PL112712B1 - Wax adhesive - Google Patents
Wax adhesive Download PDFInfo
- Publication number
- PL112712B1 PL112712B1 PL20292777A PL20292777A PL112712B1 PL 112712 B1 PL112712 B1 PL 112712B1 PL 20292777 A PL20292777 A PL 20292777A PL 20292777 A PL20292777 A PL 20292777A PL 112712 B1 PL112712 B1 PL 112712B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- wax
- adhesive
- elements
- rosin
- materials
- Prior art date
Links
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 title description 26
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 title description 26
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 description 18
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 16
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 11
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 239000011269 tar Substances 0.000 description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 5
- 235000013871 bee wax Nutrition 0.000 description 5
- 239000012166 beeswax Substances 0.000 description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 4
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 4
- UTOPWMOLSKOLTQ-UHFFFAOYSA-N octacosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UTOPWMOLSKOLTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 4
- 235000007173 Abies balsamea Nutrition 0.000 description 3
- 239000004857 Balsam Substances 0.000 description 3
- 244000018716 Impatiens biflora Species 0.000 description 3
- 239000004206 montan acid ester Substances 0.000 description 3
- 235000013872 montan acid ester Nutrition 0.000 description 3
- 239000012170 montan wax Substances 0.000 description 3
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 2
- 235000010446 mineral oil Nutrition 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005540 GaP Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000208152 Geranium Species 0.000 description 1
- 244000062730 Melissa officinalis Species 0.000 description 1
- 235000010654 Melissa officinalis Nutrition 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000012993 chemical processing Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000004870 electrical engineering Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N gallium phosphide Chemical compound [Ga]#P HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 1
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- -1 hydroxy-acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000000865 liniment Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000011085 pressure filtration Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 235000015170 shellfish Nutrition 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007669 thermal treatment Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest kleiwo woskowe przeznaczone do unieruchomiania elementów na uchwycie obrabiarki, ma czas obróbki tych ele¬ mentów. Kleiwo wedlug wynalazku moze byc sto¬ sowane w procesach dokladnego szlifowania i po¬ lerowania elementów optycznych, jednakze szcze¬ gólnie korzystne jego zastosowanie jest w proce¬ sach dokladnej obróbki mechaniczno-chemicznej elementów z materialów pólprzewodnikowych, jak krzem, german; z ceramiki piezoelektrycznej czy tez materialów tlenkowych, ogólnie, z materialów dla elektrcnikii poidiegiajacych dokladnej obróbce mechaniczno-chemiczniej.
Jednakowa w swej zasadzie dla elementów ze szkla i z materialów pólprzewodnikowych kinema¬ tyka dokladnego szlifowania, a zwlaszcza polero¬ wania, wymaga zamocowania obrabianych przed¬ miotów na wprowadzanym w ruch obrotowy uchwycie obrabiarki. Dla ,plytek plaskich, przy¬ kladowo, uchwytem bedzie plaska metalowa tar¬ cza nakrecana na wrzeciono szlifierki lub poler¬ ki. Zamocowanie elemenitófw na uchwycie wiaunio byc na tyle pewne, alby elementy nie zmienialy swej orientacji zarówno przed (rozpoczeciem obrób¬ ki, jak i pod wplywem warunków olbróbki. Z tych wzgledów materialy do mocowania nie moga byc plastyczne lub ciekle w podwyzszonych tempera¬ turach; nie moga byc równiez aktywne wzgledem przedmiotów obrabianych.
Materialy stosowane do mocowania elementów 10 15 25 30 optycznych opisane sa w ksiezce Z. Leguna: Te¬ chnologia szkla optycznego; czesc I Podstawowe procesy produkcji i obróbki; Panstwowe Wydaw¬ nictwa Techniczne, Warszawa 1955, str. 226—'247.
Stanowia je: czysty wosk pszczeli, wosk pszczeli mieszany z kalafonia oraz smoly do naklejania.
