Do oczyszczania na goraco gazów po¬ wstajacych przy pyrogenacji, destylacji lub odgazowywaniu produktów weglo¬ wych, celem usuniecia zwiazków siarki, stosowano metale lub ich tlenki pod roz¬ mailem! postaciami, zdolne do laczenia sie z siarka i tworzace siarczki.Zawarte w gazach zwiazki siarkowe mozna podzielic na dwie kategorje; do jednej zaliczaja sie zwiazki siarkowe nie¬ organiczne, glównie siarkowodór (H2S), a do drugiej zwiazki siarkowe organiczne, glównie siarczek wegla {CS2)f merkaptany (C2H5SH i t. d.) i tiofeny (C4H±S, i t. d.).Siarkowodór (H2S) mozna usunac za- pomoca metali lub tlenków metali takich jak nikiel lub tlenki niklu. Powstaja wów¬ czas siarczki niklu i uwalnia sie wodór tworzacy wode. Wytworzone siarczki ni¬ klu latwo mozna rozlozyc i otrzymac zpo- wrotem tlenki niklu.Organiczne zas zwiazki siarki mozna rozlozyc niektóremi metalami lub ich tlen¬ kami. Czesc uwolnionej siarki laczy sie z temi metalami, druga czesc wydziela sie jako siarkowodór, który mozna usunac W sposób podany powyzej.W patencie Nr 8165 opisano sposób i urzadzenie do usuwania siarki droga prze¬ miany w weglowodory lekkie gaz/u, po¬ wstalego z paliwa lub z ciezkiego weglo¬ wodoru. Sjposób polega na przeprowadze-niu gazu przez trzy aparaty kolejno oczy¬ szczajace, z których pierwszy ma za zada¬ nie z&triymac prsh^ie calkowicie siarko¬ wodór, drugi — uwalnia i czesciowo za¬ trzymuje siarke zaWarta w zawiazkach or¬ ganicznych siarkowych, trzeci — zatrzy¬ muje siarkowodór, który moze sie wytwo¬ rzyc w drugim aparacie.Regeneracja srodków oczyszczaj a- cych w urzadzeniach przemyslowych po¬ winna sie odbywac perjodycznie w odste¬ pach od jednej do kilku godzin, co zmienia sie w zaleznosci od produktu Wyjsciowego.Stwierdzono, ze przy uzyciu srodków oczyszcza)jacych, których regeneracja jest latwa lub szybka, zapomoca pradów po¬ wierza lub tlenu, ciaglych lub okresowych, pradóW gazów redukujacych, pozostaja w gazach w temperaturze w której zachodzi proces slady siarkowodoru.Zjawisko to wywolane jest reakcja: 2 Ni + H2S ^ NiS+ H2 1 która przechodzi w kierunku strzalki / w temperaturze okolo 225° przy uzyciu niklu.Szybkosc jednak reakcji jest tak mala i slaba, ze praktycznie nie moitaa wykryc H2S, którego objetosc wynosi okolo 1/10.000 objetosci gazów, wychodzacych z przyrzadu oczyszczaj acego (placzki).W instalacjach przemyslowych wedlug wynalazku niniejszego mozna uzyskac praktycznie biorac calkowite usuniecie siarki, nawet jej sladóiw pod postacia siar¬ kowodoru wychodzacego z baterji apara¬ tów oczyszczajacych, napelnionych czyn¬ nikiem metalicznym, latwym do regenera¬ cji.Wedli^g wynalazku niniejszego równo¬ legle baterje aparató zmieinnyoh okresach dzialania, trwajacych od jednej do szesciu godzin, które kolej¬ no naprzemian oczyszczaja lub regeneruja sie, polaczone sa z dodatkowa para apara¬ tów bezpieczenstwa o bardzo malej obje¬ tosci, umieszczonych u wylotu aparatu czyszczacego. Kazdy z aparatów bezpie¬ czenstwa zawiera metaliczny srodek czy¬ szczacy, np- miedz w stanie rozdrobnio¬ nym, umieszczona na podstawie porcela¬ nowej lub z innego materjalu (glina wypa¬ lona, pumeks i t. d.), której siarczan fest staly w temperaturze reakdji! (okolo 250°).Kazdy z aparatów kolejno w okresach od jednego do trzech tygodni wlacza sie do instalacji, podczas gdy aparat z nim pola¬ czony wylacza sie z obwodu dla opróznie¬ nia i pono^wneglo napelnienia lub wreszcie regeneracji w inny sposób.Jak widac bieg fabrykacji jest ciagly ze zmianami okresowemi z reguly kilkugo- dzinnemi przy wlaczaniu W obWód i rege¬ neracji róznych równoleglych bateryj o- czyszczajacych, oraz przy wlaczaniu w obwód lub wylaczaniu w okresach ztiacznie dluzszych dwóch malych aparatów bezpie¬ czenstwa, zawierajacych metaliczny sro¬ dek oczyszczajacy, którego siarczany w temperaturze reakcji sa stale, przyczem aparaty bezpieczenstwa nie sa zawarte w obwodzie regeneraaji Te aparaty bezpie¬ czenstwa moga byc wspólne dla calego ze¬ spolu równoleglych bateryj oczyszczaja¬ cych.Na zalaczonym rysunku przedstawiony jest jako przyklad schemat instalacji do oczyszczania gazów lub par, wydzielaja¬ cych sie przy destylacji takich produktów wyjsciowych jak lignit, torfy lub smoly.Wynalazek stosuje sie w polaczeniu z przedmiotem patentu francuskiego Nr 632379 z dn. 23 lipca 1926 r. na „Sposób dzialania na zwiazek metaliczny organicz¬ ny lub inny lub na gaz zapomoca srodka gazowego, wchodzacego z nim w reakcje" oraz z przedmiotem patentu francuskiego Nr 639774 z dn, 3 lutego 1927 r. na „Spo¬ sób i urzadzenie do regeneracji tlenków metali, uzytych do odsiarczania gazów i par", Gazy i pSary, pochodzace z pyroge- — 2n&fcji, destylacji lub adg&zowywania pro¬ duktów toCglóWyfch, po usuniecia niektó¬ rych produktów, wrzacych np, powyzej 40ÓÓC, przeprowadzone zostaja przez zao¬ patrzone w zawory a\ a2, a3, a4 odgalezie¬ nia A1, A2, A3, A4 rufy A do równole¬ glych jdj?aratóhv oczyszczajacych B1, B2, Be, B4, rozjmieszczonych w ten sposób, ze odbywaja sie W nich naprzemian okresy czynnego dzi&lalttia i regeneracji. Dlugosc trwaftiia okresów czynnego dzialania, w za¬ leznosci od produktów wyjsciowych, wa¬ ha sie od jednej do szesciu godzin.Aparaty oczyszczajace B1 i B2 sa np. w okresie czynnego dzialania, podczas gdy aparaty B3 i B4 regeneruja sie celem usuniecia siarki i jej odzyskania.W mysl wynalazku niniejszego gazy i pary oczyszczone, przed wejsciem dp apa¬ ratów, gdzie wzbogacaja sie w obecnosci katalizatorów, musza byc oczyszczone ze sladów kwasu siarkowodorowego, zawar¬ tego w nich wskutek przejscia przez apa¬ raty bezpieczenstwa o malej objetosci E1 i E2, zawierajace np. miedz pod postacia metalu lub tlenku silnie rozdrobnionego, umieszczona na podstawie porcelanowej lub innej (z gliny palonej, pumeksu, masy porowatej) i tworzaca z siarka siarczan staly w temperaturze reakcji.Poniewaz ilosci H2S, przechodzacego przez przewody wylotowe 'C\ C2, C3, C4 i przewód zbiorczy C do aparatów -bezpie¬ czenstwa sa bardzo male, jeden tylko apa¬ rat bezpieczenistwa E1 bedzie wystarcza¬ jacy dla calej baterji B1, B2, B3, B4, a ó- kresy kolejne czynnego dzialania apara¬ tów E1 i E2 ftiog^ sie wahac dlatego w gra¬ nicach od jednego do szesciu tygodni W za¬ leznosci od produktów wyjsciowych.Dzialanie instalacji, przedstawionej ja¬ ko przyklad W polaczeniu ze /sposobami poda^emi w wyzej wspomnianych paten¬ tach, jest nastepujace: Aparaty oczyszczajace B1 i B2, napel¬ nione tlenkiem niklu ltib tlenkiem iiinegó odpowiedniego metalu, sA tip. w okresfe czynnego dzialania, |o4czaS |dy aparaty B3 i B* s^ w okresie regenteraeji. ZaWory a1 o2, c1, c2 sa otwarte, a zawory a3, a4, c3, t4 .— zamkniete. Jelli np. apiltat bez¬ pieczenstwa E1 jest równiez czynny* zawo¬ ry tf1, & sa otwarte, a d2 i e2 zamkniete, gdyz aparat bezpieczenstwa E2 moze byc w tyhi ezfesie oprózniomy, a nastepnie po¬ nowili* zaladowany. , Zgodnie z Wyzej przytoczonym wyna- lazkieifa, który jest przedmiotem patentu francuskiego Nr 639774 z 3 lutego 1927 r., kazdy z aparatów oczyszczajacych BX,.B2, B3, B4 przy wlocie, oprócz rury wlotowej A1 dla gazów lub par, przeznaczanych do cezysizc&enia, zaopatrzonej w zawór er1, posiada rury wylotowe I1, J1, z których kazda zaopatrzona jest w zawory (i1, j1...) i laczy sie z przewodami zbiorczemi! /, J, polaczonemi' ze zbiornikiem K do stra¬ cania siarki. Ruty te sluza do usuwania produktów regeneracji. Regeneracja do¬ konywa sie w sposób opisany ponizej, przez przepuszczanie powietrza lub zwiaz¬ ku utleniajacego, wychodzacego z rury (G) i wchodzacego przez rure (G1), umieszczo¬ na przy wylocie aparatu oczyszczajacego.Przed i po tern postepowaniu przepuszcza sie gazy redukcyjne (wodór lub gaz wod¬ ny naprzyklad), uchodzace z rury H i wchodzace przez odpowiednia rure z za¬ worem z1, po eWentualnem uprzedniem przejsciu przez filtr 'P1.W czasie dzialania aparatów oczy¬ szczajacych zawory i1, i2, j1, j2, f1, f2, g1, g2 wszystkich rur, oprócz wlotowych A1, A2 i wylotowych O1, C2 sa zamkniete.Podczas czynnego dzialania aparatów oczyszczajacych B1, S2 (od jednej do kil¬ ku godzin) mozna przystapic regenera¬ cji w aparatach oczyszczajacych tl* i 54 czynników zlozonych z tlemkóW metalicz¬ nych. Regeneracji mozna dokonac w trzech okresach.Okres pierwszy. Gdy zawory a3, a4, — 3 —i c3, c4 sa zamkniete, oiwieri sie najpierw zawory i3, , /i3 i i4, /4, A4. : W ten sposób przez zawiory /i3 i /i4 i ru¬ re // gaz redukujacy o temperaturze od 3 do 400°C przechodzi przy wylocie apara¬ tów oczyszczajacych £3, B4 to znaczy w strefie, gdzie zawartosc siarki jest naj¬ mniejsza, W rurach fs, f* mozna ustalic filtry czastkowe F3, F4, to znaczy naczynia o- grzane, zawietajace rozdrobniony metal, np. nikiel, umieszczony na podstawie por¬ celanowej lub innej, dzieki któremu Wodór gazu redukujacego przechodzi ze stanu czastkowego w stan „in statu nascendi" i zapoczatkowuje reakcje.Gaz redukujacy ogrzany lub nie wcho¬ dzi djo strefy, gdzie masa czyszczaca za¬ wiera juz malo siarki, lecz jeszcze znaczna ilosc tlenków, redukuje siarczki i tlenki w postaci metalu oraz wytwarza siarkowo¬ dór i pare wodna, które wydzielaja sie z rur otwartych 73, I4 i przechodza przez zbiornik I do naczynia K, napelnionego woda.To przejscie gazu ma na celu nietylko wywiazanie wolnego metalu, lecz równiez, ze wzgledu na drugi okres regeneracji, wy¬ tworzenie H2S, który, dzialajac podczas drugiego okresu na S0?, da wolna siarke.Okres drugi- : Zamyka sie zawory h*,K /3, i3, h4, f4, i4* ol/wiera g3, g4, /3, j4. Przez rury G3 i G4 przepuszcza sie cieple powie¬ trze lub tlen. Metal zawarty w strefie wyj¬ sciowej utlenia sie i rozzarza do bialosci.W aparatach oczyszczajacych B* i B4 wy¬ twarzaja sie lokalne strefy.o wyzszej tem¬ peraturze wskutek jwywiaiztujacego sie cie¬ pla w reakcji utleniamia metalu. Dzieki te¬ mu ciephi zostaje zapoczatkowane utlenia¬ nie siarczków, zawartych w pozostalych czesciach aparatólw B3 i B4.Kwas siarkowy i para wodna, wywiazu¬ jace sie przytem, przechodza przez rury J8, J4 i zbiornikJ do naczynia K. Po skon¬ czonej reakcji zamyka sie'zawory gVg4, P, f4.Stwierdzono, ze wskutek dzialania po wietrza i tlenu podczas regeneracji wytwa¬ rzaja sie oczyszczajace tlenki metaliczne i zasadotwe siarczany (np. NiO, NiS04).Przy uzyciu aparatu oczyszczajacego u- mieszczone w nim siarczany zasadowe zo¬ stalyby zredukjowane przez gaz, przezna: czony do oczyszczenia, z wydzieleniem S02. Kwas siarkowy zostalby zatrzymany na katalizatorach, gdzie w obecnosci niklu uleglby nastepnie redukcji, wywiaizujac przytem H2S, który zatrulby katalizator.Nalezy wiec stanowczo usunac owe siarczany przed rozpoczeciem pracy. Jest to wlasnie celem trzeciego okresu.Okres trzeci. Gaz redukujacy prze¬ chodzi przez, zawory /3 i t4, które moga za¬ wierac lub tez nie zawieraja, jak juz po¬ wyzej wspomniano, filtrów F3 i F4.Tworzacy sie gaz siarkowy przechodzi do rury J przez otwarte zawbry /3 i j4, zawory bowiem g3 i g4 sa zamkniete.Podczas regeneracji zawartosci apara¬ tów oczyszczajacych B3 i B4, czynniki o- czyszczajace wskutek wykonywania swej pracy w aparatach BP- i B2 ulegly zmiarko¬ waniu. rSlady H2S zawarte w gazach zosta¬ ja usuniete przez, metal aparatu bezpie¬ czenstwa E1. Nastepnie, przestawiajac od¬ powiednio zawory, mozna wlaczyc w ob¬ wód oczyszczajacy aparaty B3, B4 i przy¬ stapic do regeneracji w aparatach B1, B2.Podczas gdy dokionywuja sie te prze¬ miany w okresach kilkudniowych w zalez¬ nosci od produktów wyjsciowych, wylacza¬ nie z obwodu aparatu bezpieczenstwa E1 i wlaczanie w obwód aparatu E2 odbywa sie w rozmaitych okresach od jednego do kil¬ ku tygodni.Na wywiazujacy sie W aparatach bez¬ pieczenstwa o bardzo malej pojemnosci siarczek miedzi lub inny mozna dzialac w rozmaity znany sposób, celem regeneracji czystego metalu.Rozumie sie samo przez sie, ze aparaty bezpieczenstwa o bardzo malej objetosci — 4 _oraz o znacznie dluzszych niz w zwyklych aparatach oczyszczajacych okresach wla¬ czania i wylaczalnia z obwodu moga byc uzywane w polaczeniu z innemi aparatami oczyszczajacemi niz te, które podano w po¬ wyzej wspomnianych patentach. Aparaty oczyszczajace fi11, B2, B3, B4 moga zamiast jednego naczynia, jak w przykladzie przedstawionym, zawierac trzy naczynia polaczone zgodnie z polskim patentem Nr 8165. Naczynie pierwsze zatrzymuje siarke nieorganiczna, nastepne — siarke orga¬ niczna, a trzecie — siarke z H2S który po¬ wstal przy tworzeniu sie siarki organicz¬ nej. W zwiazku z tern rury (I1, J1, I2, J2, 73, J3...) musza znajdowac sie przy naczy¬ niu pierwszem (wejsciowem), a rury (F1, G1, F2, G2...) przy naczyniu ostatniem fwyjsciowem).Oczyszczajace aparaty bezpieczenstwa moga byc tak umieszczone, ze w razie de¬ montazu lub zmiany ich ustarwienia moga byc natychmiast opróznione i znów nala¬ dowane lub tez w ten sposób, aby mozna bylo natychmiast przeprowadzic utworze¬ nie siarczku miedzi w celu regeneracji me¬ talu.Zamiast dwóch oddzielnych zbiorników J i I mozna w powyzej opisanej instalacji zastosowac jeden, dna zas aparatów oczy¬ szczajacych zaopatrzyc w jedna rure wy¬ lotowa dla H2S i S02. PL