PL126784B2 - Fire-refined copper electrorefining method - Google Patents

Fire-refined copper electrorefining method Download PDF

Info

Publication number
PL126784B2
PL126784B2 PL23406381A PL23406381A PL126784B2 PL 126784 B2 PL126784 B2 PL 126784B2 PL 23406381 A PL23406381 A PL 23406381A PL 23406381 A PL23406381 A PL 23406381A PL 126784 B2 PL126784 B2 PL 126784B2
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
group
benzyl
integer
general formula
amount
Prior art date
Application number
PL23406381A
Other languages
English (en)
Other versions
PL234063A2 (pl
Inventor
Jan Kaminski
Stanislaw Szczepaniak
Czeslaw Mazanek
Original Assignee
Politechnika Wroclawska
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Politechnika Wroclawska filed Critical Politechnika Wroclawska
Priority to PL23406381A priority Critical patent/PL126784B2/pl
Publication of PL234063A2 publication Critical patent/PL234063A2/xx
Publication of PL126784B2 publication Critical patent/PL126784B2/pl

Links

Landscapes

  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób elektrorafinacji miedzi hutniczej zapewniajacy otrzyma¬ nie miedzi o znacznie zmniejszonej zawartosci siarki przy zwiekszonej gestosci pradu nawet do 600 A/m2.Powszechnie znane i stosowane w procesach elektrorafinacji miedzi, elektrolity oparte sa na roztworze wodnym siarczanu miedzi i kwasu siarkowego, zawieraja jako dodatki zestaw inhibito¬ rów zlozony z tiomocznika, kolagenu w postaci kleju stolarskiego ijonów chlorkowych pochodza¬ cych glównie z chlorku sodu. Elektrolit ten pozwala na prowadzenie procesu elektrorafinacji przy gestosci pradu tylko do 280 A/m2. Ponadto tiomocznik zawierajacy siarke powoduje zanieczy¬ szczenie nia miedzi katodowej.Inny znany elektrolit, oprócz skladników podstawowych, zawiera jako dodatki, lacznie co najmniej dwie grupy inhibitorów. Pierwsza grupe stanowia klej stolarski, benzotriazol, indol.Druga grupe stanowia polialkohol winylowy i jony chlorkowe. Wspólne dzialanie tych dodatków w elektrolicie umozliwia uzyskanie dobrych jakosciowo osadów, ale tylko w zakresie gestosci pradu od 250 do 400 A/m2. Ponadto niektóre skladniki, takiejak polialkohol winylowy, benzotria¬ zol, indol sa trudno dostepne.Wynalazek dotyczy sposobu elektrorafinacji w elektrolicie skladajacym sie z siarczanu miedzi, kwasu siarkowego, jonów chlorkowych oraz dodatków wyblyszczajacych.Istota wynalazku polega na tym, ze jako dodatki wyblyszczajace stosuje sie jednoczesnie zespól co najmniej trzech grup zwiazków chemicznych, z których pierwsza grupe w ilosci od 0,001 do 1 kg/m3 stanowia zwiazki o ogólnym wzorze przedstawionym na rysunku 1, na którym R oznacza alkil o 2-8 atomach wegla, benzyl, glikol i/lub poliglikol, n jest liczba calkowita od 10 do 1000; druga grupe, w ilosci od 0,001 do 1 kg/m3, stanowia zwiazki o ogólnym wzorze przedstawio¬ nym na rysunku 2, na którym R i i R2 oznaczaja atom wodoru, grupe nitrowa, rodnik alkilowy albo alkoksylowy od 1-10 atomach wegla, Ar oznacza reszte benzenowa, naftalenowa, dwufenylowa, n oznacza liczbe calkowita od 6 do 50, trzecia grupe zwiazków, w ilosci od 0,00001 do 0,1 kg/m3, stanowia produkty kondensacji epihalogenohydryny z benzylopoliamina o ogólnym wzorze Ar NHC2H411NH2, gdzie Ar oznacza benzyl, n jest liczba calkowita od 1 do 6.Elektrorafinacje miedzi prowadzi sie w typowych elektrolizerach np. typu skrzyniowego, w przedziale temperatur od 300 do 340 K, korzystnie 330 ± 5 K,2 126 784 Zasadnicza korzyscia techniczna wynikajaca ze stosowania elektrolitu wedlug wynalazku jest osadzanie miedzi plastycznej, zwartej, o minimalnej zawartosci siarki i to przy duzej gestosci pradu.Stosowane zas dodatki wyblyszczajace sa stabilne i komponowane z latwo dostepnych skladników.Ich obecnosc w elektrolicie zwieksza wydajnosc miedzi z wanny elektrolitycznej nawet o 100%.Przedmiot wynalazku ilustruja przykladowe sklady elektrolitów do elektrorafinacji miedzi.Przyklad I.Siarczan miedziowy pieciowodny 100 kg/m3 Kwas siarkowystezony 100 kg/m3 Chloreksodu 35 kg/m3 Zywica mocznikowo-formaldehydowa etyryfikowana alkoholem izobutylowym 70g/m3 Nonylofenol oksyetylowany 10 molami tlenku etylenu 20 g/m3 Produkt reakcji N-benzylodwuetylenotrójaminy z epichlorohydryna w stosunku molowym 1:1 10 g/m3 Przygotowany w ten sposób elektrolit wprowadzono do elektrolizera z ciagla cyrkulacja elektrolitu i prowadzono proces elektrorafinacji przy gestosci pradu 500 A/m2 w temperaturze 330-335 K. Otrzymana elektrorafinowana miedz charakteryzuje sie podwyzszona czystoscia, drob¬ noziarnista struktura, równa powierzchnia i minimalna zawartoscia siarki.Przyklad IL Siarczan miedziowy pieciowodny 200 kg/m3 Kwas siarkowystezony 200 kg/m3 Chloreksodu 170 g/m Zywica mocznikowo-formaldehydowa etyryfikowana alkoholembenzylowym 50g/m3 jS-naftol oksyetylowany 6 molami tlenku etylenu 100 g/m3 Produkt reakcji N-benzyloetylenodwuaminy z epibromohydryna w stosunku molowym 2:3 20g/m3 Elektrolit zostal przetestowany jak w przykladzie I przy gestosci pradu 600 A/m2. Uzyskano zwarta plastyczna, o dobrej czystosci miedz elekrolityczna, która doskonale nadaje sie do nowej technologii walcowania miedzi bezwlewkowej. Szybkosc osadzania miedzi w przykladach Ii IIjest dwukrotnie wieksza niz w dotychczasowych elektrolitach przemyslowych.Zastrzezenie patentowe Sposób elektrorafinacji miedzi hutniczej w elektrolicie zawierajacym siarczan miedzi, kwas siarkowy, jony chlorkowe oraz substancje wyblyszczajace, znamienny tym, ze jako substancje wyblyszczajace stosuje sie jednoczesnie zespól co najmniej trzech grup zwiazków chemicznych, z których pierwsza grupe, w ilosci od 0,001 do 1 kg/m3, stanowia zwiazki o ogólnym wzorze przedstawionym na rysunku 1, na którym R oznacza alkil o 2-8 atomach wegla, benzyl, glikol i/lub poliglikol, n jest liczba calkowita od 10 do 1000; druga grupe, w ilosci od 0,001 do lkg/m3, stanowia zwiazki o ogólnym wzorze przedstawionym na rysunku 2, na którym Ri i R2 oznaczaja atom wodoru, grupe nitrowa, rodnik allilowy albo alkoksylowy o od 1 do 10 atomach wegla, Ar oznacza reszte benzenowa, naftalenowa, dwufenylowa, n oznacza liczbe calkowita od 6 do 50; trzecia grupe w ilosci od 0,00001 do 0,1 kg/m3, stanowia produkty kondensacji epihalogenohyd- ryny z benzylopoliamina o ogólnym wzorze Ar(NHC2H4)nNH2, gdzie Ar oznacza benzyl, n jest liczba calkowita od 1 do 6.126784 C H2 -N- C~NH-CH2-0-R O n Wzórl 1)(R2)-Ar-(OC2H4)OH Wzór 2 PL

Claims (1)

