PL103094B1 - Srodek zdolny do fotopolimeryzacji - Google Patents

Srodek zdolny do fotopolimeryzacji Download PDF

Info

Publication number
PL103094B1
PL103094B1 PL1976194590A PL19459076A PL103094B1 PL 103094 B1 PL103094 B1 PL 103094B1 PL 1976194590 A PL1976194590 A PL 1976194590A PL 19459076 A PL19459076 A PL 19459076A PL 103094 B1 PL103094 B1 PL 103094B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
hydrogen
formula
acid
phenyl
synthesis
Prior art date
Application number
PL1976194590A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of PL103094B1 publication Critical patent/PL103094B1/pl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C205/00—Compounds containing nitro groups bound to a carbon skeleton
    • C07C205/44—Compounds containing nitro groups bound to a carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by —CHO groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C205/00—Compounds containing nitro groups bound to a carbon skeleton
    • C07C205/49—Compounds containing nitro groups bound to a carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by carboxyl groups
    • C07C205/56—Compounds containing nitro groups bound to a carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by carboxyl groups having nitro groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C255/00—Carboxylic acid nitriles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C47/00—Compounds having —CHO groups
    • C07C47/20—Unsaturated compounds having —CHO groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C47/24—Unsaturated compounds having —CHO groups bound to acyclic carbon atoms containing halogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C57/00—Unsaturated compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C57/30—Unsaturated compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms containing six-membered aromatic rings
    • C07C57/42—Unsaturated compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms containing six-membered aromatic rings having unsaturation outside the rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C59/00—Compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
    • C07C59/40—Unsaturated compounds
    • C07C59/58—Unsaturated compounds containing ether groups, groups, groups, or groups
    • C07C59/64—Unsaturated compounds containing ether groups, groups, groups, or groups containing six-membered aromatic rings
    • C07C59/66—Unsaturated compounds containing ether groups, groups, groups, or groups containing six-membered aromatic rings the non-carboxylic part of the ether containing six-membered aromatic rings
    • C07C59/68—Unsaturated compounds containing ether groups, groups, groups, or groups containing six-membered aromatic rings the non-carboxylic part of the ether containing six-membered aromatic rings the oxygen atom of the ether group being bound to a non-condensed six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10—Esters
