PL124498B1 - Semiconductor memory matrix - Google Patents

Semiconductor memory matrix

Info

Publication number
PL124498B1
PL124498B1 PL20829778A PL20829778A PL124498B1 PL 124498 B1 PL124498 B1 PL 124498B1 PL 20829778 A PL20829778 A PL 20829778A PL 20829778 A PL20829778 A PL 20829778A PL 124498 B1 PL124498 B1 PL 124498B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
transistor
diode
memory
source
controlled surface
Prior art date
Application number
PL20829778A
Other languages
English (en)
Other versions
PL208297A1 (pl
Inventor
Tomasz Buchalczyk
Roman Guryn
Original Assignee
Inst Tech Elektronowej
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Inst Tech Elektronowej filed Critical Inst Tech Elektronowej
Priority to PL20829778A priority Critical patent/PL124498B1/pl
Publication of PL208297A1 publication Critical patent/PL208297A1/xx
Publication of PL124498B1 publication Critical patent/PL124498B1/pl

Links

Landscapes

  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest matryca pamieci pól¬ przewodnikowej, bedaca czescia skladowa pamieci pól¬ przewodnikowej .Znane sa i obecnie stosowane pamieci, w których matryce skladaja sie z komórek statycznych lub dyna¬ micznych. Konwencjonalne komórki statyczne pamieci o swobodnym dostepie RAM zbudowane sa z prze- rzutników zawierajacych cztery elementy oraz dwu tranzystorów adresowych sprzegajacych przerzutnik z liniami bitowymi. Glówna wada takich rozwiazan jest duza powierzchnia komórki oraz duza moc po¬ bierania.Znane sa równiez rozwiazania, gdzie jako elementy obciazajace zastosowano diody z kontrolowanym po¬ tencjalem powierzchniowym zasilane impulsowo. Dzieki temu zmniejszono znacznie moc pobierania przy nie¬ znacznym zmniejszeniu powierzchni.Stosowane w matrycach pamieci komórki dynamiczne charakteryzuja sie mala moca pobierana oraz znacznie niniejsza powierzchnia. Wada ich jest natomiast ko¬ niecznosc okresowego odswiezania informacji zawar¬ tych w komórkach. Pociaga to za soba duza komplikacje obwodów sterujacych praca pamieci oraz zwiekszenie powierzchni zajmowanej przez te uklady.Celem wynalazku jest opracowanie komórki pamieci o wlasnosciach statycznych, majacej mala powierzchnie i pobierajaca mniejsza moc niz pamieci statyczne.Istota wynalazku — matrycy auasi-statycznej pamieci pólprzewodnikowej, zbudowanej z komórek pamieci, wyposazonych w zródla zasilania, tranzystor unipolarny 10 ii 20 25 20 i dolaczona don dioda z kontrolowanym potencjalem powierzchniowym — jest to, ze ukladem umozliwiaja¬ cym zapamietanie informaqi komórek jest wtórnik zródlowy zbudowany z tranzystora unipolarnego z izo¬ lowana bramka, którego zródlo polaczone jest z elemen¬ tem obciazajacym, oraz z diody z kontrolowanym po¬ tencjalem powierzchniowym, którego zródlo dolaczone jest do bramki tranzystora, przy czym tranzystor i dioda z kontrolowanym potencjalem powierzchniowym wyko¬ nane sa na tym samym podlozu.Wedlug wynalazku tranzystor ten tj. tranzystor pamietajacy MOS ma dren dolaczony do linii zasilania, a zródlo do elementu obciazajacego, bramka zas dola¬ czona jest do diody z kontrolowanym potencjalem powierzchniowym. Dioda jest elementem kompensuja¬ cym niepozadane zmiany ladunku elektrycznego na bramce tranzystora pamietajacego, przy czym dolaczone do tranzystora pamietajacego elementy zapisu informacji i odczytu informacji polaczone sa z linia bitowa oraz liniami adresowymi odczytu i zapisu.Wynalazek zostanie blizej objasniony na przykladzie wykonania uwidocznionym na rysunku, którego fig. 1 przedstawia schemat elektryczny komórki, a fig. 2 — przykladowa geometrie komórki wykonanej technologia N MOS.Komórka pamieci sklada sie