PL104477B1 - Sposob wytwarzania orientacji planarnej czasteczek w cienkich warstwach cieklych krysztalow - Google Patents

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania orientacji planarnej czasteczek w cienkich warstwach cieklych krysztalów.

W technice badawczej i w technologii, a zwlaszcza przy budowie urzadzen elektrooptycznych, w których elementem roboczym sa cienkie warstwy nematycznych cieklych krysztalów konieczne jest jednolite w calej warstwie ustawienie dlugich osi czasteczek wzgledem powierzchni plytek nosnych. Jedna z odmian takiego ustawienia jest orientacja planarna, przy której dlugie osie czasteczek leza równolegle do plaszczyzn plytek nosnych i zachowuja staly kierunek na tych plaszczyznach. Os optyczna tak zorientowanej warstwy molekular¬ nej jest równolegla do plaszczyzny warstwy i równolegla do kierunku wyznaczonego przez polozenie dlugich osi czasteczek w warstwie. Planarnie zorientowane cienkie warstwy nematycznych cieklych krysztalów umiesz¬ czone odpowiednio miedzy skrzyzowanymi polaroidami rozjasniaja pole widzenia. Gdy do tak zorientowanej warstwy zostanie przylozone pole elektryczne w ten sposób, ze jego dzialanie spowoduje deformacje uporzadko¬ wania planarnego, to pole widzenia moze ulec zupelnemu zaciemnieniu. Po wylaczeniu pola elektrycznego wyzej opisany efekt elektrooptyczny zanika, czyli osie czasteczek pod wplywem oddzialywan z powierzchniami plytek nosnych powracaja do wyjsciowej konfiguracji planarnej.

W technice orientacje planarna wywoluje sie przez wytworzenie ukierunkowanych oddzialywan po¬ wierzchniowych na granicy faz ciekly krysztal - podloze nosne. Te orientujace oddzialywania powierzchniowe mozna zrealizowac przez pokrycie powierzchni nosnych odpowiednimi substancjami powierzchniowo czynnymi, takimi jak alkoksysilany i barwniki, a takze przez mikrorowkowanie powierzchni obu tych metod.

Istota sposobu polega na tym, ze na powierzchnie plytki nosnej nanosi sie kierunkowo szelak w postaci czystego zwiazku lub jego roztwór. Kierunkowo naniesiony szelak tworzy ukierunkowana strukture powierzch¬ niowa i przez to powoduje powstanie jednorodnego uporzadkowania planarnego czasteczek cieklego krysztalu, bedacego w kontakcie z powierzchnia pokryta szelakiem. Dlugie osie czasteczek ciekleco krysztalu, a wiec i os optyczna warstwy cieklokrystalicznej, skierowane sa w tym przypadku wzdluz kierunku rozprowadzania szelaku2 104 477 na powierzchni nosnej. Jest to sposób bardzo prosty w stosowaniu i efektywny, który pozwala na jednorodne uporzadkowanie planarne duzych obszarach powierzchni.

Przedmiot wynalazku ilustruje ponizej podany przyklad, który jednak nie zaweza jego zakresu ochrony.

Przyklad. Elektrody szklane otrzymane przez naniesienie na powierzchnie szkla cienkiej warstwy tlenku cyny SnOi, pokrywa sie przez pocieranie w jednym kierunku 10% roztworem szelaku w alkoholu etylo¬ wym. Powstajaca na powierzchni tlenku cyny ukierunkowana warstwa szelaku wywiera orientujace dzialanie na czasteczki cieklego krysztalu wprowadzanego miedzy tak obrobione powierzchnie.

Claims (1)

1. Zastrzezenia patentowe Sposób wytwarzania orientacji planarnej czasteczek w cienkich warstwach cieklych krysztalów poprzez dzialanie srodkami powierzchniowo czynnymi na granicy faz pomiedzy cieklym krysztalem i powierzchnia nosna plytki, znamienny tym,ze na powierzchnie plytki nosnej nanoii sie kierunkowo szelak w postaci czystego zwiazku lub jego loztworu. Prac. Poligraf. UP PRL naklad 120+18 Cena 45 zl