowych do 6,5% wagowych i przy czym grubość kompozytowej warstwy tlenku metalu wynosi od 2 do 6 nm lub od 7 do 50 nm.
2. Układ warstw według zastrz. 1, znamienny tym, że kompozytowa warstwa tlenku metalu zawiera od 35% wagowych do 70% wagowych Zn i od 29% wagowych do 64,5% wagowych Sn, w każ dym przypadku w przeliczeniu na cał kowitą ilość metalu.
3. Układ warstw według zastrz. 2, znamienny tym, że kompozytowa warstwa tlenku metalu zawiera od 66% wagowych do 69% wagowych Zn, od 29% wagowych do 32% wagowych Sn i od 1% wagowego do 4% wagowych Sb.
4. Układ warstw według zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, że kompozytowa warstwa tlenku metalu jest dolną i/lub górną przeciwodbiciową warstwą układu warstw zawierającego jedną lub kilka funkcyjnych warstw wytwarzanych z metalu, takiego jak srebro.
5. Układ warstw według zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, że kompozytowa warstwa tlenku metalu jest warstwą barierową dla dyfuzji w układzie wielowarstwowym.
6. Układ warstw według zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, że kompozytowa warstwa tlenku metalu jest podwarstwą górnej i/lub dolnej warstwy przeciwodbiciowej.
7. Układ warstw zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, że kolejność warstw jest następująca:
SnO2/ZnO/Ag/ewentualnie warstwa blokująca/SnO2/ZnSnO:
Sb; lub kolejność jest następująca:
SnO2/ZnO/Al/ewentualnie warstwa blokująca/SnO2/SiO2/SnO2/SnZnO: Sb.
8. Układ warstw według zastrz. 1, albo 2, znamienny tym, że zawiera co najmniej jedną warstwę funkcyjną z metalu takiego jak Ag, NiCr, stal lub z azotku takiego jak TiN lub ZrN.
9. Układ warstw według zastrz. 1, albo 2, znamienny tym, że spełnia on funkcję układu przeciwsłonecznego, układu o małej emisji, układu przeciwodbiciowego lub układu elektrycznego.
10. Układ warstw według zastrz. 1, znamienny tym, że kompozytowa warstwa ma strukturę spinelową.
11. Przezroczyste podłoże ze szkła lub materiału polimerowego, sztywnego lub elastycznego, znamienne tym, że jest powleczone na co najmniej jednej ze swych powierzchni układem warstw określonym w zastrz. 1.
12. Zastosowanie przezroczystego podłoża określonego w zastrz. 11, do wytwarzania monolitycznych, laminowanych lub wielokrotnych szyb.
13. Sposób wytwarzania układu warstw określonego w zastrz. 1, przez napylanie, znamienny tym, że kompozytową warstwę nanosi się przez reaktywne napylanie z tarczy metalowej, która zawiera Zn, Sn i co najmniej jeden z następujących pierwiastków: Ga, In, B, La, Ge, P, As, Bi, Ce, Zr, Nb, Ta.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19848751A DE19848751C1 (de) | 1998-10-22 | 1998-10-22 | Schichtsystem für transparente Substrate |
PCT/FR1999/002548 WO2000024686A1 (fr) | 1998-10-22 | 1999-10-20 | Empilement de couches pour substrats transparents |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
PL341644A1 PL341644A1 (en) | 2001-04-23 |
PL200034B1 true PL200034B1 (pl) | 2008-11-28 |
Family
ID=7885313
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PL341644A PL200034B1 (pl) | 1998-10-22 | 1999-10-20 | Układ warstw dla przezroczystych podłoży, sposób wytwarzania układu warstw, przezroczyste podłoże, zastosowanie przezroczystego podłoża |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6541133B1 (pl) |
