JP4138914B2 - 直接法からの高沸点残渣をモノシラン類に転化するためのハイドロクロリネーション法 - Google Patents
直接法からの高沸点残渣をモノシラン類に転化するためのハイドロクロリネーション法 Download PDFInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 58
- 238000009835 boiling Methods 0.000 title claims description 45
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical class [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 31
- 238000007038 hydrochlorination reaction Methods 0.000 title description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 49
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 25
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 14
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 claims description 14
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 14
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims description 12
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 12
- -1 silicon metalloid Chemical class 0.000 claims description 12
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- VMPVEPPRYRXYNP-UHFFFAOYSA-I antimony(5+);pentachloride Chemical compound Cl[Sb](Cl)(Cl)(Cl)Cl VMPVEPPRYRXYNP-UHFFFAOYSA-I 0.000 claims description 8
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 5
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000725 trifluoropropyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C(F)(F)F 0.000 claims description 4
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- PVGYYKBIUKOMTG-UHFFFAOYSA-N trichloro-[chloro(dimethyl)silyl]silane Chemical compound C[Si](C)(Cl)[Si](Cl)(Cl)Cl PVGYYKBIUKOMTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000013626 chemical specie Substances 0.000 description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 4
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 4
- 150000001367 organochlorosilanes Chemical class 0.000 description 4
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 2
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N chloro(methyl)silane Chemical class C[SiH2]Cl YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-2,2-bis(chloromethyl)propane Chemical compound ClCC(CCl)(CCl)CCl KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- ZXRRHFSTAFVGOC-UHFFFAOYSA-N [AlH3].[K] Chemical compound [AlH3].[K] ZXRRHFSTAFVGOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- FXMNVBZEWMANSQ-UHFFFAOYSA-N chloro(silyl)silane Chemical class [SiH3][SiH2]Cl FXMNVBZEWMANSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVDUEHWPPXIAEB-UHFFFAOYSA-N chloro-ethyl-dimethylsilane Chemical compound CC[Si](C)(C)Cl AVDUEHWPPXIAEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 1
