PL150116B2 - Method of obtaining dimethylchlorosilane - Google Patents
Method of obtaining dimethylchlorosilaneInfo
- Publication number
- PL150116B2 PL150116B2 PL27177888A PL27177888A PL150116B2 PL 150116 B2 PL150116 B2 PL 150116B2 PL 27177888 A PL27177888 A PL 27177888A PL 27177888 A PL27177888 A PL 27177888A PL 150116 B2 PL150116 B2 PL 150116B2
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- dimethylchlorosilane
- amino
- reaction
- obtaining
- transsilylation
- Prior art date
Links
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- -1 lithium aluminum hydride Chemical compound 0.000 claims description 11
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 10
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 9
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 claims description 7
- UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N dimethylsilane Chemical compound C[SiH2]C UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 1
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000519 Ferrosilicon Inorganic materials 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N bromomethane Chemical compound BrC GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 2
- ZIROUBWXASUXCS-UHFFFAOYSA-N n-[chloro(dimethyl)silyl]-n-ethylethanamine Chemical compound CCN(CC)[Si](C)(C)Cl ZIROUBWXASUXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYIHWAKEVGKFOA-UHFFFAOYSA-N n-dimethylsilyl-n-ethylethanamine Chemical compound CCN(CC)[SiH](C)C KYIHWAKEVGKFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RTCLHEHPUHREBC-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-dodecamethylhexasilinane Chemical compound C[Si]1(C)[Si](C)(C)[Si](C)(C)[Si](C)(C)[Si](C)(C)[Si]1(C)C RTCLHEHPUHREBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000003747 Grignard reaction Methods 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N chloro(methyl)silane Chemical class C[SiH2]Cl YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- XHFGWHUWQXTGAT-UHFFFAOYSA-N dimethylamine hydrochloride Natural products CNC(C)C XHFGWHUWQXTGAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZFNONVXCZVHRD-UHFFFAOYSA-N dimethylamino(dimethyl)silicon Chemical compound CN(C)[Si](C)C KZFNONVXCZVHRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQDGSYLLQPDQDV-UHFFFAOYSA-N dimethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CNC IQDGSYLLQPDQDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHQRQPAFALORSL-UHFFFAOYSA-N dimethylsilyl(trimethyl)silane Chemical compound C[SiH](C)[Si](C)(C)C FHQRQPAFALORSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007323 disproportionation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000011005 laboratory method Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229940102396 methyl bromide Drugs 0.000 description 1
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 1
- 229920000555 poly(dimethylsilanediyl) polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N trimethyl(methylsilyloxy)silane Chemical compound C[SiH2]O[Si](C)(C)C UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
Description
RZECZPOSPOLITA OPIS PATENTOWY 150 116 POLSKA
URZĄD PATENTOWY RP
Patent dodatkowy do patentu nr-Zgłoszono: 88 04 11 (P. 271778)
Pierwszeństwo :---Zgłoszenie ogłoszono: 89 01 23
Opis patentowy opublikowano: 1992 11 30
Int. Cl.4 C07F 7/14 tZUELlU OGOLI»
Twórcy wynalazku: Jerzy Chruściel, Zygmunt Lasocki
Uprawniony z patentu: Politechnika Łódzka,
Łódź (Polska)
Sposób otrzymywania dimetylochlorosilanu
Przedmiotem wynalazku jest sposób otrzymywania dimetylochlorosilanu, stosowanego jako odczynnik chemiczny oraz dwufunkcyjny monomer krzemoorganiczny w syntezie polimerów i kopolimerów silikonowych.
Znany jest, z książki pt. „Metody elementoorganiczeskoj khimii kriemnij, Moskwa 1968 s. 101-102, sposób otrzymywania dimetylochlorosilanu z krzemu lub żelazokrzemu (tzw. synteza bezpośrednia) polegający na reakcji krzemu lub żelazokrzemu z chlorkiem metylu w obecności katalizatorów w postaci masy kontaktowej, między innymi, miedzi lub srebra. Produktem tej reakcji jest mieszanina metylochlorosilanów przy czym dimetylochlorosilan powstaje z wydajnością zaledwie 0,5-2,7%.
