PL126784B2 - Fire-refined copper electrorefining method - Google Patents
Fire-refined copper electrorefining method Download PDFInfo
- Publication number
- PL126784B2 PL126784B2 PL23406381A PL23406381A PL126784B2 PL 126784 B2 PL126784 B2 PL 126784B2 PL 23406381 A PL23406381 A PL 23406381A PL 23406381 A PL23406381 A PL 23406381A PL 126784 B2 PL126784 B2 PL 126784B2
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- group
- benzyl
- integer
- general formula
- amount
- Prior art date
Links
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 15
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title claims description 14
- 239000010949 copper Substances 0.000 title claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 14
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 9
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 5
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 claims description 3
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 claims description 3
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 3
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 claims description 3
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 4
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 3
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 alkoxy radical Chemical class 0.000 description 2
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 2
- JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate pentahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.[Cu+2].[O-]S([O-])(=O)=O JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 2
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 102000008186 Collagen Human genes 0.000 description 1
- 108010035532 Collagen Proteins 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- GZCGUPFRVQAUEE-SLPGGIOYSA-N aldehydo-D-glucose Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C=O GZCGUPFRVQAUEE-SLPGGIOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 229920001436 collagen Polymers 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- GKIPXFAANLTWBM-UHFFFAOYSA-N epibromohydrin Chemical compound BrCC1CO1 GKIPXFAANLTWBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000009916 joint effect Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- ACYBVNYNIZTUIL-UHFFFAOYSA-N n'-benzylethane-1,2-diamine Chemical compound NCCNCC1=CC=CC=C1 ACYBVNYNIZTUIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical class CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób elektrorafinacji miedzi hutniczej zapewniajacy otrzyma¬ nie miedzi o znacznie zmniejszonej zawartosci siarki przy zwiekszonej gestosci pradu nawet do 600 A/m2.Powszechnie znane i stosowane w procesach elektrorafinacji miedzi, elektrolity oparte sa na roztworze wodnym siarczanu miedzi i kwasu siarkowego, zawieraja jako dodatki zestaw inhibito¬ rów zlozony z tiomocznika, kolagenu w postaci kleju stolarskiego ijonów chlorkowych pochodza¬ cych glównie z chlorku sodu. Elektrolit ten pozwala na prowadzenie procesu elektrorafinacji przy gestosci pradu tylko do 280 A/m2. Ponadto tiomocznik zawierajacy siarke powoduje zanieczy¬ szczenie nia miedzi katodowej.Inny znany elektrolit, oprócz skladników podstawowych, zawiera jako dodatki, lacznie co najmniej dwie grupy inhibitorów. Pierwsza grupe stanowia klej stolarski, benzotriazol, indol.Druga grupe stanowia polialkohol winylowy i jony chlorkowe. Wspólne dzialanie tych dodatków w elektrolicie umozliwia uzyskanie dobrych jakosciowo osadów, ale tylko w zakresie gestosci pradu od 250 do 400 A/m2. Ponadto niektóre skladniki, takiejak polialkohol winylowy, benzotria¬ zol, indol sa trudno dostepne.Wynalazek dotyczy sposobu elektrorafinacji w elektrolicie skladajacym sie z siarczanu miedzi, kwasu siarkowego, jonów chlorkowych oraz