    • C08F20/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10—Esters
    • C08F20/34—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate
    • C08F20/36—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate containing oxygen in addition to the carboxy oxygen, e.g. 2-N-morpholinoethyl (meth)acrylate or 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest srodek zdolny do fotopoli¬ meryzacji, stosowanych, miedzy innymi, zwlaszcza do wytwarzania plyt swiatloczulych, z których produkuje sie plyty drukarskie.Znanych' jest wiele kompozycji swiatloczulych, które oparte sa na rozpuszczalnych w rozpuszczalnikach swiatlo¬ czulych polimerach, takich jak np. policynamonian winylu.Srodki te jednak maja te wade, ze nakladane w postaci cienkiej warstwy na odpowiednie podloze w celu wytwa¬ rzania plyty drukarskiej lub warstwy ochronnej, po utwar¬ dzeniu ich promieniowaniem aktywnym, wymagaja trudno dostepnych i czasem toksycznych i/lub palnych rozpuszczal¬ ników do usuniecia nieutwardzonych czesci.Kompozycje te znane sa z opisów patentowych W. Bry¬ tanii nr 695 497,1 337 747,1 350 351,1 360 891 i 1 363 214.We wszystkich powyzszych opisach rozpuszczalniki stoso¬ wane do wywolywania fotopolimeryzujacych substancji po naswietleniu poprzez obraz stanowia ciekle organiczne roz¬ puszczalniki.Zastosowanie materialów fotopolimeryzujacych do wy¬ twarzania plyt drukarskich jest dobrze znane. Fotopolimer naklada sie na podloze tworzac plyte swiatloczula, która nastepnie naswietla sie odpowiednio dzialajacym swiatlem poprzez obraz. Czesci fotopolimeru, na które padlo swiatlo ulegaja polimeryzaqi i staja sie mniej rozpuszczalne w roz¬ puszczalnikach, rozpuszczajaoych niespolimeryzowany foto¬ polimerw czesciachnienaswietlonych.Wywolujacnaswietlo¬ na plyte takim rozpuszczalnikiem, usuwa sie selektywnie nienaswietlone czesci fotopolimeru z podloza pozostawiajac obraz drukarski, wytworzony przez naswietlone czesci fotopolimenit Aby wytworzone plyty drukarskie nadawaly sie do celów handlowych, trzeba stosowac taki fotopolimer, który tworzy obrazy mechanicznie i chemicznie odporne na warunki panujace w czasie drukowania. Ponadto fotopolimer musi byc prosty w produkcji, byc czuly na dzialajace swiatlo i wykazywac dobra przyczepnosc do podloza po naswietle¬ niu.Dotychczas stosowano wiele róznych fotopoiimerów, ale wszystkie one byly tego typu, ze mozna je bylo wywolywac wylacznie przy uzyciu rozpuszczalnika organicznego.Celem wynalazku bylo opracowanie fotopolimeryzujacej substancji, posiadajacej charakterystyke niezbedna do zastosowania jej do wytwarzania plyt drukarskich, ale nadajacej sie do wywolywania po naswietleniu poprzez obraz bez uzycia cieklych rozpuszczalników organicznych Problemem technicznym, jaki byl do rozwiazania, bylo opracowanie fotopolimeryzujacej substancji, która mialaby pozadana charakterystyke, a nie wymagalaby zastosowania cieklych rozpuszczalników organicznych do wywolywania.Problem