  1. Zastrzezenie patentowe Sposób elektrorafinacji miedzi hutniczej w elektrolicie zawierajacym siarczan miedzi, kwas siarkowy, jony chlorkowe oraz substancje wyblyszczajace, znamienny tym, ze jako substancje wyblyszczajace stosuje sie jednoczesnie zespól co najmniej trzech grup zwiazków chemicznych, z których pierwsza grupe, w ilosci od 0,001 do 1 kg/m3, stanowia zwiazki o ogólnym wzorze przedstawionym na rysunku 1, na którym R oznacza alkil o 2-8 atomach wegla, benzyl, glikol i/lub poliglikol, n jest liczba calkowita od 10 do 1000; druga grupe, w ilosci od 0,001 do lkg/m3, stanowia zwiazki o ogólnym wzorze przedstawionym na rysunku 2, na którym Ri i R2 oznaczaja atom wodoru, grupe nitrowa, rodnik allilowy albo alkoksylowy o od 1 do 10 atomach wegla, Ar oznacza reszte benzenowa, naftalenowa, dwufenylowa, n oznacza liczbe calkowita od 6 do 50; trzecia grupe w ilosci od 0,00001 do 0,1 kg/m3, stanowia produkty kondensacji epihalogenohyd- ryny z benzylopoliamina o ogólnym wzorze Ar(NHC2H4)nNH2, gdzie Ar oznacza benzyl, n jest liczba calkowita od 1 do 6.126784 C H2 -N- C~NH-CH2-0-R O n Wzórl 1. )(R 2. )-Ar-(OC2H4)OH Wzór 2 PL
PL23406381A 1981-12-01 1981-12-01 Fire-refined copper electrorefining method PL126784B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL23406381A PL126784B2 (en) 1981-12-01 1981-12-01 Fire-refined copper electrorefining method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL23406381A PL126784B2 (en) 1981-12-01 1981-12-01 Fire-refined copper electrorefining method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL234063A2 PL234063A2 (pl) 1982-09-27
PL126784B2 true PL126784B2 (en) 1983-08-31

Family

ID=20010732

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL23406381A PL126784B2 (en) 1981-12-01 1981-12-01 Fire-refined copper electrorefining method

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL126784B2 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL234063A2 (pl) 1982-09-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101522543B1 (ko) 구리 도금조 제제
JP2859326B2 (ja) 光沢があり、亀裂を有さない銅被膜を電気的に析出させる酸性水浴及び印刷回路の導電路補強法
US4948474A (en) Copper electroplating solutions and methods
FR2565259A1 (fr) Electrolyte acide aqueux, et procede de revetement electrolytique de cuivre a vitesse elevee
US20040187731A1 (en) Acid copper electroplating solutions
GB2097020A (en) Electrodeposition of bright copper
JP2009541580A (ja) 亜鉛および亜鉛合金被覆の電気的析出のための、シアン化物を含有しない水性アルカリ性浴
JPS6119791A (ja) 電気銅メッキ液
JP2000511235A (ja) 銅添加剤としてのアルコキシル化ジメルカプタン類
GB2062010A (en) Electroplating Bath and Process
IT9067561A1 (it) Processo di ramatura privo di cianuro
US4157945A (en) Trivalent chromium plating baths
JPS60169588A (ja) 亜鉛用または亜鉛合金用酸性電着浴
CN103806041A (zh) 一种无氰铜锌合金电镀液及其制备方法
US4786746A (en) Copper electroplating solutions and methods of making and using them
US4010086A (en) Electrocleaning method and composition
PL126784B2 (en) Fire-refined copper electrorefining method
US4496439A (en) Acidic zinc-plating bath
JP3199729B2 (ja) 1―(2―スルホエチル)―ピリジニウムベタインを含有する酸性ニッケル浴
JPH0273990A (ja) 電気メッキ用助剤としての2―置換エタンスルホン化合物の使用
CA1255622A (en) Process for electrodepositing copper
US3577328A (en) Method and bath for electroplating tin
JP2001214294A (ja) アルカリ性亜鉛及び亜鉛合金めっき浴
EP0107109A2 (en) Electrolytic copper plating solutions and a method for their application
JP5551094B2 (ja) アルカリ性亜鉛及び亜鉛合金めっき浴