- PFMKUUJQLUQKHT-UHFFFAOYSA-N dichloro(ethyl)silicon Chemical compound CC[Si](Cl)Cl PFMKUUJQLUQKHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNAFLNBULDHNJS-UHFFFAOYSA-N dichloro(phenyl)silicon Chemical compound Cl[Si](Cl)C1=CC=CC=C1 XNAFLNBULDHNJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNECSTWRDNQOLT-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethyl-methylsilane Chemical compound CC[Si](C)(Cl)Cl PNECSTWRDNQOLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHABWQNEJUUFAV-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCC(F)(F)F OHABWQNEJUUFAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000013110 organic ligand Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011856 silicon-based particle Substances 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/16—Preparation thereof from silicon and halogenated hydrocarbons direct synthesis
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/125—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving both Si-C and Si-halogen linkages, the Si-C and Si-halogen linkages can be to the same or to different Si atoms, e.g. redistribution reactions
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
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- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/128—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions covered by more than one of the groups C07F7/122 - C07F7/127 and of which the starting material is unknown or insufficiently determined
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機塩化物とケイ素メタロイドを「直接法」で反応させて得られる高沸点残渣からモノシラン類を製造するためのハイドロクロリネーションプロセスに関する。本発明方法は、前記高沸点残渣とオルガノシランの混合物を形成し、次いでこの混合物を、前記高沸点残渣からモノシラン類の形成を促進するに有効な触媒量の触媒組成物の存在下に塩化水素と接触させることを含む。本発明方法で使用するための好ましい触媒組成物は、三塩化アルミニウムを含み、その少なくとも一部は、直接法及び高沸点残渣の分離を行う間にその場で形成される。
【0002】
【従来の技術】
直接法によるオルガノクロロシランの調製において、複雑な混合物が形成され、この混合物中に存在する他の成分からモノシラン類を分離するために、通常、この混合物は蒸留される。例えば、「直接法」において、モノシラン類(これはクロロモノシラン類の場合にはジメチルジクロロシラン、メチルトリクロロリラン及びトリメチルクロロシランを含む)に加えて、前記オルガノクロロシランより高い沸騰温度(即ち、70℃より高い温度)で沸騰する残渣が得られる。この残渣は以後、「高沸点残渣」と呼ぶ。
【0003】
前記「直接法」は、特許文献に充分に記載されており、例えば米国特許No.2380995及び2488487を参照のこと。このモノシラン類の塔頂での蒸留の後に残る残渣は、分子中にSiSi、SiOSi及びSiCSi結合を有する比較的高い沸点のケイ素含有化合物の複雑な混合物である。この残渣はまた、ケイ素粒子及び金属又はその化合物をも含み得る。直接法から得られる生成物の蒸留から得られる典型的な高沸点残渣は、米国特許No.2598435及び2681355により完全に記載されている。
【0004】
直接法を行うための現在の商業的操作において、高沸点残渣は最終生成物の5wt%にもなる。それ故、廃棄物を減らし、原料の利用率を改善するために、この高沸点残渣を商業的に望ましい製品に転化するのが望ましい。
【0005】
この一般的な先行技術の代表は、米国特許No.4393229、5175329、5430168、2681355、2709176及び5292912である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、オルガノハロシランを製造するための直接法から得られる高沸点残渣を商業的に有用なモノシラン類に転化する方法を提供することである。本発明方法の利点は、クロロジシラン類のような一層塩素化された中間体を単離したり、又はモノシラン類を製造するために更なる処理を行う必要がなく1段階プロセスで実施され得ることである。本発明の他の利点は、ジシラン類及び他のケイ素含有種、例えばシルメチレン類及びシルアルキレン類をモノシラン類に転化することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明は、有機塩化物とケイ素の反応から得られる高沸点残渣をモノシラン類に転化するハイドロクロリネーション法である。この方法は、次の(A)及び(B)を含む:
(A)次の(i)及び(ii)を含む混合物を形成すること:
(i)有機塩化物とケイ素メタロイドとの反応から生じる高沸点残渣、及び
(ii)式Rm Hn SiCl4-m-n (1)(ここに、各Rは炭素原子数1〜6のアルキル、アリール、炭素原子数1〜6のアルコキシ、トリメチルシリル及びトリフルオロプロピルからなる群から選ばれ、m=1〜4、n=0〜2、m+n=2〜4である);そして