Zgodnie z opisem patentowym Francji nr 1523912 dimetylochlorosilan otrzymuje się z wydajnością ok. 8% w wyniku reakcji krzemu z mieszaniną chlorku metylu i wodoru w obecności mieszaniny miedzi, chlorku niklawego, chlorku kobaltowego i chlorku cynku.
W czasopiśmie Chemical Abstracts 55/1961/, 24353 jest opisany sposób otrzymywania dimetylochlorosilanu w reakcji Grignarda z metylodichlorosilanu, bromku metylu i magnezu w środowisku eteru izometylowego. W sposobie tym dimetylochlorosilan otrzymuje się z wydajnością co najwyżej 34%.
Znany jest również cały szereg laboratoryjnych sposobów otrzymywania dimetylochlorosilanu na drodze reakcji dysproporcjonacji mieszanin chlorosilanów, wodorochlorosilanów względnie wodorosilanów lub wodorosiloksanów, najczęściej w obecności chlorku glinowego.
Dimetylochlorosilan otrzymuje się również w reakcji pentametylodisilanu z chlorowodorem w temperaturze 500°C względnie w reakcji fotolizy dodekametylocykloheksasilanu światłem monochromatycznym o długości fali 254 nm w obecności chlorowodoru w środowisku suchego cykliheksanu. Synteza polidimetylosilanów stosowanych w tych sposobach jako produkty wyjściowe jest kosztowna i nastręcza wiele trudności. Sposoby te opisane są w czasopismach: Journal od the Chemical Society of Japan, Industrial Chemistry Section 60/1957/, 1395, Journal of the Chemical Society 1971, 507 i Chemical Abstracts 75/1971/, 36219.
Z czasopisma Journal of the Chemical Society 1958, 604 oraz z opisu patentowego RFN nr 3 133 885 są znane sposoby otrzymywania dimetylochlorosilan w wyniku rozszczepienia 1,1,3,32
150 116 tetrametylodisiloksanu za pomocą trichlorku boru w temperaturze pokojowej, względnie za pomocą chlorowodoru w temperaturze -18°C.
Sposoby te nie znajdują zastosowania praktycznego, gdyż produkt wyjściowy poddawany rozszczepieniu otrzymuje się z dimetylochlorosilanu.
Znany jest także z czasopisma Journal of Organometallic Chemistry 18/1969/, 371 sposób otrzymywania dimetylochlorosilanu polegający na selektywnej redukcji (dimetyloamino/dimetylochlorosilanu wodorkiem litowo-glinowym w środowisku eteru etylowego, a następnie na reakcji otrzymanego w ten sposób /dimetyloamino/dimetylosilanu z chlorowodorem w śrosowisku dioksanu.
Wydajność tego sposobu nie przekracza 45%. Niedogodnością tego sposobu jest powstawanie, obok właściwego produktu, także niepożądanego, bezużytecznego chlorowodorku dimetyloaminy.
Sposób otrzymywania dimetylochlorosilanu z /amino/dimetylochlorosilanu poddawanego redukcji wodorkiem litowo-glinowym w eterze etylowym w atmosferze gazu obojętnego, według wynalazku polega na tym, że /amino/dimetylosilan, otrzymany w wyniku redukcji /amino/dimetylochlorosilanu wodorkiem litowo-glinowym w eterze etylowym w atmosferze gazu obojętnego, poddaje się reakcji transsililowania dimetylodichlorosilanem w temperaturze wrzenia przy stosunku molowym /amino/dimetylosilanu i dimetylodichlorosilanu od 10:1 do 1:10, a otrzymany w wyniku reakcji transsililowania, obok pożądanego dimetylochlorosilanu, także /amino/dimetylochlorosilan po zredukowaniu wodorkiem litowo-glinowym w eterze etylowym wykorzystuje się ponownie jako substrat aminowy reakcji transsililowania.
Sposób według wynalazku jest prosty w realizacji i umożliwia otrzymanie dimetylochlorosilanu z wydajnością ponad 70%. W sposobie tym otrzymuje się bowiem, obok pożądanego produktu, także związek, z którego w prosty sposób odtwarza się z bardzo dobrą wydajnością rzędu 60-80% substrat aminowy reakcji transsililowania.
Sposób według wynalazku ilustrują bliżej podane niżej przykłady.
Przykład I. Kolbę reakcyjną zawierającą 74,4 g /0,567 mola/ /dimetyloamino/dimetylosilanu oraz 74 g /0,573 mola/ dimetylodichlorosilanu, umieszczoną pod kolumną rektyfikacyjną Vigreux o długości 150 cm i średnicy 10 mm, ogrzewano stopniowo do temperatury wrzenia. Zbierano frakcję dimetylochlorosilanu, którą poddano ponownej rektyfikacji, w wyniku której otrzymano 39,4 g dimetylochlorosilanu o temperaturze wrzenia 36°C, co stanowiło 73,5% wydajności teoretycznej. Odzyskano również 74,8 g tj. 80% /dietyloamino/dimetylochlorosilanu o temperaturze wrzenia 153°C.
Związek ten poddano redukcji wodorkiem litowo-glinowym w bezwodnym eterze etylowym w atmosferze gazu obojętnego. W tym celu do kolby zawierającej 5,4 g /0,141 mola/ glinowodorku litu i 100 ml eteru etylowego, zaopatrzonej w mieszadło i chłodnicę zwrotną oraz zebezpieczonej przed dostępem wilgoci, wkroplono w ciągu 1 godziny roztwór odzyskanego /dietyloamino/dimetylochlorosilanu w 50 ml eteru etylowego i następnie ogrzewano mieszaninę reakcyjną w stanie wrzenia w ciągu 2,5 godziny. Po ochłodzeniu zawartości kolby do temperatury pokojowej, przesączono ją w aparaturze zabezpieczającej przed dostępem wilgoci. Przesącz po oddestylowaniu rozpuszczalnika poddano rektyfikacji. Otrzymano 38,0 g /dietyloamino/dimetylosilanu o temperaturze wrzenia 111—112°C, co stanowiło 63,3% wydajności teoretycznej.
Przykład II. Do kolby dwuszyjnej zaopatrzonej we wkraplacz, umieszczonej pod kolumną rektyfikacyjną Vigreux i zawierającej 33,0 g /0,252 mola/ /dietyloamino/dimetylosilanu wkroplono 20 g dimetylodichlorosilanu, po czym ogrzewano kolbę do wrzenia w łaźni olejowej i wkroplono dalsze 45,1 g dimetylodichlorosilanu. Łącznie wkroplono 65,1 g /0,504 mola/ dimetylodichlorosilanu, przy czym wkraplanie prowadzono z taką szybkością aby nie przerywać wrzenia mieszaniny reakcyjnej. Otrzymani 20,3 g dimetylochlorosilanu o temperaturze wrzenia 36°C, co stanowiło 85,2% wydajności teoretycznej. Odzyskano również 36,9 gtj. 88% /dietyloamino/dimetylochlorosilanu o temperaturze wrzenia 153°C.
Przykład III. W kolbie dwuszyjnej zaopatrzonej we wkraplacz i zamocowanej pod kolumną rektyfikacyjną Vigreux umieszczono 14,5 g /0,112 mola/ /pirolidyno/dimetylosilanu. We wkraplaczu umieszczono 28,8 g/0,223 mola/dimetylodichorosilanu. Zawartość kolby ogrzano do
150 116 temperatury 70°C w łaźni olejowej, przy czym temperaturę płaszcza kolumny rektyfikacyjnej podwyższono również do 70°C. Następnie wkroplono do kolby, z odpowiednią szybkością, dimetylodichlorosilan. Powstający w wyniku reakcji dimetylochlorosilan rektyfikowano dwukrotnie zbierając frakcję o temperaturze 36°C. Otrzymano 5,6 g dimetylochlorosilanu o temperaturze wrzenia 36°C, co stanowiło 53% wydajności teoretycznej. Odzyskano również 12,9 g /pirolidyno/dimetylochlorosilanu o temperaturze wrzenia 80-81°C/40 mm Hg.
