Przedmiotem wynalazku jest grubowarstwowy scalony uklad mocy z pólprzewodnikowymi strukturami mocy przeznaczony do stosowania przykladowo we wzmacniaczach mocy i kluczach mocy.W znanych grubowarstwowych scalonych ukladach mocy struktura pólprzewodnikowa mocy polaczona jest z metalowym radiatorem za posrednictwem kilku posrednich warstw w róznych kombinacjach. Przykladowo warstwy te tworza kolejno: stop lutowniczy, metalowa podkladka kompensacyjna, stop lutowniczy, metaliczna warstwa przewodzaca naniesiona sitodrukiem, plytka z ceramiki alundowej i klej laczacy ja z radiatorem.Inna odmiane polaczenia stanowia kolejno: stop lutowniczy, metaliczna warstwa przewodzaca naniesiona sitodrukiem, plytka z ceramiki alundowej i klej. Rozwiazania te cechuje dobra izolacja elektryczna struktury pólprzewodnikowej lecz okupione to jest zbyt duza rezystancja termiczna, szczególnie z powodu stosowania warstwy kleju. Kolejna kombinacje stanowi kolejno: stop lutowniczy, metalowa podkladka kompensacyjna, klej i warstwa tlenku glinu naniesiona metoda oksydacji. Mozliwe tez jsst najprostsze polaczenie wylacznie za posred¬ nictwem stopu lutowniczego. Oba te warianty cechuje zla izolacja struktury pólprzewodnikowej i radiatora.Istota rozwiazania wedlug wynalazku polega na tym, ze grubowarstwowy scalony uklad mocy, skladajacy sie ze struktury pólprzewodnikowej i metalowego radiatora, polaczonych warstwami posrednimi, ma miedzy- warstwe ceramiczna w postaci mieszaniny lub ziarn okudowanych, skladajaca sie z tlenku glinu w ilosci 80—99,5 czesci wagowych, tlenku tytanu w ilosci 0,5—20 czesci wagowych i tlenku krzemu w ilosci 0,5-20 czesci wago¬ wych. Miedzywarstwa ceramiczna moze byc naniesiona bezposrednio na metalowym radiatorze i na miedzywar- stwie tej naniesiona jest przewodzaca warstwa metaliczna przy czym do przewodzacej warstwy metalicznej za posrednictwem stopu przylutowana jest podkladka kompensacyjna z przylutowana do niej za posrednictwem stopu struktura pólprzewodnikowa badz tez do przewodzacej warstwy metalicznej za posrednictwem stopu przylutowana jest od razu struktura pólprzewodnikowa. Miedzywarstwa ceramiczna moze tez byc naniesiona bezposrednio na podkladke kompensacyjna z przylutowana do niej za posrednictwem stopu struktura pólprze¬ wodnikowa przy czym na miedzywarstwe ceramiczna naniesiona jest przewodzaca struktura metaliczna przyluto¬ wana za posrednictwem stopu do radiatora badz tez polaczona z nim zgrzeina.2 121 980 Zaleta rozwiazania wedlug wynalazku jest mozliwosc uzyskania grubowarstwowych scalonych ukladów mocy o duzej niezawodnosci i o polepszonych parametrach przy uproszczeniu procesu technologicznego wytwa¬ rzania. Wprowadzenie natryskiwania plazmowego i wyeliminowania polaczenia klejowego prowadzi do poprawy przewodnosci cieplnej w ukladzie przy zachowaniu dobrej jakosci polaczenia mechanicznego i dobrej izolacji.Rozwiazanie wedlug wynalazku przedstawione jest w przykladach wykonania na zalaczonym rysunku, na którym fig. 1, fig. 2, fig. 3 i fig. 4 przedstawiaja w przekroju poprzecznym rózne odmiany grubowarstwowego sca¬ lonego ukladu mocy, z róznym usytuowaniem miedzywarstwy ceramicznej..Przyklad I.