z tranzystora unipolar¬ nego 1, z izolowana bramka elementu obciazajacego 4, dwu elementów umozliwiajacych zaadresowanie 2 i 3 oraz z diody z kontrolowanym potencjalem powierz¬ chniowym 5. Tranzystor unipolarny 1 bedacy tranzys- 124 498124 498 torem pamietajacym oraz element obciazajacy 4 tworza . wtórnik zródlowy. Bramka tranzystora unipolarnego pamietajacego 1 polaczona jest z linia bitowa 6 przy pomocy tranzystora adresowego zapisu 2. Do bramki tranzystora pamietajacego 1 dolaczona jest dioda z kon- 5 trolowanym potencjalem powierzchniowym 5. Wyjscie wtórnika polaczone .jest z linia bitowa 6 przez tranzystor adresowy odczytu 3. Jednoczesnie obszar domieszkowany diody z kontrolowanym potencjalem powierzchniowym 5 jest kolektorem lateralnego tranzystora bipolarnego. io Emiterem tego tranzystora jest zlacze zródla tranzystora pamietajacego 1, a baza — podloze.Komórka zasilana jest z trzech zródel zasilania; dren tranzystora pamietajacego 1 polaryzowany jest ze zródla Udd& element obciazajacy ze zródla US^H podloze 15 ze zródla Ubb* Bramka diody z kontrolowanym po¬ tencjalem powierzchniowym zasilana jest impulsowo z linii 7. Zapis polega na podaniu napiecia na linie adresowa zapisu 10 otwierajacego tranzystor adresowy zapisu 2 i naladowaniu bramki tranzystora pamietajacego 20 1. Jezeli zapisana jest informacja „1", to ladunek na tej bramce'nie zanika, poniewaz uplywnosc kompenso¬ wana jest przez prad pompowania ladunku wytworzony przez diode z kontrolowanym potenqalem powierz¬ chniowym 5. Zlacze emitera tranzystora bipolarnego 25 spolaryzowane jest wówczas zaporowo. W przypadku zapisania informacji 4,0" tranzystor pamietajacy jest wylaczony. W zwiazku z tym zlacze zródla tranzystora pamietajacego 1, które jest jednoczesnie emiterem tranzystora bipolarnego wstrzykuje dziury do obszaru 80 domieszkowanego diody z kontrolowanym potencjalem powierzchniowym, który jest równiez kolektorem tran¬ zystora bipolarnego i kompensuje prad pompowania ladunku.Zwiekszenie czestotliwosci impulsów zasilajacych bramke diody powoduje zwiekszenie napiecia UcE tranzystora bipolarnego przez co rosnie równiez prad kolektora. Dzieki temu na obszarze domieszkowanym diody z kontrolowanym potenqalem powierzchniowym 5 i bramce tranzystora pamietajacego 1 ustala sie na¬ piecie, przy którym prad pompowania ladunku jest równy pradowi kolektora tranzystora bipolarnego.Poniewaz prad pompowania jest bardzo maly, to na¬ piecie to jest mniejsze od napiecia progowego tranzys¬ tora pamietajacego. Odczyt polega na podaniu napiecia na linie adresowa odczytu 8 otwierajacego tranzystor adresowy 3. Linia bitowa 6 laduje sie wówczas do na¬ piecia wystepujacego na wyjsciu wtórnika.Zastrzezenia patentowe 1. Matryca pamieci pólprzewodnikowej stanowiaca czesc skladowa pamieci, zbudowana z komórek pamieci, o wlasnosciach statycznych, wyposazonych w zródla zasilania oraz w tranzystor unipolarny i dolaczona don diode z kontrolowanym potencjalem powierzchniowym, znamienna tym, ze ukladem umozliwiajacym zapa¬ mietanie informacji komórek jest wtórnik zródlowy zbudowany z tranzystora unipolarnego (1) z izolowana bramka, którego zródlo polaczone jest z elementem obciazajacym (4), oraz z diody z kontrolowanym po¬ tentatem powierzchniowym (5), której zródlo dola¬ czone jest do bramki tranzystora unipolarnego (1), przy czym tranzystor unipolarny (1) i dioda z kon¬ trolowanym potenqalem powierzchniowym (5) wyko¬ nane sa na tym samym podlozu. 2. Matryca pamieci wedlug zastrz 1, z namienna tym, ze element obcizajacy (4) jest rezystorem. rr [?K 06 u i ¦3 L-L 1cxTj BU Fig. 1 Fi3.Z LDD Z-d 2, z. 491/1400/84/35, n. 85+20 egz.Cena 100 zl PL

Claims (3)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Matryca pamieci pólprzewodnikowej stanowiaca czesc skladowa pamieci, zbudowana z komórek pamieci, o wlasnosciach statycznych, wyposazonych w zródla zasilania oraz w tranzystor unipolarny i dolaczona don diode z kontrolowanym potencjalem powierzchniowym, znamienna tym, ze ukladem umozliwiajacym zapa¬ mietanie informacji komórek jest wtórnik zródlowy zbudowany z tranzystora unipolarnego (1) z izolowana bramka, którego zródlo polaczone jest z elementem obciazajacym (4), oraz z diody z kontrolowanym po¬ tentatem powierzchniowym (5), której zródlo dola¬ czone jest do bramki tranzystora unipolarnego (1), przy czym tranzystor unipolarny (1) i dioda z kon¬ trolowanym potenqalem powierzchniowym (5) wyko¬ nane sa na tym samym podlozu.
  2. 2. Matryca pamieci wedlug zastrz 1, z namienna tym, ze element obcizajacy (4) jest rezystorem. rr [?K 06 u i ¦3 L-L 1cxTj BU Fig. 1 Fi
  3. 3.Z LDD Z-d 2, z. 491/1400/84/35, n. 85+20 egz. Cena 100 zl PL
PL20829778A 1978-07-10 1978-07-10 Semiconductor memory matrix PL124498B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL20829778A PL124498B1 (en) 1978-07-10 1978-07-10 Semiconductor memory matrix

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL20829778A PL124498B1 (en) 1978-07-10 1978-07-10 Semiconductor memory matrix

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL208297A1 PL208297A1 (pl) 1980-05-19
PL124498B1 true PL124498B1 (en) 1983-01-31

Family

ID=19990475

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL20829778A PL124498B1 (en) 1978-07-10 1978-07-10 Semiconductor memory matrix

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL124498B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL208297A1 (pl) 1980-05-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4271487A (en) Static volatile/non-volatile ram cell
US5600598A (en) Memory cell and wordline driver for embedded DRAM in ASIC process
US4691123A (en) Semiconductor integrated circuit with an internal voltage converter circuit
EP0200480A2 (en) Non-volatile memory cell and non-volatile random access memory cell utilising the same
ATE259545T1 (de) Halbleiter-schaltsstromvorrichtung mit betriebsverstärker und verfahren zur herstellung
KR960042752A (ko) 낮은 전원전압 동작에서도 빠르고 안정된 동작이 가능한 스태틱형 반도체기억장치
KR930024162A (ko) 반도체 기억 장치
KR950006850A (ko) 선택기 회로
US3852800A (en) One transistor dynamic memory cell
KR880009380A (ko) 불휘발성 반도체메모리
US6064590A (en) Non-volatile static random access memory device
US4536859A (en) Cross-coupled inverters static random access memory
EP0088421B1 (en) Semiconductor memory device having tunnel diodes
US4360896A (en) Write mode circuitry for photovoltaic ferroelectric memory cell
KR930003137A (ko) 멀티 포드 ram용 메모리셀
US4260909A (en) Back gate bias voltage generator circuit
KR970076847A (ko) 소거 동작시 간단한 구조의 플래시 메모리 셀에 소거 가능 전압을 공급할 수 있는 비휘발성 반도체 기억 장치
KR900015163A (ko) 불휘발성 반도체 메모리
JPH02185793A (ja) 半導体記憶装置
US4023149A (en) Static storage technique for four transistor IGFET memory cell
KR950020746A (ko) 바이어스 제어 회로를 갖는 반도체 메모리 디바이스
US5999442A (en) Semi-conductor device with a memory cell
PL124498B1 (en) Semiconductor memory matrix
US3878404A (en) Integrated circuit of the MOS variety
O'Connell et al. A 4K static clocked and nonclocked RAM design