ten rozwiazano opracowujac srodek wedlug wy¬ nalazku.Srodek wedlug wynalazku zawiera polimer zawierajacy wieksza ilosc merów o wzorze 1, w którym R1 oznacza atom wodoru lub grupe metylowa, R2 oznacza atom wodoru, grupe alkilowa, ewentualnie podstawiona grupe arylowa, ewentualnie podstawiona, lub grupe heterocykliczna, ewentualnie podstawiona, R3, R4 i R5, które moga byc takie same lub rózne oznaczaja atom wodoru, chlorowca, grupe 103 094103 094 3 cyjanowa, alkilowa, arylowa, alkoksylowa, aryloksylowa, aryloalkilowa, aryloalkoksylowa lub alkoksykarbonylowa, Z oznacza grupe hydroksylowa lub estrowa, zas a oznacza liczbe calkowita wieksza lub równa jednosci. Korzystnie, polimer ten zawiera dodatkowo wieksza ilosc merów o wzo¬ rze 2, w którym Z' oznacza grupe hydroksylowa, estrowa lub atom chlorowca, R1 — R5 maja znaczenie jak we wzorze 1, R6 ma znaczenie jak R3 — R5 we wzorze 1, zas b oznacza 0 lub liczbe calkowita wieksza lub równa jednosci.Dalszym korzystnym polimerem jest taki, który zawiera ponadto wieksza ilosc merów o wzorze 3, w którym R1 ma znaczenie jak we wzorach 1 i 2, R7 oznacza grupe alkilowa, ewentualnie podstawiona, grupe arylowa, ewentualnie podstawiona lub grupe heterocykliczna, ewentualnie pod¬ stawiona, zas Z' oznacza grupe hydroksylowa, estrowa lub atomchlorowca. * Dalszym korzystnym polimerem jest taki, który ponadto zawiera mery, pochodne co najmniej jednego innego nie¬ nasyconego addycyjnego monomeru zdolnego do poli¬ meryzacji.We wzorach 1 i 2, R2 moze oznaczac np. grupefenyIowa, 2-nitrofenylowa, 3-nitrofenylowa, 4-nitrofenylowa, 2-ami- nofenylowa, 3-aminofenylowa, 4-aminofenylowa, 2-azydo- fienylowa, 3-azydofenylowa, 4-azydofenylowa, 2-bromo- fenylowa, 3-bromofenylowa, 4-bromofenylowa, 2-chloro- fenylowa, 3-chlorofenylowa, 4-chlorofenylowa, 4-fenylo- fenylowa, 2-metoksyfenylowa, 3-metoksyfenylowa, 4-meto- ksyfenylowa, 3,4-metylenodioksyfenylowa, 2-metylofeny- lowa, 3-metylofenylowa, 4-metylofenylowa,2-etylofenylowa» 3-etylofenylowa, 4-etylofenylowa, 4-izopropylofenylowa, 3,4-dwuchlorofenylowa, 2,4-dwuchlorofenylowa, 2,4-dwu- nitrofenylowa, 2-nitro-5-chlorofenylowa, 2,3-dwumetoksy- fenylowa, 3,4-dwumetoksyfenylowa, 2,4-dwumetoksyfeny- lowa, 2,5-dwumetoksyfenylowa, 3,5-dwumetoksyfenylowa, 2-etoksyfenylowa, 3,4-dwumetoksyfenylowa, 4-dwumetylo- aminofenylowa, 4-dwuetyloaminofenylowa, 1-naftyIowa, 2-naftylowa, 2-etoksy-l-naftyIowa, 2-metoksy-l-naftylowa, 4,8-dwumetoksy-1-naftylowa$ 2,7-dwumetoksy-1-naftyIowa, l,4-dwumetoksy-2-naftylowa, 6-metoksy-2-naftylowa, 4- -chloro-1-naftyIowa, 2-chloro-l-naftyIowa, 4-bromo-l-naf¬ tyIowa, 5-bromo-l-naftyIowa, l-bromo-2-naftylowa, 5- -bromo-2-naftylowa, 4-nitro-l-naftyIowa, l-nitro-2-nafty- lowa, 9-antranilowa, 10-metylo-9-antranilowa, 2-furylowa, -metylo-2-furylowa, 5-bromo-2-furylowa, 5-chloro-2- -furylowa, 5-jodo-2-furylowa, 5-nitro-2-furylowa, 2-tieny- lowa, 5-bromo-2-tienylowa, 3,4-dwuchloro-2-tienylowa, 5- -nitro-2-tienylowa, l-metylo-2-pyrrolilowa, 2-piridylowa, 3-piridylówa/4-piridylowa, 6-metylo-2-piridylowa, 4-ma- leimidofenylowa lub 4-acetamidofenylowa.Szczególnie korzystne sa polimery w których, we wzorze 1 R2 oznacza grupe fenylowa, a R3, R4 i Rs oznaczaja atomy wodoru, R2 oznacza grupe 2-nitrofenylowa, a R3, R4 i Rs oznaczaja atomy wodoru; R2 oznacza grupe 3-nitrofenylowa, a R3, R4 i R5 oznaczaja atomy wodoru; R2 oznacza grupe fenylowa, R3 oznacza atom chloru, a R4 i R5 atomy wodoru; R2 oznacza grupe 4-nitrofenylowa, R3 oznacza atom chloru, a R4 i R5 oznaczaja atomy wodoru; ponadto polimery, w których we wzorze 2, a zwlaszcza gdy b oznacza 0, R2, R5 i R6 oznaczaja atomy wodoru; R2 i R5 oznaczaja atomy wodoru, a R6 oznacza grupe metylowa; R2 oznacza grupe fenylowa, a R5 i R6 oznaczaja atomy wodoru, R2 oznacza grupe 4-metoksyfenylowa, R5 oznacza atom wodoru, a R6 oznacza grupe cyjanowa; R2 oznacza grupe 4-chlorofe¬ nylowa, R5 oznacza atom wodoru, a R6 oznacza grupe cyja¬ nowa; R2 oznacza grupe 4-chlorofenylowa, R5 oznacza 4 r atom wodoru, R6 oznacza grupe fenylowa; R2 oznacza, grupe 4-metylofenylowa, R5 oznacza atom wodoru, a R' oznacza grupe tenoksylowa, R2 oznacza grupe 4-azydoferiy- Iowa, R5 — oznacza atom wodoru, a R6 oznacza grupe cyja- nowa; R2 oznacza grupe 2-furylowa, a R5 i R6 oznaczaja • atom wodoru; oraz polimery o wzorze 2, w których, gdy b oznacza jednosc, R2 oznacza grupe fenylowa, R3, R4 i Rs oznaczaja atom wodoru, a R6 oznacza grupe cyjanowa* R2 oznacza grupe fenylowa, R3, R4 i R5 oznaczaja atomy io wodoru, a R6 oznacza grupe etoksykarbonylowa; R2 ozna¬ cza grupe fenylowa, R3 i R4 oznaczaja atomy wodoru, R5 oznacza grupe metylowa, a R6 cyjanowa; ponadto polimery o wzorze 3, w którym R7 oznacza grupe metylowa* a Z' hydroksylowa; R7 oznacza grupe heptylowa, a Z' hy- droksylowa; R7 oznacza grupe etylowa, a Z' atom chloru; R7 grupe trójchlorometyIowa, a Z' hydroksylowa.W przypadku, gdy polimer równiez zawiera mery pocho¬ dzace od innego nienasyconego addycyjnego monomeru, zdolnego do polimeryzacji, monomer ten moze stanowic kwas akrylowy, lub metakrylowy; akrylan lub metakrylan; hydroksyakrylan, lub -metakrylan; akrylamid, ewentualnie podstawiony; metakrylamid, ewentualnie podstawiony; akrylonitryl; metakrylonitryl, chlorek winylu, octan winylu; * styren, ewentualnie podstawiony jak a-metylostyren* 4-chlorostyren lub p — metoksystyren; eter winylowy jak eter izobutylowinylowy, 2-chlorowinylowy, lub fenylo- wowinylowy; dien alifatyczny jak chloropren, butadien lub heksadien. Obecnosc takich merów moze powodowac pewne korzystne cechy, jak np. lepsza chlonnosc farby, lepsza odpornosc na scieranie podczas druku i/lub wyzsza swiatloczulosc.Polimer stosowany w srodku wedlug wynalazku wytwarza sie na drodze reakcji polimeru akrylanu 2,3-epoksypropylu lub metakrylanu 2,3-epoksypropylu (albo homopolimer albo kopolimer akrylanu ,lub metakrylanu 2,3-epoksy¬ propylu z np. jednym z wyzej wymienionych monomerów) z etylenowo nienasyconym kwasem dwukarboksylowym o wzorze 4, w którym a oraz R2 — R5 maja wyzej podane znaczenie. * 40 Czulosc na promieniowanie polimeru zawartego w srodku wedlug wynalazku jest spowodowana obecnoscia podwój¬ nych wiazan, a jego rozpuszczalnosc w alkaliach obecnoscia -" nieprzereagowanych grup karboksylowych.W korzystnych warunkach jednak powyzsza reakcje 45 mozna tak ustawic, zeby nie wszystkie grupy epoksydowe w polimerze z akrylanu lub metakrylanu 2,3-epoksypropylu reagowaly z kwasem dwukarboksylowym. Mozna wtedy poddawac te nieprzereagowane mery z etylenowo nienasy¬ conym kwasem monokarboksylowym (lub jego halogenkiem) 50 o wzorze 5, w którym b i R2 — R6 maja wyzej podane zna¬ czenie, przy czym powstaja mery o wzorze 2 i/lub z nasyco¬ nym kwasem karboksylowym, (lub jego halogenkiem), przy czym powstaja mery o wzorze 3. Mery o wzorze 2 daja zwiekszona czulosc na promieniowanie bez rozpuszczal- 55 nosci w alkaliach, zas mery o wzorze 3 daja zwiekszona chlonnosc farby.Reakcja grup epoksy z kwasami i halogenkami kwaso¬ wymi daje mery, zawierajace II rzed. grupy hydroksylowe lub atomy chlorowca (oznaczone przez Z i Z' we wzorach 60 1,2 i 3) w przypadku, gdy wytwarza sie II rzed. grupy hydroksylowe, mozna je korzystnie poddawac reakcji z kwa¬ sem karboksylowym lub jego estrem, tworzac jego pochodna jak, halogenek kwasowy lub bezwodnik, gdzie II rzed. grupy hydroksylowe przeksztalcaja sie w grupy estrowe^ 65 Przez reakcje II-rzed. grup hydroksylowych z kwasami103 094 stosowanymi do wytwarzania merów o wzorze 2 lub z ich pochodnymi tworzacymi estry* otrzymuje sie wyzsza czulosc na promieniowanie, podczas, gdy zastosowanie kwasów, prowadzacych do merów p wzorze 3, lub pochodnych tych ^wasów, tworzacych estry, prowadzi do uzyskania wiekszej chlonnosci farby. W ten sposób zmieniajac reagenty i wa¬ runki reakcji mozna otrzymac rózne srodki zdolne do foto- polimeryzacji o róznych wlasciwosciach w zakresie rozpusz¬ czalnosci w alkaliach, czulosci na promieniowanie, chlon¬ nosci farby i odpornosci na scieranie.Srodek wedlug wynalazku moze tez zawierac barwniki, pigmenty, barwniki kadmowe, plastyfikatory i/lub ucztfla- cze. Srodek ten mozna nakladac na odpowiednie podloze, np. na aluminium, w celu wytwarzania plyty czulej na pro¬ mieniowanie, która nastepnie sie naswietla.Wiflka zaleta srodka wedlug wynalazku jest, to ze nadaje sie on miedzy innymi, do przemyslowej produkcji plyt drukarskich, a moze byc wywolywany, po naswietleniu poprzez obraz, za pomoca prostego wodnego • roztworu alkalicznego. Dzieki temu nie ma potrzeby stosowania kosztownych i/lub toksycznych i/lub latwopalnych cieklych rozpuszczalników organicznych, które byly niezbedne przy uzyciu znanych srodków.Nastepujace przyklady ilustruja wynalazek. Przed przy¬ kladami opisano niektóre sposoby syntezy pewnych poli¬ merów i kwasów karboksylowych.Synteza AL — polimetakrylan 2,3-epoksypropylu. 