- Scalony uklad mocy sklada sie ze struktury pólprzewodnikowej 1 i. metalowego radiato¬ ra 2, pomiedzy którymi usytuowane sa warstwy posrednie wraz z miedzywarstwa ceramiczna 3, przy czym kolejnosc poszczególnych elementów i warstw jest nastepujaca: struktura pólprzewodnikowa 1, lutowniczy stop 4, podkladka kompensacyjna 5, lutowniczy stop 4, przewodzaca warstwa metaliczna 6, miedzywarstwa ceramicz¬ na 3, radiator 2. Miedzywarstwa ceramiczna 3 naniesiona jest metoda plazmowa na metalowa podloze radiatora 2. Sklad tej miedzywarstwy jest nastepujacy - tlenek glinu A1203 w ilosci 80 czesci wagowych, tlenek tytanu Ti02 w ilosci 10 czesci wagowych, tlenek krzemu Si02 w ilosci 10 czesci wagowych.Przyklad II. Scalony uklad mocy skladajacy sie z usytuowanych kolejno, struktury pólprzewodniko¬ wej 1, lutowniczego stopu 4, przewodzacej warstwy metalicznej 6, miedzywarstwy ceramicznej 3, radiatora 2.Miedzywarstwa ceramiczna 3 naniesiona jest metoda plazmowa na metalowe podloze radiatora 2 i stanowi ja tlenek glinu A1203 w ilosci 99,5 czesci wagowych i tlenek tytanu Ti02 w ilosci 0,5 czesci wagowych.Przyklad III. Scalony uklad mocy sklada sie z usytuowanych kolejno — struktury pólprzewodniko¬ wej 1, lutowniczego stopu 4, podkladki kompensacyjnej 5, miedzywarstwy ceramicznej 3, przewodzacej warstwy metalicznej 6, lutowniczego stopu 4, radiatora 2. Miedzywarstwa ceramiczna 3 naniesiona jest metoda plazmowa na metalowe podloze podkladki kompensacyjnej 5 i stanowi ja tlenek glinu A1203 w ilosci 80 czesci wagowych i tlenek tytanu Ti02 w ilosci 20 czesci wagowych.Przyklad IV. Scalony uklad mocy sklada sie z usytuowanych kolejno - struktury pólprzewodniko¬ wej 1, lutowniczego stopu 4, podkladki kompensacyjnej 5, miedzywarstwy ceramiczne] 3, przewodzacej warstwy metalicznej 6, zgrzeiny 7, radiatora 2. Miedzywarstwa ceramiczna 3 naniesiona jest metoda plazmowa na metalo¬ we podloze podkladki kompensacyjnej 5 i sklada sie z tlenku glinu A1203 w ilosci 80 czesci wagowych i tlenku krzemu Si02 w ilosci 20 czesci wagowych.Zastrzezenia patentowe 1. Grubowarstwowy scalony uklad mocy skladajacy sie ze struktury pólprzewodnikowej i metalowego radiatora polaczonych warstwami posrednimi zawierajacymi co najmniej stop lutowniczy i przewodzaca warstwe metaliczna, znamienny tym, ze ma miedzywarstwe ceramiczna (3), w postaci mieszaniny lub ziarn okludowanych, skaldajaca sie z tlenku glinu w ilosci 80-99,5 czesci wagowych, tlenku tytanu w ilosci 0,5-20 czesci wagowych i tlenku krzemu w ilosci 0,5-20 czesci wagowych. 2. Uklad wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze miedzywarstwa' ceramiczna (3) naniesiona jest bezposrednio na metalowym radiatorze (2) zas na miedzywarstwie ceramicznej (3) naniesiona jest przewodzaca warstwa metaliczna (6), do której za posrednictwem stopu (4) przylutowana jest podkladka kompensacyjna (5) z przylutowana do niej za posrednictwem stopu (4) strulctura pólprzewodnikowa (1). 3. Uklad wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze miedzywarstwa ceramiczna (3) naniesiona jest bezposrednio na metalowym radiatorze (2) zas na miedzywarstwie ceramicznej (3) naniesiona jest przewodzaca warstwa metaliczna (6) do której za posrednictwem stopu (4) przylutowana jest struktura pólprzewodniko¬ wa (1). 4. Uklad wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze miedzywarstwa ceramiczna (3) naniesiona jest na podkladke kompensacyjna (5) z przylutowana do niej za posrednictwem stopu (4) struktura pólprzewodnikowa (1) zas na miedzywarstwe ceramiczna (3) naniesiona jest warstwa metaliczna (6) przylutowana za posrednictwem stopu (4) do radiatora (2). 5. Uklad wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze miedzywarstwa ceramiczna (3) naniesiona jest na podkladke kompensacyjna (5) z przylutowana do niej za posrednictwem stopu (4) struktura pólprzewodnikowa (1), zas na miedzywarstwe ceramiczna (3) naniesiona jest przewodzaca warstwa metaliczna (6) polaczona z radia¬ torem (2) zgrzeina (7).121 980 W r^A6- r U.Fig. 4 w- Fig. 2 Fig. 3 Fig. 4 PL