(B)150〜500℃及び全反応器ゲージ圧689.5kPa〜34.5MPa(100〜5000psi)で、前記高沸点残渣からモノシラン類の形成を促進するに有効な触媒量の触媒組成物の存在下に、前記混合物を塩化水素と接触させること。
【0008】
本発明は更に次のことを含んでもよい:式Ry Hz SiCl4-y-z (2)(ここに、Rは先に述べた通りであり、y=0〜4、z=0〜3、y+z=0〜4である)で示されるモノシラン類を回収すること。
【0009】
本発明方法は、クロロシランと接触させるに適したどんな標準的な加圧可能な反応器中で行ってもよい。このプロセスは、バッチプロセスとして、又は連続プロセス、例えば攪拌床(stirred−bed)反応器、完全混合槽列反応器、気泡塔反応器、トリックルベッド(trickle−bed)反応器又はプラグフロー反応器の中でのプロセスとして実施できる。好ましい具体例において、本発明方法は、前記高沸点残渣からモノシラン類を形成するために必要な追加の処理ステップのない1段階プロセスとして実施される。
【0010】
本発明方法は、直接法から得られた高沸点残渣をモノシラン生成物に転化するのに有用である。直接法は、適当な触媒及びガス状産物の存在下に300〜350℃の温度で、通常実施される。供給物質及び粒状物も、前記プロセスから連続的に取り出される。これらの取り出された物質は、続いて蒸留されてオルガノクロロシラン類を回収し、後に「高沸点残渣」が残る。
【0011】
本発明方法において用いるのに好ましい高沸点残渣は、塩化メチルとケイ素メタロイドの反応生成物からオルガノクロロシラン類の蒸留により得られる沸点70℃を超えるものである。そのような高沸点残渣の典型的な組成物は次のものを含む:50〜60wt%の式Si2 Q6 で示されるジシラン(ここに、Qは独立にメチル及び塩素から選ばれ、このジシランは1分子あたり2〜4個のメチル置換基を含む);15〜25wt%の式Q3 SiCH2 SiQ3 で示されるシルメチレン類(ここに、Qは先に述べた通りであり、このシルメチレンは2〜4個のメチル置換基を含む);式Q3 Si(SiQ2 )a (CH2 )b (SiQ2 )c SiQ3 で示されるシルアルキレン(ここに、Qは先に述べた通りであり、a=0〜4、b=1〜3、c=0〜4、a+b+c≧2である);5〜15wt%の他の高沸点ケイ素含有化合物;直接法からキャリーオーバーされた触媒、例えば銅又は銅の化合物;ケイ素を含有する粒子;少量の金属、例えばアルミニウム、カルシウム及び鉄又はこれらの化合物。
【0012】
本発明方法において、上に述べた高沸点残渣は式(1)で記載したようなオルガノシランと接触させる。この混合物は、反応器の外で作り、その後反応器に加えるか、又はそれは個々の成分を反応器に加えることによって作ることができる。このオルガノシランは1〜4個の置換基Rを含み、ここに、各Rは炭素原子数1〜6のアルキル、アリール、炭素原子数1〜6のアルコキシ、トリメチルシリル及びトリフルオロプロピルからなる群から独立に選ばれる。置換基Rは、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、t−ブチル、メトキシ、エトキシ、フェニル、トリル、ナフチル、トリメチルシリル又はトリフルオロプロピルである。好ましいのは、Rがメチルであるときである。
【0013】
前記オルガノシランは、例えば、ジメチルジクロロシラン、エチルメチルジクロロシラン、メチルフェニルジクロロシラン、3,3,3−トリフルオロプロピル(メチル)ジクロロシラン、メチルジクロロシラン、エチルジクロロシラン、フェニルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、エチルジメチルクロロシラン、テトラメチルシラン、トリメトキシシラン及びそのようなオルガノシラン類の混合物である。好ましいのは、前記オルガノシランがジメチルジクロロシラン、メチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン及びテトラメチルシランからなる群から選ばれる場合である。
【0014】
前記高沸点残渣との混合物中に存在するオルガノシランの重量%は、本発明にとって特に限定されるものではない。一般に、オルガノシランがこの混合物の0.1〜95wt%である混合物は、有用であると考えられる。好ましいのは、オルガノシランがこの混合物の30〜50wt%を占めるときである。
【0015】
この混合物は塩化水素と接触され、これは反応器にガスとして供給され得る。反応器に供給される塩化水素の濃度は、特に限定されるものではなく、望みのレベルのハイドロクロリネーションを行うに充分であればどんな量であってもよい。好ましいのは、反応器に供給される塩化水素の量が、反応器に供給される高沸点残渣の重量を基準として1〜70wt%の範囲であるときである。より好ましいのは、反応器に供給される塩化水素の量が、同じ基準で15〜50wt%であるときである。
【0016】
本発明プロセスの反応は、反応器中でゲージ圧689.5kPa〜34.5MPa(100〜5000psi)であり、塩化水素の少なくとも一部が液相であることを確保する。より好ましくは、前記反応がゲージ圧2.07〜10.3MPa(300〜1500psi)で行われるときである。最も好ましいのは、ゲージ圧4.14〜7.58MPa(600〜1100psi)で、反応器中で接触されるときである。
【0017】
高沸点残渣及びオルガノシランを含む混合物は、前記高沸点残渣からのモノシラン類の形成を促進するに有効な触媒量の触媒組成物の存在下に塩化水素と接触される。本発明方法の触媒組成物は、高沸点残渣からのモノシラン類の形成を促進する。このプロセスは、ケイ素原子間のアルキル基及び塩素基の再分配、ハイドロクロリネーション、並びにケイ素−ケイ素結合の及び任意にケイ素−炭素結合の切断を促進する触媒組成物が必要であると信じられる。それ故、この触媒組成物は上記活性を本発明における触媒組成物に与える1又はそれ以上の化学種を含む。
【0018】
一般には、どんなルイス酸又はその均等物も、この触媒組成物に再分配活性を与えるのに使用される。本発明プロセスにおける再分配を起こさせるのに有用な化学種の例は、米国特許No.4393229及び5175329に記載されたものを含む。そのような有用な化学種の例としては、三塩化アルミニウム、五塩化アンチモン、四塩化ジルコニウム、四塩化カリウムアルミニウム、ハロゲン化第四ホスホニウム、ハロゲン化第四アンモニウム、ハロゲン化アンモニウム、塩化第1銅、ほう酸及びハロゲン化ホウ素がある。
【0019】