Czysty wosk pszczeli stosuje sie w tych przy¬ padkach, gdy nie jest wymagana duza wytrzyma¬ losc mocowania, natomiast pozadana jest latwosc stosowania przy nieznacznym nagrzaniu. Czysty wcsk pszczeli nie moze sluzyc do mocowania szty¬ wnego; ma on równiez mala wytrzymalosc mecha¬ niczna. Dodana do wosku pszczelego kalafonia zwieksza trwalosc i wytrzymalosc mechaniczna kleiwa. Im wiecej kalafonii zawiera kompozycja, tym sztywniejsze bedzie polaczenie; jednak równo¬ czesnie podwyzsza sie temperature topnienia kle¬ iwa. Poza tym kalafonia pozbawia wosk plastycz¬ nosci i sprzyja znieksztalcaniu naklejanych ele¬ mentów, zwlaszcza, jezeli sa one za cienkie w sto¬ sunku do srednicy lub dlugosci, a takie wlasnie elementy wystepuja jako materialy dla elektroniki.
Przykladem moga tu byc plytki krzemu lub ger¬ manu, które przy srednicy rzedu 50 czy nawet 76 milimetrów maja grubosc mniejsza niz 400 mi¬ krometrów.
Znanymi do zamocowywania elementów mate¬ rialami sa równiez smoly do naklejania. Wedlug Z. Leguna (op. cit.) do naklejania jza pomoca gru¬ bej warstwy stosuje sie smole, w sklad której 112 712* wchodzi kalafonia, pak drzewny lufo olej mine¬ ralny jako plastyfikatory oraz napelniacz. Jako na- pelniacze uzywa sie drolbny proszek substancji obo¬ jetnej wobec smoly i szkla, przykladowo talk, tle^ nek zelaiza, ktrede, gips iitjp. Inny znany rodzaj simoly do imaklejandia zawiiera wagowo: pak dirzewny wilosci 35—60%, lak w ilosci 43—60% oraz mase kablo¬ wa w ilosci 10^14%. Znana jest takze smola do naklejania soczewek przy centrowaniu charakte¬ ryzujaca sie wieksza wytrzymaloscia i sztywnoscia, a jednoczesnie bedaca plastyczna w stanie podgrza¬ nym. Smola ta sklada sie wagowo: z paku drze¬ wnego w ilosci §ffi%, kalafonii w ilosci 25% i szela¬ zku w ilosci ;26%:: 1 < Jak stwierdzono iprzy obróbce elementów szkla¬ nych, wszystkie smoly do naklejania przyklejone na goraco do elementu obrabianego kurcza sie po ochlodzeniu w stopniu wiekszym niz szklo. Z tego powodu powierzchnia elementów znieksztalca sie i to w stopniu tym wiekszym, im twardsza jest smola oraz im slabszy jest, elemenit szklany/ tj. im mniejszy jest wspólczynnik sztywnosci obliczony jako sitotsiuinek grubosci elemeinltu dlo jego srednicy lub maksymalnej dlugosci. Odksztalcenia wywo¬ lane skurczem smoly wplywaja zasadniczo na do¬ kladnosc wykonania, poniewaz po odklejeniu ele¬ mentu od uchwytu naprezenia ustepuja, zas oswo¬ bodzony element wykazuje wówczas deformacje powierzchni wprowadzone obróbka. Korygowanie powstajacych bledów w czasie obróbki nie jest z kolei mozliwe do przeprowadzenia z powodu nie- regularnosci odksztalcen. Z tych wzgledów przy obróbce elementów szklanych nalezy dobierac twar¬ dosc smoly odpowiednio do szytwnosci elementu.
Twardosc smoly do naklejania reguluje sie za¬ wartoscia plastyfikatora, którym w wymienionych wyzej skladach najczesciej jest pak drzewny lulb olej mineralny.