8 g a, a-azodwuizobutyronitrylu zmieszano z 200 g metakrylanu 2,3-epoksypropylu i dodano powoli do 400 ml 2-butanonu w atmosferze azotu w 70°C. Temperature te utrzymywano w ciagu 3 godzin, a nastepnie podniesiono do 80 °C w ciagu 2 godzin. Ochlodzony roztwór rozcien¬ czono 1 400 ml butanonu-2, wlano do 12 1 eteru naftowego w 40 — 60°, zebrano produkt i wysuszono, otrzymujac 195 g polimetakrylanu 2,3-epoksypropylu o równowazniku epoksydowym 158,7.Synteza A 2 — Poliakrylan 2,3-epoksypropylu. 0,36 g a', a-azodwujzobutyronitrylu zmieszano z 18,0 g •akrylanu 2,3-epoksypropylu i roztwór powoli dodano do mieszaniny 60 ml butanonu-2 i 20 ml etanolu, w atmosferze azotu w 60 *C. Temperature te utrzymywano w ciagu 1 godziny, nastepnie 70 °C w ciagu 2. godzin i nastepnie 80 °C 2 ciagu dalszych 2 godzin. Ochlodzony roztwór rozcienczono w 100 ml butanonu-2, wlewano do 1 1 eteru naftowego w 40 — 60°, produkt zbierano i suszono otrzy¬ mujac 17,2 g poliakrylanu 2,3-epoksypropylu o równowaz¬ niku epoksydowym 132,30.Synteza A 3 — Kopolimer metakrylanu 2,3-epoksypro¬ pylu i metakrylanu dodecylu.Mieszanine 16,63 g metakrylanu 2,3-epoksypropylu i 3,31 g metakrylanu dodecylu, 0,4 g dodecylotiolu i 0,8 g a, a'-azodwuizobutyronitrylu polimeryzowano w 50 ml butanonu-2 sposobem opisanym$?syntezie A 1, otrzymujac ,2 g zadanego kopolimeru o równowazniku epoksydo¬ wym 178,2.Synteza A 4 — Kopolimer metakrylanu 2,3-epoksy- :propylu i styrenu.Mieszanine 18,49 g metakrylanu 2,3-epoksypropylu, 1,51 g styrenu, 0,8 g dodecylotiolu i 1 g a, a-azodwuizo¬ butyronitrylu polimeryzowano w 50 ml butanonu-2 spo- rsobem opisanym w syntezie A1, otrzymujac 18,4 g zadanego kopolimeru o równowazniku epoksydowym 171.Synteza A5- Kopolimer akrylanu 2,3-epoksypropylu j&rylonitrylu.Mieszanine 20 g akrylanu 2,3-epoksypropylu, 0,92 g 6 "akrylonitrylu, 6,4 g dodecylotiolu i 0,8 g a, a-azodwuizo¬ butyronitrylu polimeryzowano w mieszaninie 50 ml buta¬ nonu-2 i 20 ml etanolu, sposobem opisanym w syntezie A 2, otrzymujac 20,1 g zadanego kopolimeru o równowaz- niku epoksydowym 145.Synteza BI. (i) Wytworzono aldehyd 3-nitrocynamono- wy przez kondensacje Claisena-Schmidta 3-nitrobenzalde- hydu z acetaldehydem w nastepujacy sposób.Roztwór 80 g (0,53 mola) 3-nitrobenzaldehydu w 1,6 I etanolu traktowano 1,8 1 wody. Dodano 36 ml (0,644 mola) acetaldehydu, a nastepnie 56 ml 10% wodnego roztworu NaOH i mieszanine mieszano w ciagu 5 godzin w 20°C.Mieszanine zdekantowano i pozostalosc gotowano z 25 % kwasem octowym (2 1), ochlodzono i zebrano surowy produkt (13,7 g), który zastosowano dalej jak nastepuje: (ii) Wytworzono kwas 3-nitrocynamylidenomalonowy przez reakcje 13,7 g aldehydu 3-nitrocynamonowego z kwasem malonowym (8,05 g, 0,077 mola) w lodowatym kwasie octowym (20 ml) w 100 °C w ciagu 6 godzin. Po ochlodzeniu zebrano produkt, przemyto i wysuszono^, otrzymujac 8,9 g zadanego produktu o temperaturze 185 —187 °C.Synteza B 2 — Kwas cynamylidenomalonowy wytworzo¬ no przez reakcje 125 g (0,95 mola) aldehydu cynamonowego ze 