EP (1) | EP1042247B1 (pl) |
JP (1) | JP5085814B2 (pl) |
AT (1) | ATE457961T1 (pl) |
CA (1) | CA2315917C (pl) |
DE (2) | DE19848751C1 (pl) |
ES (1) | ES2341405T3 (pl) |
PL (1) | PL200034B1 (pl) |
PT (1) | PT1042247E (pl) |
WO (1) | WO2000024686A1 (pl) |
Families Citing this family (73)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU1339700A (en) | 1998-11-02 | 2000-05-22 | Presstek, Inc. | Transparent conductive oxides for plastic flat panel displays |
US7976916B2 (en) | 1999-05-25 | 2011-07-12 | Saint-Gobain Vitrage | Refrigerated display case having a transparent insulating glazing unit |
FR2810118B1 (fr) * | 2000-06-07 | 2005-01-21 | Saint Gobain Vitrage | Substrat transparent comportant un revetement antireflet |
FR2827855B1 (fr) | 2001-07-25 | 2004-07-02 | Saint Gobain | Vitrage muni d'un empilement de couches minces reflechissant les infrarouges et/ou le rayonnement solaire |
DE10152211C1 (de) * | 2001-10-23 | 2003-05-15 | Saint Gobain | Schichtsystem für transparente Substrate |
US6748264B2 (en) * | 2002-02-04 | 2004-06-08 | Fook Tin Technologies Limited | Body fat analyzer with integral analog measurement electrodes |
FR2856627B1 (fr) | 2003-06-26 | 2006-08-11 | Saint Gobain | Substrat transparent muni d'un revetement avec proprietes de resistance mecanique |
FR2856678B1 (fr) * | 2003-06-26 | 2005-08-26 | Saint Gobain | Vitrage muni d'un empilement de couches minces reflechissant les infrarouges et/ou le rayonnement solaire |
DE10333619B3 (de) * | 2003-07-24 | 2004-12-16 | Saint-Gobain Glass Deutschland Gmbh | Schichtsystem für transparente Substrate |
DE10351616A1 (de) * | 2003-11-05 | 2005-06-16 | Arcon Ii Flachglasveredelung Gmbh & Co Kg | Thermisch hoch belastbares Low-E Schichtsystem, Verfahren zur Herstellung und Verwendung der mit dem Schichtsystems beschichteten Substrate |
FR2862961B1 (fr) | 2003-11-28 | 2006-02-17 | Saint Gobain | Substrat transparent utilisable alternativement ou cumulativement pour le controle thermique, le blindage electromagnetique et le vitrage chauffant. |
DE50312424D1 (de) * | 2003-12-02 | 2010-04-01 | Scheuten Glasgroep Bv | Temperbares Low-e-Schichtsystem; Verfahren zur Herstellung und Low-e-Glasprodukt mit Schichtsystem |
FR2865420B1 (fr) | 2004-01-28 | 2007-09-14 | Saint Gobain | Procede de nettoyage d'un substrat |
EP1833768B1 (fr) | 2004-12-21 | 2012-06-13 | AGC Glass Europe | Feuille de verre portant un empilage multi-couches |
US7393584B2 (en) * | 2005-01-14 | 2008-07-01 | Solutia Incorporated | Multiple layer laminate with moisture barrier |
US7628896B2 (en) * | 2005-07-05 | 2009-12-08 | Guardian Industries Corp. | Coated article with transparent conductive oxide film doped to adjust Fermi level, and method of making same |
US20070071983A1 (en) * | 2005-09-23 | 2007-03-29 | Solutia, Inc. | Multiple layer glazing bilayer |
US7342716B2 (en) | 2005-10-11 | 2008-03-11 | Cardinal Cg Company | Multiple cavity low-emissivity coatings |
FR2898123B1 (fr) * | 2006-03-06 | 2008-12-05 | Saint Gobain | Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques |
US7695785B2 (en) | 2006-07-14 | 2010-04-13 | Guardian Industries Corp. | Coated article with oxides and/or oxynitrides of antimony and/or zinc dielectric layer(s) and corresponding method |