Rozwój przemyslu elektronicznego spowodowal zapotrzebowanie na masowa ale jednoczesnie do¬ kladna obróbke elementów przez szlifowanie i po¬ lerowanie. Bealizacja tych potrzeb nastepowala przez przenoszenie do przemyslu elektronicznego srodków technicznych stosowanych dotychczas z powodzeniem w przemysle optycznym. 2 uwagi jednak na rózne wlasnosci szkla i materialów pól¬ przewodnikowych, istnieja róznice w sposobach obróbki tych materialów mimo duzej analogii ki¬ nematyki ruchu. Rózne wiec sa przede wszystkim srodki polerskie, zas proces polerowania materia¬ lów pólprzewodnikowych jest procesem mecha- mczno-cbemicznym prowadzonym w srodowisku silnie agrfssrwnym i w temperaturach arzedu 40°C i wiekszych. Fakt ten oraz bardzo mala — rzedu 400 mikronaetrdw — grubosc elementów obrabia¬ nych, stawiaja ostrzejsze wymagania w stosunku do uzywanych kleiw.
*'/'¦'. Z materialów do naklejania uzywanych w prze¬ mysle optycznym> przy otorótoee mechaniczno-che¬ micznej elementów z materialów pólprzewodniko¬ wych uzyteczna okazala sie byc jedynie kompo¬ zycja wosku pszczelego z kalafonia. Stosowanie jej jest jednak produkcyjnie klopotliwe, bowiem wy¬ maga bardzo starannego dobierania proporcji obu skladników dla zapobiezenia nadmiernemu znie- 2 712 4 ksztalcaniu obrabianych elementów. Utrudnia %o znacznie zachowanie produkcyjnej powtarzalnosci kompozycji o raz okreslonych wlasciwosciach.
Znane jest równiez stosowanie, jako materialu do 5 naklejania elementów ,j pólprzewodnikowych, ma- kroparaifiiny, charakteryzujacej sie stosunkowo wy¬ soka temperatura miekniecia. Stosowanie makro- parafiny jest jednak dosc ograniczone ze wzgledu na spora róznice temperaturowa miedzy mieknie- 10 ciem a plynnoscia; poza tym nie ma ona zbyt dobrej przyczepnosci. ; Celem wynalazku jest opracowanie kleiwa wos¬ kowego przeznaczonego' zwlaszcza dla potrzeb przemyslu elektronicznego. Kleiwo takie powinno 15 chairakteryzicwiac siie inasitepiujacymi .wlasnosciami: wysoka czystoscia przy; calkowitym "wyeliminowa¬ niu zanieczyszczen mechanicznych; mala rozpietos¬ cia temperaturowa miedzy mieknieciem i plyn¬ noscia; ,mozliwoscia uzyskania równej i bardzo 20 cienkiej, rzedu 2 mikinomeltiróiw, warstwy klejacej miedzy podlozem a nuaiteriialem przyklejanym w temperaturze zblizonej dlo itemperatiury plyniecia; dicibra rozpuszczaliniosicia kleiwa w rozipuszczBilndikaich organicznych, jak trójchloroetylen czy trójchloro- 25 etan, a takze mozliwoscia regulowania temperatury plyniecia przez ilosciowe zmiany skladników kle- iiwa — w zaleznosci od rodzaju i geometrii pinzykle- jamych elementów.
Istota wynalazku jest dobór skladników kleiwa 30 woskowego, które dzieki swym wlasciwosciom wy¬ wieraja wplyw ma jego%jakosc, latwosc mainoszenia i trwalosc utrzymywainiiia naklejonych elementów na uchwyt.
Podstawowymi skladnikami kleiwa woskowego 35 wedlug wynalazku sa niektóre skladniki z wosku montanowego oraz kalafonia balsamiczna, której ilosc w kleiwie woskowym determinuje tempera¬ ture jego miekniecia i plynnosci.
Sklad wosku montanowego w ogólnych podzia- 40 lach procentowych przedstawia sie nastepujaco: estry, kwasów woskowych 53%, estry alkoholi i wyzszych kwasów alifatycznych 15—32%, wolne kwasy woskowe 117%, wolne alkohole 1^2%, ke¬ tony 3^6%, zywice 6,5—13%, estry hydrooksy- 45 kwasów zawierajace jsiarke 4—5%, zywice zawiera¬ jace siarke 6,5—8%, asfalty 3% oraz niewielkie ilosci nie zdefiniowanych substancji nie ulegaja¬ cych zmydleniu. Jednym z glównych kwasów wy¬ stepujacych w surowym wosku jest kwas monta- 50 nowy CtfHgrGOOH. Zgodnie z wynalazkiem od¬ powiednie skladniki kleiwa stanowia produkt uszlachetniony. W wyniku chemicznej przeróbki surowego wosku montanowego, która .polega ko¬ lejno na: wstepnej rafinacji, odzywiczeniu, wtór- 55 nej rafinacji, — utlenianiu, estryfikacji kwasów woskowych glikolem etylowym oraz czesciowym zobojetnieniu wodnych kwasów tluszczowych i wo¬ skowych wodorotlenkiem wapnia CaCOH)* Proce¬ sy rafinacji powoduja zwiekszenie ilosci wolnych 60 kwasów na skutek rozlozenia estrów oraz utlenie¬ nia uwolnionych z nich alkoholi do kwasów karbo- ksylowych. Tak przygotowany surowy wosk mon¬ tanowy staje sie surowcem bazowym dla kleiw woskowych stosowanych w przemysle elektronicz- 65 mym.1121 5 Nastepnym skladnikiem niezbednym dla uzy¬ skania kleiwa woskowego zgodnie z wynalazkiem jest kalafonia naturalna, szczególnie kalafonia bal¬ samiczna, wyrózniajaca sie wysoka czystoscia i lat¬ woscia laczenia sie ze skladnikami woskowymi. 5 Ze skladników woskowych szczególnie dwa maja wplyw na jakosc kleiwa wytwarzanego zgodnie z wynalazkiem. Sa to estry alkoholi i wyzszych kwasów alifatycznych oraz wolne kwasy wosko¬ we. Maja one bezposredni wplyw na jakosc wy- 10 tworzonego kleiwa, szczególnie na sile adhezji kle¬ iwa do podloza i obrabianego elementu.
W sklad kleiwa zgodnie z wynalazkiem wchodzi wagowo 42,4—50,4% estrów kwasu montanowego, 24,0—28,5% alkoholi i wyzszych kwasów alifatycz- ^ nych, 13,6—16,1%' wolnych kwasów woskowych oraz 5—'20% kalafonii balsamicznej.
W zaleznosci od wlasciwosci obrabianego mate¬ rialu pólprzewodnikowego czy innego stosowanego w elektronice, stosuje sie kleiwa woskowe o do- 2o branych do tych materialów temperaturach miek¬ niecia i plynnosci, co reguluje sie iloscia kalafonii balsamicznej. Dla uzyskania temperatury plynie¬ cia +50^C stosuje sie kleiwo o zawartosci 20% wagowych kalafonii balsamicznej. Przy tej tern- 25 peraturze plyniecia, temperatura robocza kleiwa nie przekracza 40°C. W innych przypadkach, gdy konieczna jest dla procesów obróbczych tempera¬ tura robocza 65X!, stosuje sie kleiwo o zawartosci wagowo 5% kalafonii balsamicznej. 30 Kleiwo woskowe wedlug wynalazku ma zasto¬ sowanie przede wszystkim w przemysle elektro¬ nicznym do obróbki takich materialów, jak krzem, german, arsenek galu, fosforek galu, ceramika czy tez materialy tlenkowe. Kleiwo wedlug wy- 35 nalazku mozna jednak z równym powodzeniem stosowac takze do obróbki elementów optycznych.
Przyklad. Dobór skladników kleiwa wosko¬ wego zgodnie z wynalazkiem, przykladowo, w sto¬ sunku wagowym jest nastepujacy: 40 6 — estry kwasu montanowego 48% — estry alkoholi i wyzszych kwasów alifatycz¬ nych 27% — wolne kwasy woskowe 15% — kalafonia balsamiczna 10% Kleiwo wedlug wynalazku wykonywane jest przez wagowe dozowanie procentowo okreslonych wielkosci masy kleiwa i dzialania technologicznie niezbednie dla ujedinioarodndeiniia masy, a wiec obrób¬ ke termiczna i mechaniczne mieszanie.
Procentowo okreslone skladniki umieszcza sie razem w naczyniu ze stali kwasoodpomej i ogrze¬ wa celem doprowadzenia wsadu do postaci plyn¬ nej. Plyinina mase mdesza slie mechiandczinoe w ezar- sie 30—60 sekund, po czym poddaje sie cisnienio¬ wej filtracji w temperaturze wyzszej od tempera¬ tury topnienia o 5—10°C. Dla przykladowego ze¬ stawu masy temperatura ta wynosi 80^85°C. Prze- filtrowana mase wlewa sie w metalowe formy ce¬ lem uzyskania ksztaltek wygodnych dla przecho¬ wywania. Tak przygotowane kleiwo woskowe pa¬ kuje sie w material uniemozliwiajacy jego zanie¬ czyszczenie i wówczas moze byc ono przechowy¬ wane przez dlugi czas, nie tracac wlasnosci apli¬ kacyjnych.
Ziaistrzezeniiie patentowe Kleiwo woskowe, sluzace do unieruchomienia ele¬ mentów na uchwycie obrabiarki na czas obróbki tych elementów, przeznaczone zwlaszcza do sto¬ sowania w procesach dokladnego szlifowania i po¬ lerowania elementów z materialów dla elektroni¬ ki, znamienne tym, ze w sklad masy kleiwa wchodza w procentowym udziale wagowym estry kwasu montanowego w ilosci 42,4—50,4%, estry alkoholi i wyzszych kwasów alifatycznych w ilosci 24,0—28,5%, wolne kwasy^ woskowe w ilosci 13,6—16,1% oraz kalafonia balsamiczna w ilosci 5—20%.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL20292777A PL112712B1 (en) | 1977-12-14 | 1977-12-14 | Wax adhesive |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL20292777A PL112712B1 (en) | 1977-12-14 | 1977-12-14 | Wax adhesive |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL202927A1 PL202927A1 (pl) | 1979-06-18 |
| PL112712B1 true PL112712B1 (en) | 1980-10-31 |
Family
ID=19986173
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL20292777A PL112712B1 (en) | 1977-12-14 | 1977-12-14 | Wax adhesive |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL112712B1 (pl) |
-
1977
- 1977-12-14 PL PL20292777A patent/PL112712B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL202927A1 (pl) | 1979-06-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI689565B (zh) | 半導體晶片之製造方法 | |
| PL112712B1 (en) | Wax adhesive | |
| US3081180A (en) | Method of preparing glass batch ingredients | |
| DE59405052D1 (de) | Verfahren zum herstellen von granulat | |
| US1036454A (en) | Process of producing alumina. | |
| US1546115A (en) | Vitreous bonded silicon-carbide abrasive article | |
| US2055220A (en) | Buffing and polishing composition and method of using the same | |
| US2393202A (en) | Waxlike compounds | |
| JP6902198B2 (ja) | 嫌気硬化性組成物 | |
| US2371688A (en) | Molding composition | |
| CN114426808B (zh) | 一种氧化铝陶瓷材料用工业粘结剂 | |
| JPH04186832A (ja) | ウエハ加工用フィルム | |
| JP3921457B2 (ja) | 仮固定用ホットメルト接着剤 | |
| SU1513001A1 (ru) | Композици дл защитного покрыти диэлектрических материалов из кварца и стекла | |
| US766131A (en) | Treating scrap-steel and recarburizing same. | |
| CS261255B1 (cs) | Tavené lepidlo zejména pro uchycení součástek při opracování | |
| CS236202B1 (en) | Compound for grinding tolls making especially for grinding wheels,segments,stones and files | |
| US765724A (en) | Treating scrap-steel and recarburizing same. | |
| SU1725293A1 (ru) | Кле щий состав дл креплени полупроводниковых пластин при полировании | |
| US606709A (en) | Leon five | |
| US730897A (en) | Ink-reducer and process of making same. | |
| US580565A (en) | Process of plating vessels | |
| US18381A (en) | Improvement in preparing fats for candle-making | |
| USRE2195E (en) | Improved composition of matter for printers inking-rollers and for other purposes | |
| US590177A (en) | Process of preparing onyx marble for use in relief-printing |