本発明触媒組成物において、ハイドロクロリネーションを行うに有用な化学種の例としては、五塩化アンチモン、塩化第1銅、金属銅、銅塩、銅塩と有機配位子の錯体、及び米国特許No.5175329に記載されている水素化触媒がある。
【0020】
通常、ケイ素原子間のアルキル基及び塩素基の再分配を促進する化学種、及び本発明方法におけるハイドロクロリネーションを促進する化学種は、ケイ素−ケイ素結合及び任意にケイ素−炭素結合を切断することも促進するであろう。それ故、ケイ素−ケイ素結合及び任意にケイ素−炭素結合を切断するのを促進するために、本発明における触媒組成物に追加の化学種を添加する必要は一般にはない。もしそのような化学種が必要なときは、三塩化アルミニウム又は五塩化アンチモンを、この組成物に加えるとよい。
【0021】
本発明方法においては、触媒組成物は、プロセス条件下に、再分配、ハイドロクロリネーション及び結合切断を促進する単一の化学種を含むのが好ましい。そのような単一の化学種は、三塩化アルミニウム及び五塩化アンチモンを含む。
【0022】
本発明方法は、上記のように「触媒量」の触媒組成物の存在が必要である。「触媒量」とは、前記高沸点残渣中のケイ素含有化合物のモノシラン類への転化を促進するに充分な触媒組成物の量の意味である。触媒組成物の好ましい触媒量は、高沸点残渣中のポリシラン類、例えばメチルクロロシラン類、シルエチレン類及びシルアルキレン類をモノシラン類に転化するのを促進するのに充分な量である。必要な触媒組成物の量は、その触媒組成物を構成する化学種如何によるものであり、そのような量は当業者によって容易に決定される。
【0023】
三塩化アルミニウム又は五塩化アンチモンが本発明組成物を構成するときは、この触媒組成物及び高沸点残渣の合計重量を基準にして、0.01〜20wt%が、本発明方法において有用である。好ましいのは、三塩化アルミニウム又は五塩化アンチモンの濃度が、同じ基準で0.5〜5wt%の範囲にあるときである。
【0024】
本発明方法に使用するのに好ましい触媒組成物は、三塩化アルミニウムである。この三塩化アルミニウムは、その化合物としてこのプロセスに直接添加してもよいし、三塩化アルミニウムを形成する物質を添加することによりその場で形成してもよい。触媒量の三塩化アルミニウムの全て又は一部は、直接法及びモノシラン類留分を分離して高沸点残渣を形成する間にその場で形成してもよい。三塩化アルミニウムを形成するために必要なアルミニウム及び塩素の源は、直接法で使用される原料、特にケイ素及び有機塩化物供給原料であってよい。触媒量の三塩化アルミニウムは、添加された三塩化アルミニウム及び直接法から分離された高沸点残渣中に残っているその場で形成された三塩化アルミニウムであってよい。
【0025】
本発明方法は150〜500℃で行われる。好ましいのは、275〜425℃の温度である。最も好ましいのは300〜375℃の温度である。
【0026】
式(2)のモノシラン類が本発明によって回収される。これらのモノシラン類は、液体混合物を分離するための標準的な方法、例えば蒸留によって分離される。これらモノシラン類は0〜4個の置換基R(ここに、Rは上に記載した)を含む。これらのモノシラン類は各ケイ素原子上に置換された0〜3個の水素原子を含みうる。これらモノシラン類は各ケイ素原子上に置換された0〜4個の塩素原子を含み得る。
【0027】
【実施例】
以下の例は、本発明を説明するために提示するが、ここでMeはメチル基を表す。
【0028】
(例)
塩化水素の存在下での、高沸点残渣を含む混合物、並びにメチルジクロロシラン及びトリメチルクロロシランを含む混合物の転化を触媒する三塩化アルミニウムの能力を、攪拌バッチ式反応器中で評価した。この反応器は、650mLで、空気で攪拌された、パーボンブ(Parr Bomb)反応器であった。塩化メチルとケイ素の反応によるメチルクロロシラン類の調製のための直接法から得たろ過された高沸点残渣28.7wt%、トリメチルクロロシラン68.2wt%、及びメチルジクロロシラン3.1wt%を含む混合物を前記反応器に入れた。前記高沸点残渣の主成分を、wt%ベースで表1に示す。
【0029】
【0030】
前記高沸点残渣の重量を基準として、前記反応器中に3.5wt%の三塩化アルミニウムが存在した。次いで、0.3〜0.4モルの塩化水素ガスをこの反応器に供給した。この反応器を325℃に加熱し、反応器内部ゲージ圧を4.8〜6.9MPa(700〜1000psi)にして3時間攪拌した。
【0031】
実験の終点で反応器からのサンプルを熱伝導率検出器を用いてガスクロマトグラフィーで分析した。この分析の結果を表2に報告する。高沸点残渣のモノシラン類への転化率は81.2wt%であった。生成物の分布を、生成物中に存在する全モノシラン類中に占めるモノシラン種のwt%として計算した正味の値として表2に示す。
【0032】
Claims (9)
- 有機塩化物とケイ素メタロイドの反応から得られる高沸点残渣をモノシラン類に転化する方法であって、次の(A)及び(B)を含む方法:
(A)次の(i)及び(ii)を含む混合物を形成すること:
(i)有機塩化物とケイ素メタロイドとの反応から生じる高沸点残渣、及び
(ii)式Rm Hn SiCl4-m-n
(ここに、各Rは炭素原子数1〜6のアルキル、アリール、炭素原子数1〜6のアルコキシ、トリメチルシリル及びトリフルオロプロピルからなる群から選ばれ、m=1〜4、n=0〜2、m+n=2〜4である);そして次に
(B)150〜500℃及び全反応器ゲージ圧689.5kPa〜34.5MPa(100〜5000psi)で、前記高沸点残渣からモノシラン類の形成を促進するに有効な触媒量の触媒組成物の存在下に、前記混合物を塩化水素と接触させること。 - 式Ry Hz SiCl4-y-z
(ここに、Rは先に述べた通りであり、y=0〜4、z=0〜3、y+z=0〜4である)
で示されるモノシラン類を回収することを更に含む請求項1の方法。 - 前記混合物の形成と接触を1段階法で行い、これによりモノシラン類を形成する請求項1又は2の方法。
- 前記触媒が、三塩化アルミニウム及び五塩化アンチモンから成る群より選ばれる請求項1の方法。
- 前記オルガノシランが、ジメチルジクロロシラン、メチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン及びテトラメチルシランから成る群より選ばれる請求項1の方法。
- 前記高沸点残渣がジメチルテトラクロロジシランを含む請求項1の方法。
- 前記混合物が、0.1〜95wt%の前記オルガノシランを含む請求項1の方法。