Claims (1)
- Zastrzeżenie patentoweSposób otrzymywania dimetylochlorosilanu z /amino/dimetylochlorosilanu poddawanego redukcji wodorkiem litowo-glinowym w eterze etylowym w atmosferze gazu obojętnego, znamienny tym, że /amino/dimetylosilan, otrzymany w wyniku redukcji /amino/-dimetylochlorosilanu wodorkiem litowo-glinowym w eterze etylowym w atmosferze gazu obojętnego, poddaje się reakcji transsililowania dimetylodichlorosilanem w temperaturze wrzenia przy stosunku molowym /amino/dimetylosilanu i dimetylodichlorosilan od 10:1 do 1:10, a otrzymany w wyniku reakcji transsililowania, obok pożądanego dimetylochlorosilanu, także /amino/dimetylochlorosilan, po zredukowaniu wodorkiem litowo-glinowym w eterze etylowym w atmosferze gazu obojętnego, wykorzystuje się ponownie jako substrat aminowy reakcji transsililowania.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL27177888A PL150116B2 (en) | 1988-04-11 | 1988-04-11 | Method of obtaining dimethylchlorosilane |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL27177888A PL150116B2 (en) | 1988-04-11 | 1988-04-11 | Method of obtaining dimethylchlorosilane |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL271778A2 PL271778A2 (en) | 1989-01-23 |
| PL150116B2 true PL150116B2 (en) | 1990-04-30 |
Family
ID=20041570
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL27177888A PL150116B2 (en) | 1988-04-11 | 1988-04-11 | Method of obtaining dimethylchlorosilane |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL150116B2 (pl) |
-
1988
- 1988-04-11 PL PL27177888A patent/PL150116B2/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL271778A2 (en) | 1989-01-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2918999B2 (ja) | 多有機基置換シラン及びモノアルキル化シランの製造方法 | |
| CN111132985A (zh) | 用于制造甲基氯氢单硅烷的集成工艺 | |
| US3099672A (en) | Reduction of halogen-containing silicon compounds | |
| US3793357A (en) | Process for the redistribution of alkylsilanes and alkylhydrosilanes | |
| GB1585992A (en) | Method for preparing organosilicon compounds from elemental silicon and hydrocarbon ethers | |
| JP4138914B2 (ja) | 直接法からの高沸点残渣をモノシラン類に転化するためのハイドロクロリネーション法 | |
| EP0405560B1 (en) | Preparation of tertiary-hydrocarbylsilyl compounds | |
| CA1110646A (en) | Conversion of halo-organosilanes by redistribution reaction | |
| US3535092A (en) | Reduction of halogen-containing silicon compounds | |
| JP2864973B2 (ja) | ジメチルクロロシランとトリオルガノクロロシランの併産方法 | |
| CN106029681A (zh) | 添加有机盐的氢化硅烷化方法 | |
| Söldner et al. | Long-chain alkanes with an internal H2Si SiH2 linkage | |
| JPH0559072A (ja) | オレフイン系及びアセチレン系アザシラシクロペンタン並びにその調製方法 | |
| US3065253A (en) | Process for the alkylation of halogenosilanes | |
| PL150116B2 (en) | Method of obtaining dimethylchlorosilane | |
| US11352377B2 (en) | Process for the production of organohydridochlorosilanes | |
| US4962219A (en) | Alkylation of halodisilanes | |
| JP2000159779A (ja) | 濃アルキル・シルアルキレン含有残渣におけるシルアルキレンの再分配法 | |
| JP3288722B2 (ja) | 再分配反応を利用するオルガノシランの取得法 | |
| KR102780336B1 (ko) | 유기실란을 전환시키는 방법 | |
| US3686252A (en) | Preparation of organosilicon compounds with silylphenyl groups | |
| JP2907061B2 (ja) | 有機けい素化合物の製造方法 | |
| JP3131868B2 (ja) | オルガノシラン類の製造方法 | |
| JPS6059916B2 (ja) | １，２−ジシリルアルケン化合物の製造方法 | |
| JP7450054B2 (ja) | ハロゲン化テトラシリルボラネート |