dodatków wyblyszczajacych.Istota wynalazku polega na tym, ze jako dodatki wyblyszczajace stosuje sie jednoczesnie zespól co najmniej trzech grup zwiazków chemicznych, z których pierwsza grupe w ilosci od 0,001 do 1 kg/m3 stanowia zwiazki o ogólnym wzorze przedstawionym na rysunku 1, na którym R oznacza alkil o 2-8 atomach wegla, benzyl, glikol i/lub poliglikol, n jest liczba calkowita od 10 do 1000; druga grupe, w ilosci od 0,001 do 1 kg/m3, stanowia zwiazki o ogólnym wzorze przedstawio¬ nym na rysunku 2, na którym R i i R2 oznaczaja atom wodoru, grupe nitrowa, rodnik alkilowy albo alkoksylowy od 1-10 atomach wegla, Ar oznacza reszte benzenowa, naftalenowa, dwufenylowa, n oznacza liczbe calkowita od 6 do 50, trzecia grupe zwiazków, w ilosci od 0,00001 do 0,1 kg/m3, stanowia produkty kondensacji epihalogenohydryny z benzylopoliamina o ogólnym wzorze Ar NHC2H411NH2, gdzie Ar oznacza benzyl, n jest liczba calkowita od 1 do 6.Elektrorafinacje miedzi prowadzi sie w typowych elektrolizerach np. typu skrzyniowego, w przedziale temperatur od 300 do 340 K, korzystnie 330 ± 5 K,2 126 784 Zasadnicza korzyscia techniczna wynikajaca ze stosowania elektrolitu wedlug wynalazku jest osadzanie miedzi plastycznej, zwartej, o minimalnej zawartosci siarki i to przy duzej gestosci pradu.Stosowane zas dodatki wyblyszczajace sa stabilne i komponowane z latwo dostepnych skladników.Ich obecnosc w elektrolicie zwieksza wydajnosc miedzi z wanny elektrolitycznej nawet o 100%.Przedmiot wynalazku ilustruja przykladowe sklady elektrolitów do elektrorafinacji miedzi.Przyklad I.Siarczan miedziowy pieciowodny 100 kg/m3 Kwas siarkowystezony 100 kg/m3 Chloreksodu 35 kg/m3 Zywica mocznikowo-formaldehydowa etyryfikowana alkoholem izobutylowym 70g/m3 Nonylofenol oksyetylowany 10 molami tlenku etylenu 20 g/m3 Produkt reakcji N-benzylodwuetylenotrójaminy z epichlorohydryna w stosunku molowym 1:1 10 g/m3 Przygotowany w ten sposób elektrolit wprowadzono do elektrolizera z ciagla cyrkulacja elektrolitu i prowadzono proces elektrorafinacji przy gestosci pradu 500 A/m2 w temperaturze 330-335 K. Otrzymana elektrorafinowana miedz charakteryzuje sie podwyzszona czystoscia, drob¬ noziarnista struktura, równa powierzchnia i minimalna zawartoscia siarki.Przyklad IL Siarczan miedziowy pieciowodny 200 kg/m3 Kwas siarkowystezony 200 kg/m3 Chloreksodu 170 g/m Zywica mocznikowo-formaldehydowa etyryfikowana alkoholembenzylowym 50g/m3 jS-naftol oksyetylowany 6 molami tlenku etylenu 100 g/m3 Produkt reakcji N-benzyloetylenodwuaminy z epibromohydryna w stosunku molowym 2:3 20g/m3 Elektrolit zostal przetestowany jak w przykladzie I przy gestosci pradu 600 A/m2. Uzyskano zwarta plastyczna, o dobrej czystosci miedz elekrolityczna, która doskonale nadaje sie do nowej technologii walcowania miedzi bezwlewkowej. Szybkosc osadzania miedzi w przykladach Ii IIjest dwukrotnie wieksza niz w dotychczasowych elektrolitach przemyslowych.Zastrzezenie patentowe Sposób elektrorafinacji miedzi hutniczej w elektrolicie zawierajacym siarczan miedzi, kwas siarkowy, jony chlorkowe oraz substancje wyblyszczajace, znamienny tym, ze jako substancje wyblyszczajace stosuje sie jednoczesnie zespól co najmniej trzech grup zwiazków chemicznych, z których pierwsza grupe, w ilosci od 0,001 do 1 kg/m3, stanowia zwiazki o ogólnym wzorze przedstawionym na rysunku 1, na którym R oznacza alkil o 2-8 atomach wegla, benzyl, glikol i/lub poliglikol, n jest liczba calkowita od 10 do 1000; druga grupe, w ilosci od 0,001 do lkg/m3, stanowia zwiazki o ogólnym wzorze przedstawionym na rysunku 2, na którym Ri i R2 oznaczaja atom wodoru, grupe nitrowa, rodnik allilowy albo alkoksylowy o od 1 do 10 atomach wegla, Ar oznacza reszte benzenowa, naftalenowa, dwufenylowa, n oznacza liczbe calkowita od 6 do 50; trzecia grupe w ilosci od 0,00001 do 0,1 kg/m3, stanowia produkty kondensacji epihalogenohyd- ryny z benzylopoliamina o ogólnym wzorze Ar(NHC2H4)nNH2, gdzie Ar oznacza benzyl, n jest liczba calkowita od 1 do 6.126784 C H2 -N- C~NH-CH2-0-R O n Wzórl 1)(R2)-Ar-(OC2H4)OH Wzór 2 PL
Claims (1)
- Zastrzezenie patentowe Sposób elektrorafinacji miedzi hutniczej w elektrolicie zawierajacym siarczan miedzi, kwas siarkowy, jony chlorkowe oraz substancje wyblyszczajace, znamienny tym, ze jako substancje wyblyszczajace stosuje sie jednoczesnie zespól co najmniej trzech grup zwiazków chemicznych, z których pierwsza grupe, w ilosci od 0,001 do 1 kg/m3, stanowia zwiazki o ogólnym wzorze przedstawionym na rysunku 1, na którym R oznacza alkil o 2-8 atomach wegla, benzyl, glikol i/lub poliglikol, n jest liczba calkowita od 10 do 1000; druga grupe, w ilosci od 0,001 do lkg/m3, stanowia zwiazki o ogólnym wzorze przedstawionym na rysunku 2, na którym Ri i R2 oznaczaja atom wodoru, grupe nitrowa, rodnik allilowy albo alkoksylowy o od 1 do 10 atomach wegla, Ar oznacza reszte benzenowa, naftalenowa, dwufenylowa, n oznacza liczbe calkowita od 6 do 50; trzecia grupe w ilosci od 0,00001 do 0,1 kg/m3, stanowia produkty kondensacji epihalogenohyd- ryny z benzylopoliamina o ogólnym wzorze Ar(NHC2H4)nNH2, gdzie Ar oznacza benzyl, n jest liczba calkowita od 1 do 6.126784 C H2 -N- C~NH-CH2-0-R O n Wzórl 1. )(R 2. )-Ar-(OC2H4)OH Wzór 2 PL
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL23406381A PL126784B2 (en) | 1981-12-01 | 1981-12-01 | Fire-refined copper electrorefining method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL23406381A PL126784B2 (en) | 1981-12-01 | 1981-12-01 | Fire-refined copper electrorefining method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL234063A2 PL234063A2 (pl) | 1982-09-27 |
| PL126784B2 true PL126784B2 (en) | 1983-08-31 |
Family
ID=20010732
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL23406381A PL126784B2 (en) | 1981-12-01 | 1981-12-01 | Fire-refined copper electrorefining method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL126784B2 (pl) |
-
1981
- 1981-12-01 PL PL23406381A patent/PL126784B2/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL234063A2 (pl) | 1982-09-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101522543B1 (ko) | 구리 도금조 제제 | |
| JP2859326B2 (ja) | 光沢があり、亀裂を有さない銅被膜を電気的に析出させる酸性水浴及び印刷回路の導電路補強法 | |
| US4948474A (en) | Copper electroplating solutions and methods | |
| FR2565259A1 (fr) | Electrolyte acide aqueux, et procede de revetement electrolytique de cuivre a vitesse elevee | |
| US20040187731A1 (en) | Acid copper electroplating solutions | |
| GB2097020A (en) | Electrodeposition of bright copper | |
| JP2009541580A (ja) | 亜鉛および亜鉛合金被覆の電気的析出のための、シアン化物を含有しない水性アルカリ性浴 | |
| JPS6119791A (ja) | 電気銅メッキ液 | |
| JP2000511235A (ja) | 銅添加剤としてのアルコキシル化ジメルカプタン類 | |
| GB2062010A (en) | Electroplating Bath and Process | |
| IT9067561A1 (it) | Processo di ramatura privo di cianuro | |
| US4157945A (en) | Trivalent chromium plating baths | |
| JPS60169588A (ja) | 亜鉛用または亜鉛合金用酸性電着浴 | |
| CN103806041A (zh) | 一种无氰铜锌合金电镀液及其制备方法 | |
| US4786746A (en) | Copper electroplating solutions and methods of making and using them | |
| US4010086A (en) | Electrocleaning method and composition | |
| PL126784B2 (en) | Fire-refined copper electrorefining method | |
| US4496439A (en) | Acidic zinc-plating bath | |
| JP3199729B2 (ja) | 1―(2―スルホエチル)―ピリジニウムベタインを含有する酸性ニッケル浴 | |
| JPH0273990A (ja) | 電気メッキ用助剤としての2―置換エタンスルホン化合物の使用 | |
| CA1255622A (en) | Process for electrodepositing copper | |
| US3577328A (en) | Method and bath for electroplating tin | |
| JP2001214294A (ja) | アルカリ性亜鉛及び亜鉛合金めっき浴 | |
| EP0107109A2 (en) | Electrolytic copper plating solutions and a method for their application | |
| JP5551094B2 (ja) | アルカリ性亜鉛及び亜鉛合金めっき浴 |