104 g (1 mol) kwasu malonowego w lodowatym kwasie octowym (200 ml) sposobem opisanym w syntezie B 1 (ii); o temperaturze topnienia 206 — 208°C.Synteza B 3 — kwas 2-nitrocynamylidenomalonowy wytworzono przez reakcje 100 g (0,614 mola) aldehydu 2-nitrocynamonowego ze 100 g (0,96 mola) kwasu malono¬ wego w lodowatym kwasie octowym (95 ml), sposobem opisanym w syntezie B* 1 temperatura topnienia 185 — —197°C.Synteza B 4. (i) Wytworzono aldehyd /?-chlorocynamo- nowy w nastepujacy sposób: 24 ml (0,26 mola) chlorku fosforylu dodawano powoli do bezwodnego dwumetyloformamidu (40 ml), utrzymujac temperature 0°C i otrzymany roztwór mieszano w ciagu minut. 40 24 g (0,2 mola) acetofenonu rozpuszczono w 25 ml bez¬ wodnego dwumetyloformamidu i mieszanine wolno do¬ dawano do roztworu chlorku fosforylu. Mieszajac, pozosta¬ wiono mieszanine do osiagniecia temperatury pokojowej, mieszano w ciagu 2 godzin po czym wlano do mierzonego 45 roztworu 300 g octanu sodu w 750 ml wody. Po mieszaniu w ciagu 30 minut produkt ekstrahowano eterem, ekstrakty eterowe suszono nad siarczanem magnezu i usuwano eter, otrzymujac 28,8 g surowego produktu, który stosowano bez dalszego oczyszczania. 50 (ii) Wytworzono kwas y-chlorocynamylidenomalonowy przez reakcje 16,65 g aldehydu /?-chlorocynamylidenowego z 10,4 g (0,1 mola) kwasu malonowego w 10 ml lodowatego kwasu octowego sposobem opisanym w syntezie fi 1 (ii), otrzymujac 7,5 g zadanego produktu o temperaturze topnie- 55 nia 158 — 160°C z rozkladem.Synteza B 5. (i) Wytworzono aldehyd 4-nitro- ^-chloro- cynamonowy modyfikaqe sposobu opisanego w syntezie B 4 (i), otrzymujac zadany produkt, który rekrystalizowano z etanolu, temperatura topnienia 72 — 74°C. 60 (ii) Wytworzono kwas 4-nitro- y-chloro-cynamylideno- malonowy przez reakcje 80 g (0,39 mola) aldehydu 4-nitro- /^chlorocynamoiowego z 41' g (0,4 mola) kwasu malono¬ wego w 50 ml lodowatego kwasu octowego w 100 °C w ciagu 6 godzin. Ochlodzony roztwór wlano do 10% wodnego 65 roztworu NaOH (300 ml), ekstrahowano eterem i wodna103 094 7 warstwe zakwaszono 30 % kwasem solnym (300 ml) otrzymujac zadany produkt o temperaturze topnienia 173 — 175 °C.Synteza Cl — Wytworzono kwas cynamylideno-ct-cyja- nooctowy przez reakcje 252 ml (2,0 mola) aldehydu cyna¬ monowego ze 170 g (2,0 mola) kwasu cyjanooctowego, wysuszonego azeotropowo w 50 ml lodowatego kwasu octowego 100°C o w ciagu 2 godzin. Nastepnie dodawano 130 ml toluenu i usunieto wode azeotropowa destylacja w ciagu 5 godzin. Toluen oddestylowano, mieszanine ochlodzono i zebrano krystaliczny produkt, który przemyto zimnym lodowatym kwasem octowym, a nastepnie goraca woda, otrzymujac 235 g zadanego produktu o temperaturze topnienia 210 — 212°C.Synteza C 2 — Wytworzono kwas 4-chloro-a-fenylo- cynamonowy przez reakcje 4-chlorobenzaldehydu (35 g, 0,25 mola) z 37,4 g (0,275 mola) kwasu fenylooctowego w 20 ml lodowatego kwasu octowego w 100 °C w ciagu fr godzin. Po ochlodzeniu produkt zebrano, przemyto