- 前記混合物が、30〜95wt%の前記オルガノシランを含む請求項1の方法。
- 有機塩化物とケイ素メタロイドの反応から得られる高沸点残渣をモノシラン類に転化する方法であって、次の(A)及び(B)を含み、1段階プロセスとして実施される方法:
(A)次の(i)及び( ii )を含む混合物を形成すること:
(i)有機塩化物とケイ素メタロイドとの反応から生じ、そしてジメチルテトラクロロジシランを含む高沸点残渣、及び
( ii )30〜95wt%の、ジメチルジクロロシラン、メチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン及びテトラメチルシランから成る群より選ばれるオルガノシラン;そして次に
(B)150〜500℃及び全反応器ゲージ圧689.5kPa〜34.5MPa(100〜5000psi)で、触媒量の、三塩化アルミニウム及び五塩化アンチモンから成る群より選ばれる触媒の存在下に、前記混合物を塩化水素と接触させること。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/712,226 US5629438A (en) | 1996-09-11 | 1996-09-11 | Hydrochlorination process for converting high-boiling residue from direct process to monosilanes |
US08/712226 | 1996-09-11 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10101684A JPH10101684A (ja) | 1998-04-21 |
JP4138914B2 true JP4138914B2 (ja) | 2008-08-27 |
Family
ID=24861254
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24631097A Expired - Fee Related JP4138914B2 (ja) | 1996-09-11 | 1997-09-11 | 直接法からの高沸点残渣をモノシラン類に転化するためのハイドロクロリネーション法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5629438A (ja) |
EP (1) | EP0829484B1 (ja) |
JP (1) | JP4138914B2 (ja) |
DE (1) | DE69725081T2 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3362630B2 (ja) * | 1997-02-28 | 2003-01-07 | 信越化学工業株式会社 | 直接法メチルクロルシラン合成より副生する高沸点成分からのモノシラン類の製造方法 |
DE19711693A1 (de) * | 1997-03-20 | 1998-09-24 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Alkylchlorsilanen aus den Rückständen der Direktsynthese von Alkylchlorsilanen |
US6013824A (en) * | 1998-12-01 | 2000-01-11 | Dow Corning Corporation | Redistributing silalkylenes in an alkyl-rich silalkylene-containing residue |
DE10039172C1 (de) * | 2000-08-10 | 2001-09-13 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zum Aufarbeiten von Rückständen der Direktsynthese von Organochlorsilanen |
DE10336545B3 (de) * | 2003-08-05 | 2005-04-14 | Ge Bayer Silicones Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung von Chlorsilanen |
DE102004014220A1 (de) | 2004-03-23 | 2005-10-13 | Wacker-Chemie Gmbh | Verfahren zum Abtrennen von Aluminiumchlorid aus Organochlorsilanen |
DE102007030948A1 (de) * | 2007-07-04 | 2009-01-08 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Umwandlung von Si-H-Verbindungen in Si-Halogen-Verbindungen |
CN101786629A (zh) | 2009-01-22 | 2010-07-28 | 陶氏康宁公司 | 回收高沸点废料的方法 |
US9352971B2 (en) | 2013-06-14 | 2016-05-31 | Rec Silicon Inc | Method and apparatus for production of silane and hydrohalosilanes |
USD836372S1 (en) | 2017-08-11 | 2018-12-25 | American Maid Plastic Co. | Pitcher |
CN114258396A (zh) | 2019-08-22 | 2022-03-29 | 美国陶氏有机硅公司 | 用于纯化硅化合物的方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2380995A (en) * | 1941-09-26 | 1945-08-07 | Gen Electric | Preparation of organosilicon halides |
US2488487A (en) * | 1946-02-07 | 1949-11-15 | Dow Chemical Co | Production of alkyl silicon halides |
