PL117301B1 - Method for manufacturing the substrate for glass tablets roastingykh tabletok - Google Patents
Method for manufacturing the substrate for glass tablets roastingykh tabletok Download PDFInfo
- Publication number
- PL117301B1 PL117301B1 PL20921278A PL20921278A PL117301B1 PL 117301 B1 PL117301 B1 PL 117301B1 PL 20921278 A PL20921278 A PL 20921278A PL 20921278 A PL20921278 A PL 20921278A PL 117301 B1 PL117301 B1 PL 117301B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- substrate
- silicon
- layer
- minutes
- tabletok
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical class [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000010431 corundum Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 4
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 4
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical class [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical class [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Chemical class 0.000 description 1
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarza¬ nia podloza do spiekania tabletek szklanych. War¬ stwa ta stanowi element nosny przy spiekaniu ta¬ bletek szklanych.Znane sa sposoby wytwarzania podlozy, w któ¬ rych na warstwe podstawowa w postaci tworzywa grafitowego, korundowego lub szamotowego nano¬ si sie warstwe w postaci pobialki, najczesciej na bazie tlenku glinu. Tak przygotowane podloze su¬ szy sie i nastepnie poddaje wypalaniu celem utrwa¬ lenia.Podloza tak przygotowane maja szereg wad. Pod¬ loza na bazie grafitu sa malo odporne na dzialanie wysokich temperatur, powoduja przez to wprowa¬ dzenie czastek grafitu na powierzchnie wyrobów, zwiekszajac konduktywnosc stopionych izolatorów.Z kolei warstwa podstawowa, naniesiona na podlo¬ zu spieków korundowych, wykonana na bazie tlen¬ ku glinu oraz tworzywa szamotowe powoduja trwa¬ le przyklejanie sie do jej powierzchni spieczonych tabletek szklanych.Stosowane podsypki ulegaja czesciowemu wtopie¬ niu w izolator, zmieniajac tym samym wlasnosci powierzchniowe tabletek. Poza tym, ze wzgledu na mala trwalosc podsypek, konieczne jest stosowanie kazdorazowo, po cyklu pracy, regeneracji powierz¬ chni podloza.Sposób wedlug wynalazku polega na nakladaniu na warstwe podloza w postaci tworzywa grafitowe¬ go, szamotowego lub korundowego, warstwy w po- 10 15 20 25 30 staci krzemu lub zwiazków krzemu, jak jego tlenek badz dwutlenek. Warstwe te nanosi sie o grubosci 1,1—1,6 iJim, korzystnie droga naparowywania.Nastepnie warstwe robocza poddaje sie wygrze¬ waniu w temperaturze okolo 1050°C w atmosferze mokrego tlenu, np. o wilgotnosci wzglednej powy¬ zej 60%, w czasie kilkunastu minut. Z kolei war¬ stwe robocza utrwala sie poprzez dzialanie atmo¬ sfery utleniajacej w temperaturze 1000—1100°C w czasie 15—60 minut.Podloze wytworzone wedlug wynalazku posiada wysoka trwalosc, zaroodpornosc, stosunkowo male przewodnictwo cieplne warstwy podstawowej. War¬ stwa robocza z kolei posiada dobre przewodnictwo cieplne. Warstwa ta nie laczy sie z materialem izo¬ latorów.W przypadku wystepowania bardzo wysokich temperatur, krzem podlega utlenieniu, a dwutlenek krzemu, który nawet jesli laczy sie ze szklem, nie wplywa na wlasnosci fizyczne izolatorów.Wynalazek zostanie blizej objasniony w przykla¬ dach wykonania.Przyklad I. Plytke z ceramiki korundowej o zawartosci tlenku glinu — 99% poddaje sie obróbce gladkosciowej. Nastepnie odtluszcza sie poprzez wygotowanie jej w wodzie destylowanej w czasie 20 minut i odwadnia w kapieli acetonowej, po czym suszy w strumieniu czystego powietrza.Nastepnie plytke umieszcza sie w prózni rzedu 0,013 Pa i z odleglosci 8 cm naparowuje sie na nia 117 3013 117301 4 warstwe krzemu o grubosci 1^5 M-m. Po ewakuacji plytki z prózni, poddaje sie ja wygrzewaniu w at¬ mosferze tlenu o wilgotnosci .wzglednej 70/%, w tem¬ peraturze 1050°C, w czasie 15 minut, w piecu ruro¬ wym, a nastepnie dalszemu wygrzewaniu w tem¬ peraturze 1000°C, w atmosferze powietrza przez 40 minut w tym samym piecu, gdzie pozostaje do ostu¬ dzenia.Przyklad II. Plytke z tworzywa szamotowego poddaje sie Obróbce gladkosciowej. Nastepnie odtlu¬ szcza sie ja wygotowujac w wodzie destylowanej przez 20 minut, a nastepnie plucze w strumieniu wody i odwadnia poprzez kapiel w acetonie. Po wysuszeniu umieszcza sie plytke pod kloszem napy- larki, gdzie przy prózni rzedu 0,065 Pa nanosi sie na nia warstwe tlenku krzemu o grubosci 1,5 |xm.Po ewakuacji plytki z prózni wygrzewa sie ja przez 60 minut w atmosferze powietrza, w tempe¬ raturze 1100°C w piecu komorowym, gdzie pozosta¬ je do ostudzenia.Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania podloza do spiekania ta¬ bletek szklanych na podstawowej warstwie w po¬ staci tworzywa grafitowego, korundowego lub sza¬ motowego, znamienny tym, ze nanosi sie warstwe robocza w postaci krzemu lub jego tlenków o gru¬ bosci 1,1—1,6 |xm, która wygrzewa sie w atmosfe¬ rze mokrego tlenu, w temperaturze okolo 1050°C i w czasie kilkunastu minut, a nastepnie utrwala w atmosferze utleniajacej, w temperaturze 1000— —1100°C, w czasie 15^60 minut. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze warstwe robocza w postaci krzemu lub tlenków krzemu naprowadza sie droga napylania próznio¬ wego. 10 ZGK 1255/1100/82 100 egz.Cena 100,— zl PL
Claims (2)
- Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania podloza do spiekania ta¬ bletek szklanych na podstawowej warstwie w po¬ staci tworzywa grafitowego, korundowego lub sza¬ motowego, znamienny tym, ze nanosi sie warstwe robocza w postaci krzemu lub jego tlenków o gru¬ bosci 1,1—1,6 |xm, która wygrzewa sie w atmosfe¬ rze mokrego tlenu, w temperaturze okolo 1050°C i w czasie kilkunastu minut, a nastepnie utrwala w atmosferze utleniajacej, w temperaturze 1000— —1100°C, w czasie 15^60 minut.
- 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze warstwe robocza w postaci krzemu lub tlenków krzemu naprowadza sie droga napylania próznio¬ wego. 10 ZGK 1255/1100/82 100 egz. Cena 100,— zl PL
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL20921278A PL117301B1 (en) | 1978-08-24 | 1978-08-24 | Method for manufacturing the substrate for glass tablets roastingykh tabletok |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL20921278A PL117301B1 (en) | 1978-08-24 | 1978-08-24 | Method for manufacturing the substrate for glass tablets roastingykh tabletok |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL209212A1 PL209212A1 (pl) | 1980-04-21 |
| PL117301B1 true PL117301B1 (en) | 1981-07-31 |
Family
ID=19991192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL20921278A PL117301B1 (en) | 1978-08-24 | 1978-08-24 | Method for manufacturing the substrate for glass tablets roastingykh tabletok |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL117301B1 (pl) |
-
1978
- 1978-08-24 PL PL20921278A patent/PL117301B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL209212A1 (pl) | 1980-04-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0112922B1 (en) | Panel heater | |
| US5603875A (en) | Method for producing ceramic-based components | |
| US5336453A (en) | Method for producing ceramic-based electronic components | |
| JPH0550476B2 (pl) | ||
| US5024423A (en) | Semiconductor diffusion furnace inner tube | |
| PL117301B1 (en) | Method for manufacturing the substrate for glass tablets roastingykh tabletok | |
| US4752504A (en) | Process for continuous chemical vapor deposition of carbonaceous films | |
| JPH059395B2 (pl) | ||
| JPH04209588A (ja) | 金属基板 | |
| JPS607379B2 (ja) | ウエハー加熱用治具 | |
| JPH08153572A (ja) | 遠赤外線ヒータ | |
| JPH04302992A (ja) | セラミックス焼成用耐火物 | |
| JPS6129090A (ja) | 面状発熱体を有する物品 | |
| Khan et al. | Effect of heating cycle on the structure of Ag films deposited over porcelain substrates | |
| PL40389B1 (pl) | ||
| JP3001941B2 (ja) | 窒化アルミニウム焼結体の製造方法 | |
| JPH01103976A (ja) | セラミック被覆黒鉛材料の製造法 | |
| GB2135160A (en) | A resistive heater | |
| JPH0254149B2 (pl) | ||
| JPH0282484A (ja) | 面状発熱体 | |
| SU1189826A1 (ru) | Глазурь | |
| SU499249A1 (ru) | Состав дл покрыти пористой магнезиальной керамики | |
| JPH0228395Y2 (pl) | ||
| JPH05251837A (ja) | 回路基板 | |
| JPS60121280A (ja) | 発熱体の製造法 |