EP2125361B1 (en) * | 2006-12-28 | 2019-01-23 | 3M Innovative Properties Company | Nucleation layer for thin film metal layer formation |
FR2911130B1 (fr) | 2007-01-05 | 2009-11-27 | Saint Gobain | Procede de depot de couche mince et produit obtenu |
US8334452B2 (en) * | 2007-01-08 | 2012-12-18 | Guardian Industries Corp. | Zinc oxide based front electrode doped with yttrium for use in photovoltaic device or the like |
DE202008018513U1 (de) | 2008-01-04 | 2014-10-31 | Saint-Gobain Glass France | Dispositif |
GB0803702D0 (en) * | 2008-02-28 | 2008-04-09 | Isis Innovation | Transparent conducting oxides |
FR2928461B1 (fr) * | 2008-03-10 | 2011-04-01 | Saint Gobain | Substrat transparent comportant un revetement antireflet |
US20090260678A1 (en) * | 2008-04-16 | 2009-10-22 | Agc Flat Glass Europe S.A. | Glass substrate bearing an electrode |
US8350451B2 (en) * | 2008-06-05 | 2013-01-08 | 3M Innovative Properties Company | Ultrathin transparent EMI shielding film comprising a polymer basecoat and crosslinked polymer transparent dielectric layer |
BR112012002495A2 (pt) | 2009-08-03 | 2019-09-24 | 3M Innovative Properties Co | "processo para formação de filmes delgados opticamente transparentes de metal condutivo ou liga metálica e filmes fabricados a partir dos mesmos" |
KR20110033769A (ko) * | 2009-09-25 | 2011-03-31 | (주)엘지하우시스 | 저방사 유리 및 이의 제조방법 |
US10654748B2 (en) | 2010-03-29 | 2020-05-19 | Vitro Flat Glass Llc | Solar control coatings providing increased absorption or tint |
US10654747B2 (en) | 2010-03-29 | 2020-05-19 | Vitro Flat Glass Llc | Solar control coatings with subcritical copper |
US9932267B2 (en) | 2010-03-29 | 2018-04-03 | Vitro, S.A.B. De C.V. | Solar control coatings with discontinuous metal layer |
BE1019346A3 (fr) * | 2010-05-25 | 2012-06-05 | Agc Glass Europe | Vitrage de controle solaire. |
US8808882B2 (en) * | 2010-09-17 | 2014-08-19 | Guardian Industries Corp. | Coated article having boron doped zinc oxide based seed layer with enhanced durability under functional layer and method of making the same |
US8815420B2 (en) * | 2010-09-17 | 2014-08-26 | Guardian Industries Corp. | Coated article having zinc oxide seed layer with reduced stress under functional layer and method of making the same |
EP2444381A1 (de) | 2010-10-19 | 2012-04-25 | Saint-Gobain Glass France | Transparente Scheibe |
CN102617050A (zh) * | 2011-01-28 | 2012-08-01 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 镀膜玻璃及其制备方法 |
DE102011000800A1 (de) * | 2011-02-17 | 2012-08-23 | Glas Trösch Holding AG | Beschichtungsverfahren, Schichtsystem sowie Verglasungselement |
US8557391B2 (en) | 2011-02-24 | 2013-10-15 | Guardian Industries Corp. | Coated article including low-emissivity coating, insulating glass unit including coated article, and/or methods of making the same |
US8709604B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-04-29 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising Ni-inclusive ternary alloys, coated articles including barrier layers, and methods of making the same |
US8679633B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-03-25 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising NI-inclusive alloys and/or other metallic alloys, double barrier layers, coated articles including double barrier layers, and methods of making the same |
US8790783B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-07-29 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising Ni and/or Ti, coated articles including barrier layers, and methods of making the same |
US8679634B2 (en) | 2011-03-03 | 2014-03-25 | Guardian Industries Corp. | Functional layers comprising Ni-inclusive ternary alloys and methods of making the same |
CN102350834B (zh) * | 2011-07-20 | 2013-09-25 | 福耀玻璃工业集团股份有限公司 | 一种低辐射镀膜玻璃 |
US9011969B2 (en) * | 2011-12-27 | 2015-04-21 | Intermolecular, Inc. | Low-E panel with improved dielectric layer and method for forming the same |
US9045363B2 (en) * | 2011-12-27 | 2015-06-02 | Intermolecular, Inc. | Low-E panels with ternary metal oxide dielectric layer and method for forming the same |
CN102527370B (zh) * | 2011-12-30 | 2013-07-24 | 洛阳理工学院 | 一种纳米锌掺杂氧化锡/锡酸锌异质结的合成方法 |
ES2621478T3 (es) | 2012-01-10 | 2017-07-04 | Saint-Gobain Glass France | Luna transparente con recubrimiento conductor de electricidad |
MX2014008319A (es) | 2012-01-10 | 2014-08-21 | Saint Gobain | Panel transparente con recubrimiento electricamente conductor. |
US8900729B2 (en) | 2012-11-19 | 2014-12-02 | Guardian Industries Corp. | Coated article with low-E coating including zinc oxide inclusive layer(s) with additional metal(s) |
JP6310935B2 (ja) | 2012-12-06 | 2018-04-11 | サン−ゴバン グラス フランス | 耐火板ガラスおよび耐火グレージングアセンブリ |
WO2014086570A1 (de) | 2012-12-06 | 2014-06-12 | Saint-Gobain Glass France | Glasscheibe mit mindestens einer schutzschicht, die zinn-zinkoxid enthält |
US20140170422A1 (en) * | 2012-12-14 | 2014-06-19 | Intermolecular Inc. | Low emissivity coating with optimal base layer material and layer stack |
US9855726B2 (en) * | 2012-12-17 | 2018-01-02 | Saint-Gobain Glass France | Transparent pane with electrically conductive coating |
MX2015011129A (es) * | 2013-03-12 | 2015-11-13 | Ppg Ind Ohio Inc | Revestimientos de control solar que proporcionan mayor absorcion o tinte. |
US9499899B2 (en) | 2013-03-13 | 2016-11-22 | Intermolecular, Inc. | Systems, methods, and apparatus for production coatings of low-emissivity glass including a ternary alloy |
FR3017128A1 (fr) | 2014-01-31 | 2015-08-07 | Saint Gobain | Vitrage facile a nettoyer comprenant une couche externe a base d'oxyde d'etain et de zinc |
CN103897696B (zh) * | 2014-03-31 | 2016-05-04 | 华南理工大学 | 一种Cr掺杂的纳米近红外长余辉材料及其制备方法 |
EP2949463A1 (de) | 2014-05-28 | 2015-12-02 | Saint-Gobain Glass France | Brandschutzscheibe und Brandschutzverglasung |
JP6251122B2 (ja) * | 2014-05-29 | 2017-12-20 | 積水化学工業株式会社 | バリアフィルム、積層バリアフィルム及びそれらの製造方法 |
US9416049B2 (en) * | 2014-06-23 | 2016-08-16 | Intermolecular, Inc. | Low-e panels and methods for forming the same |
WO2016017649A1 (ja) * | 2014-08-01 | 2016-02-04 | 旭硝子株式会社 | ガラス積層体、無機層付き支持基板、電子デバイスの製造方法及び、無機層付き支持基板の製造方法 |
US9745792B2 (en) | 2015-03-20 | 2017-08-29 | Cardinal Cg Company | Nickel-aluminum blocker film multiple cavity controlled transmission coating |
WO2017021590A1 (fr) | 2015-07-31 | 2017-02-09 | Saint-Gobain Glass France | Vitrage de salle de bain |
US10214956B2 (en) * | 2017-01-05 | 2019-02-26 | Guardian Glass, LLC | Heat treatable coated article having titanium nitride and nickel chrome based IR reflecting layers |