US2598435A (en) * | 1949-08-18 | 1952-05-27 | Gen Electric | Process for treating organoplysilanes |
FR1093399A (ja) * | 1953-02-20 | 1955-05-03 | ||
BE536407A (ja) * | 1954-03-12 | |||
US4393229A (en) * | 1982-04-28 | 1983-07-12 | General Electric Company | Redistribution of polysilanes in high boiling residues |
DE3410644A1 (de) * | 1984-03-23 | 1985-09-26 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von dimethyldichlorsilan |
US5175329A (en) * | 1992-04-03 | 1992-12-29 | Dow Corning Corporation | Production of organosilanes from polysilanes |
US5326896A (en) * | 1993-07-14 | 1994-07-05 | Dow Corning Corporation | Conversion of direct process high-boiling component to silane monomers in the presence of hydrogen gas |
US5321147A (en) * | 1993-07-16 | 1994-06-14 | Dow Corning Corporation | Conversion of direct process high-boiling component to chlorosilane monomers in the presence of chlorine |
US5292912A (en) * | 1993-07-19 | 1994-03-08 | Dow Corning Corporation | Catalytic conversion of direct process high-boiling component to chlorosilane monomers in the presence of hydrogen chloride |
US5430168A (en) * | 1994-10-27 | 1995-07-04 | Dow Corning Corporation | Alumimum trichloride catalyzed hydrogenation of high-boiling residue from direct process |
US5627298A (en) * | 1996-06-13 | 1997-05-06 | Dow Corning Corporation | One step process for converting high-boiling residue from direct process to monosilanes |
-
1996
- 1996-09-11 US US08/712,226 patent/US5629438A/en not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-08-23 EP EP97114649A patent/EP0829484B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-08-23 DE DE69725081T patent/DE69725081T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-09-11 JP JP24631097A patent/JP4138914B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH10101684A (ja) | 1998-04-21 |
EP0829484A3 (en) | 1999-09-01 |
EP0829484B1 (en) | 2003-09-24 |
DE69725081D1 (de) | 2003-10-30 |
US5629438A (en) | 1997-05-13 |
EP0829484A2 (en) | 1998-03-18 |
DE69725081T2 (de) | 2004-06-09 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040427 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070814 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070911 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20071210 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20071213 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080310 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080507 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080606 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110613 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110613 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120613 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120613 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130613 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |