PL117301B1 - Method for manufacturing the substrate for glass tablets roastingykh tabletok - Google Patents

Method for manufacturing the substrate for glass tablets roastingykh tabletok Download PDF

Info

Publication number
PL117301B1
PL117301B1 PL20921278A PL20921278A PL117301B1 PL 117301 B1 PL117301 B1 PL 117301B1 PL 20921278 A PL20921278 A PL 20921278A PL 20921278 A PL20921278 A PL 20921278A PL 117301 B1 PL117301 B1 PL 117301B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
substrate
silicon
layer
minutes
tabletok
Prior art date
Application number
PL20921278A
Other languages
English (en)
Other versions
PL209212A1 (pl
Inventor
Kazimierz Reszka
Antoni Kwiatkowski
Original Assignee
Wyzsza Szkola Inzynierska
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wyzsza Szkola Inzynierska filed Critical Wyzsza Szkola Inzynierska
Priority to PL20921278A priority Critical patent/PL117301B1/pl
Publication of PL209212A1 publication Critical patent/PL209212A1/xx
Publication of PL117301B1 publication Critical patent/PL117301B1/pl

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarza¬ nia podloza do spiekania tabletek szklanych. War¬ stwa ta stanowi element nosny przy spiekaniu ta¬ bletek szklanych.Znane sa sposoby wytwarzania podlozy, w któ¬ rych na warstwe podstawowa w postaci tworzywa grafitowego, korundowego lub szamotowego nano¬ si sie warstwe w postaci pobialki, najczesciej na bazie tlenku glinu. Tak przygotowane podloze su¬ szy sie i nastepnie poddaje wypalaniu celem utrwa¬ lenia.Podloza tak przygotowane maja szereg wad. Pod¬ loza na bazie grafitu sa malo odporne na dzialanie wysokich temperatur, powoduja przez to wprowa¬ dzenie czastek grafitu na powierzchnie wyrobów, zwiekszajac konduktywnosc stopionych izolatorów.Z kolei warstwa podstawowa, naniesiona na podlo¬ zu spieków korundowych, wykonana na bazie tlen¬ ku glinu oraz tworzywa szamotowe powoduja trwa¬ le przyklejanie sie do jej powierzchni spieczonych tabletek szklanych.Stosowane podsypki ulegaja czesciowemu wtopie¬ niu w izolator, zmieniajac tym samym wlasnosci powierzchniowe tabletek. Poza tym, ze wzgledu na mala trwalosc podsypek, konieczne jest stosowanie kazdorazowo, po cyklu pracy, regeneracji powierz¬ chni podloza.Sposób wedlug wynalazku polega na nakladaniu na warstwe podloza w postaci tworzywa grafitowe¬ go, szamotowego lub korundowego, warstwy w po- 10 15 20 25 30 staci krzemu lub zwiazków krzemu, jak jego tlenek badz dwutlenek. Warstwe te nanosi sie o grubosci 1,1—1,6 iJim, korzystnie droga naparowywania.Nastepnie warstwe robocza poddaje sie wygrze¬ waniu w temperaturze okolo 1050°C w atmosferze mokrego tlenu, np. o wilgotnosci wzglednej powy¬ zej 60%, w czasie kilkunastu minut. Z kolei war¬ stwe robocza utrwala sie poprzez dzialanie atmo¬ sfery utleniajacej w temperaturze 1000—1100°C w czasie 15—60 minut.Podloze wytworzone wedlug wynalazku posiada wysoka trwalosc, zaroodpornosc, stosunkowo male przewodnictwo cieplne warstwy podstawowej. War¬ stwa robocza z kolei posiada dobre przewodnictwo cieplne. Warstwa ta nie laczy sie z materialem izo¬ latorów.W przypadku wystepowania bardzo wysokich temperatur, krzem podlega utlenieniu, a dwutlenek krzemu, który nawet jesli laczy sie ze szklem, nie wplywa na wlasnosci fizyczne izolatorów.Wynalazek zostanie blizej objasniony w przykla¬ dach wykonania.Przyklad I. Plytke z ceramiki korundowej o zawartosci tlenku glinu — 99% poddaje sie obróbce gladkosciowej. Nastepnie odtluszcza sie poprzez wygotowanie jej w wodzie destylowanej w czasie 20 minut i odwadnia w kapieli acetonowej, po czym suszy w strumieniu czystego powietrza.Nastepnie plytke umieszcza sie w prózni rzedu 0,013 Pa i z odleglosci 8 cm naparowuje sie na nia 117 3013 117301 4 warstwe krzemu o grubosci 1^5 M-m. Po ewakuacji plytki z prózni, poddaje sie ja wygrzewaniu w at¬ mosferze tlenu o wilgotnosci .wzglednej 70/%, w tem¬ peraturze 1050°C, w czasie 15 minut, w piecu ruro¬ wym, a nastepnie dalszemu wygrzewaniu w tem¬ peraturze 1000°C, w atmosferze powietrza przez 40 minut w tym samym piecu, gdzie pozostaje do ostu¬ dzenia.Przyklad II. Plytke z tworzywa szamotowego poddaje sie Obróbce gladkosciowej. Nastepnie odtlu¬ szcza sie ja wygotowujac w wodzie destylowanej przez 20 minut, a nastepnie plucze w strumieniu wody i odwadnia poprzez kapiel w acetonie. Po wysuszeniu umieszcza sie plytke pod kloszem napy- larki, gdzie przy prózni rzedu 0,065 Pa nanosi sie na nia warstwe tlenku krzemu o grubosci 1,5 |xm.Po ewakuacji plytki z prózni wygrzewa sie ja przez 60 minut w atmosferze powietrza, w tempe¬ raturze 1100°C w piecu komorowym, gdzie pozosta¬ je do ostudzenia.Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania podloza do spiekania ta¬ bletek szklanych na podstawowej warstwie w po¬ staci tworzywa grafitowego, korundowego lub sza¬ motowego, znamienny tym, ze nanosi sie warstwe robocza w postaci krzemu lub jego tlenków o gru¬ bosci 1,1—1,6 |xm, która wygrzewa sie w atmosfe¬ rze mokrego tlenu, w temperaturze okolo 1050°C i w czasie kilkunastu minut, a nastepnie utrwala w atmosferze utleniajacej, w temperaturze 1000— —1100°C, w czasie 15^60 minut. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze warstwe robocza w postaci krzemu lub tlenków krzemu naprowadza sie droga napylania próznio¬ wego. 10 ZGK 1255/1100/82 100 egz.Cena 100,— zl PL

Claims (2)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania podloza do spiekania ta¬ bletek szklanych na podstawowej warstwie w po¬ staci tworzywa grafitowego, korundowego lub sza¬ motowego, znamienny tym, ze nanosi sie warstwe robocza w postaci krzemu lub jego tlenków o gru¬ bosci 1,1—1,6 |xm, która wygrzewa sie w atmosfe¬ rze mokrego tlenu, w temperaturze okolo 1050°C i w czasie kilkunastu minut, a nastepnie utrwala w atmosferze utleniajacej, w temperaturze 1000— —1100°C, w czasie 15^60 minut.
  2. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze warstwe robocza w postaci krzemu lub tlenków krzemu naprowadza sie droga napylania próznio¬ wego. 10 ZGK 1255/1100/82 100 egz. Cena 100,— zl PL
PL20921278A 1978-08-24 1978-08-24 Method for manufacturing the substrate for glass tablets roastingykh tabletok PL117301B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL20921278A PL117301B1 (en) 1978-08-24 1978-08-24 Method for manufacturing the substrate for glass tablets roastingykh tabletok

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL20921278A PL117301B1 (en) 1978-08-24 1978-08-24 Method for manufacturing the substrate for glass tablets roastingykh tabletok

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL209212A1 PL209212A1 (pl) 1980-04-21
PL117301B1 true PL117301B1 (en) 1981-07-31

Family

ID=19991192

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL20921278A PL117301B1 (en) 1978-08-24 1978-08-24 Method for manufacturing the substrate for glass tablets roastingykh tabletok

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL117301B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL209212A1 (pl) 1980-04-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0112922B1 (en) Panel heater
US5603875A (en) Method for producing ceramic-based components
US5336453A (en) Method for producing ceramic-based electronic components
JPH0550476B2 (pl)
US5024423A (en) Semiconductor diffusion furnace inner tube
PL117301B1 (en) Method for manufacturing the substrate for glass tablets roastingykh tabletok
US4752504A (en) Process for continuous chemical vapor deposition of carbonaceous films
JPH059395B2 (pl)
JPH04209588A (ja) 金属基板
JPS607379B2 (ja) ウエハー加熱用治具
JPH08153572A (ja) 遠赤外線ヒータ
JPH04302992A (ja) セラミックス焼成用耐火物
JPS6129090A (ja) 面状発熱体を有する物品
Khan et al. Effect of heating cycle on the structure of Ag films deposited over porcelain substrates
PL40389B1 (pl)
JP3001941B2 (ja) 窒化アルミニウム焼結体の製造方法
JPH01103976A (ja) セラミック被覆黒鉛材料の製造法
GB2135160A (en) A resistive heater
JPH0254149B2 (pl)
JPH0282484A (ja) 面状発熱体
SU1189826A1 (ru) Глазурь
SU499249A1 (ru) Состав дл покрыти пористой магнезиальной керамики
JPH0228395Y2 (pl)
JPH05251837A (ja) 回路基板
JPS60121280A (ja) 発熱体の製造法