US10179946B2 (en) * | 2017-03-03 | 2019-01-15 | Guardian Glass, LLC | Coated article having low-E coating with IR reflecting layer(s) and niobium bismuth based high index layer and method of making same |
US11078718B2 (en) | 2018-02-05 | 2021-08-03 | Vitro Flat Glass Llc | Solar control coatings with quadruple metallic layers |
GB201805065D0 (en) | 2018-03-28 | 2018-05-09 | Pilkington Group Ltd | Coated glass pane |
DE202019104357U1 (de) | 2019-08-08 | 2019-08-14 | Saint-Gobain Sekurit Deutschland Gmbh & Co. Kg | Verbesserte Widerstandsfähigkeit von PDLC-Folien gegen Strahlung durch IR- und UV-reflektierende Beschichtungen auf Seite II einer Verbundscheibe |
GB201916515D0 (en) * | 2019-11-13 | 2019-12-25 | Pilkington Group Ltd | Coated glass substrate |
WO2022058178A1 (de) | 2020-09-21 | 2022-03-24 | Saint-Gobain Glass France | Projektionsanordnung für ein head-up-display (hud) mit p-polarisierter strahlung |
WO2024022963A1 (de) | 2022-07-29 | 2024-02-01 | Saint-Gobain Glass France | Anordnung für fahrerassistenzsystem |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU561315B2 (en) * | 1984-10-29 | 1987-05-07 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Sputtering films of metal alloy oxide |
US4716086A (en) * | 1984-12-19 | 1987-12-29 | Ppg Industries, Inc. | Protective overcoat for low emissivity coated article |
US4859532A (en) * | 1986-11-27 | 1989-08-22 | Asahi Glass Company Ltd. | Transparent laminated product |
GB2256282A (en) * | 1991-04-02 | 1992-12-02 | Elmwood Sensors | Electrochromic device. |
US5296302A (en) * | 1992-03-27 | 1994-03-22 | Cardinal Ig Company | Abrasion-resistant overcoat for coated substrates |
JPH06318406A (ja) * | 1992-12-16 | 1994-11-15 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 導電性透明基材およびその製造方法 |
JP3373898B2 (ja) * | 1993-07-30 | 2003-02-04 | 出光興産株式会社 | 透明導電膜およびその製造方法 |
US5397920A (en) * | 1994-03-24 | 1995-03-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Light transmissive, electrically-conductive, oxide film and methods of production |
JPH08277112A (ja) * | 1995-04-06 | 1996-10-22 | Central Glass Co Ltd | 透明導電性酸化物材料 |
JPH0985893A (ja) * | 1995-06-26 | 1997-03-31 | Asahi Glass Co Ltd | 積層体 |
US5763064A (en) * | 1995-06-26 | 1998-06-09 | Asahi Glass Company Ltd. | Laminate |
JP3804698B2 (ja) * | 1996-02-16 | 2006-08-02 | 三井化学株式会社 | 積層体及びその製造方法 |
ES2226085T5 (es) * | 1997-12-11 | 2008-03-16 | Saint-Gobain Glass France | Sustrato transparente provisto de capas delgadas con propiedades de reflexion en el infrarrojo. |
DE19852358C1 (de) * | 1998-11-13 | 2000-05-25 | Ver Glaswerke Gmbh | Thermisch hoch belastbares Low-E-Schichtsystem |
-
1998
- 1998-10-22 DE DE19848751A patent/DE19848751C1/de not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-10-20 PL PL341644A patent/PL200034B1/pl not_active IP Right Cessation
- 1999-10-20 US US09/582,077 patent/US6541133B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-10-20 CA CA2315917A patent/CA2315917C/fr not_active Expired - Fee Related
- 1999-10-20 JP JP2000578259A patent/JP5085814B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-10-20 EP EP99949079A patent/EP1042247B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1999-10-20 DE DE69942018T patent/DE69942018D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-10-20 AT AT99949079T patent/ATE457961T1/de active
- 1999-10-20 WO PCT/FR1999/002548 patent/WO2000024686A1/fr active Application Filing
- 1999-10-20 ES ES99949079T patent/ES2341405T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-10-20 PT PT99949079T patent/PT1042247E/pt unknown
-
2003
- 2003-01-30 US US10/354,132 patent/US6783876B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69942018D1 (de) | 2010-04-01 |
CA2315917A1 (fr) | 2000-05-04 |
US6541133B1 (en) | 2003-04-01 |
JP2002528372A (ja) | 2002-09-03 |
WO2000024686A1 (fr) | 2000-05-04 |
US20030143435A1 (en) | 2003-07-31 |
PT1042247E (pt) | 2010-05-20 |
US6783876B2 (en) | 2004-08-31 |
ATE457961T1 (de) | 2010-03-15 |
ES2341405T3 (es) | 2010-06-18 |
DE19848751C1 (de) | 1999-12-16 |
JP5085814B2 (ja) | 2012-11-28 |
EP1042247B1 (fr) | 2010-02-17 |
EP1042247A1 (fr) | 2000-10-11 |
CA2315917C (fr) | 2012-12-18 |
PL341644A1 (en) | 2001-04-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
PL200034B1 (pl) | Układ warstw dla przezroczystych podłoży, sposób wytwarzania układu warstw, przezroczyste podłoże, zastosowanie przezroczystego podłoża | |
KR102299098B1 (ko) | 은 기반 ir 반사 층(들)을 보호하기 위한 도핑된 은 보호층을 갖는 로이 코팅을 갖는 코팅된 물품, 및 이의 제조 방법 | |
US6432545B1 (en) | Glazing provided with a low-emissivity multilayer stack | |
KR101943123B1 (ko) | 저방사율 코팅을 포함하는 코팅된 물품, 코팅된 물품을 포함하는 절연 유리 유닛, 및/또는 이의 제조방법 | |
EP1150928B1 (en) | Glazing panel | |
KR101890968B1 (ko) | Ni 및/또는 Ti를 포함하는 배리어층, 배리어층을 함유하는 코팅된 물품, 및 이를 제조하는 방법 | |
EP0343695B1 (en) | Sputtered films for metal alloy oxides | |
KR101116795B1 (ko) | 투명 기판, 글레이징 조립체, 투명 기판의 기계적인 저항성을 향상시키는 방법 | |
US6159621A (en) | Glass substrate provided with a thin-film stack having reflective properties in the infrared and/or in the region of solar radiation | |
KR0179463B1 (ko) | 어닐링된 저복사율의 피막 | |
US6306525B1 (en) | Transparent substrate provided with thin layers having reflection properties in the infrared | |
US6020077A (en) | Transparent substrate provided with a thin-film stack with properties in the infrared | |
US7981516B2 (en) | Transparent substrate which is covered with a stack of thin layers having reflection properties in infrared and/or solar radiation | |
US7211328B2 (en) | Prestressable low-E layer systems for window panes | |
JPH05221692A (ja) | 可視スペクトル領域内で高い透過特性を有し、かつ熱放射に対して高い反射特性を有する板ガラスの製法及びその板ガラス | |
EP1514853A2 (en) | Glazing | |
JPS63183164A (ja) | 高透過率、低輻射率の耐熱性の窓又はウインドシールド | |
EP3589592B1 (en) | Coated article with low-e coating having ir reflecting system with silver and zinc based barrier layer(s) | |
JP2003034828A (ja) | 電磁波シールド用のAg合金膜、電磁波シールド用Ag合金膜形成体及び電磁波シールド用Ag合金スパッタリングターゲット | |
JP3997177B2 (ja) | 電磁波シールド用Ag合金膜、電磁波シールド用Ag合金膜形成体および電磁波シールド用Ag合金膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット | |
US4806221A (en) | Sputtered films of bismuth/tin oxide | |
US5178966A (en) | Composite with sputtered films of bismuth/tin oxide | |
JP2006505482A (ja) | 透明基材のための層システム及びコーティングされた基材 | |
EP3728157B1 (en) | Coated substrates | |
KR20050089963A (ko) | 투명 기판용 층 시스템과 코팅된 기판 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Decisions on the lapse of the protection rights |
Effective date: 20141020 |