i wysuszono, otrzymujac 31,0 g zadanego produktu o tempe¬ raturze topnienia 204 — 206 °C.Synteza C 3 — Wytworzono kwas 4-metylo- a-fenoksy- cynamonowy przez reakcje 120 g (1 mola) 4-metylobenzal- dehydu ze 167 g (1,1 mola) kwasu fenoksyoctowego w mie¬ szaninie 250 ml (2,5 mola) bezwodnika octowego i 101 ml (1 mol) trójetyloaminy, w 140°C w ciagu 5 godzin. Ochlo¬ dzony ciemnoczerwony roztwór wlano do 5 litrów mieszani¬ ny 1 objetosci stezonego kwasu solnego i 4 objetosci wody, po czym oddzielono powstaly olej, przemyto woda i 20% (wagowo/objetosc) roztworem kwasnego siarczynu potasu (1 1), otrzymujac surowy produkt,Trtóry zebrano, przemyto i przekrystalizowano z wodnego etanolu, otrzymujac 22 g zadanego produktu o temperaturze topnienia 188 — 190°C.Synteza C 4 — Wytworzono kwas 4-azydo- a-cyjano- cynamonowy sposobem opisanym w przykladzie 3 brytyj¬ skiego opisu patentowego nr 1 377 747, temperatura top¬ nienia 160—161 °C z rozkladem.Synteza C 5 — Wytworzono kwasny maleinian etylo- cynamylidenu przez reakcje aldehydu cynamonowego (31,6 ml, 0,2633 mola) z 35,7 g (0,26 mola) malenianu potasowo-etylowego w 5,5 ml lodowatego kwasu octowego w 100 °C w ciagu 6 godzin. Po ochlodzeniu zebrano produkt, przemyto mala iloscia zimnego kwasu octowego, rozpusz¬ czono w wodzie, ekstrahowano eterem, po czym wodna warstwe zakwaszono rozciencionym kwasem solnym, otrzymujac 25,3 g zadanego produktu.Synteza C 6 — Wytworzono kwas p- (2-furylo)-akrylowy sposobem opisanym w Organie Syntheses, Collective Vol, III stx. 425, 1955; temperatura topnienia 140 — 141 °C.Synteza C 7 — Wytworzono kwas a-cyjano- /?-metylo- cynamylidenooctowy przez reakcje 49 g (0,33 mola) benzy- lidenoacetonu z 38 g (0,33 mola) cyjanooctanu etylu, sto¬ sujac jako katalizator mieszanine 5 g octanu amonu i 15 g kwasu octowego w 250 ml benzenu. Mieszanine reakcyjna ogrzewano pod chlodnica zwrotna, a wytworzona wode usuwano azeotropowa destylacja w ciagu 5 godzin. Ochlo¬ dzony roztwór przemyto woda, wysuszono nad siarczanem magnezu, a rozpuszczalnik odparowano, otrzymujac zólta krystaliczna mase. Dodano roztwór 7,0 g wodorotlenku potasu w 350 ml metanolu i mieszanine ogrzewano pod chlodnica zwrotna w ciagu 6 godzin, chlodzono, wlano do 400 ml 30% kwasu solnego, osad zebrano i rekrystalizo- wano z wodnego etanolu, otrzymujac 12,34 g zadanego produktu o temperaturze topnienia 116 — 118°C. 8 Przyklad I. (i) Wytwarzanie swiatloczulej rozpusz¬ czalnej w alkaliach zywicy. g (0,032 mola) polimeru otrzymanego w syntezie A 1 rozpuszczono w 100 ml butanonu-2, dodano 9,17 g (0,042^ mola) kwasu cynamylidenomalonowego (synteza B 2) i 0,4 g chlorku benzylotrójetyloamoniowego. Mieszanine; ogrzewano w 80 °C w ciagu 5 godzin, po czym ochlodzona i wytracono w wodzie (2 1). Otrzymany blado—zólty swiatloczuly polimer odsaczono i wysuszono w 40 °C na powietrzu, otrzymujac 10,4 g. Równowaznik kwasowy wynosil 492. (ii) Wytwarzanie plyty drukarskiej. 2 g swiatloczulego polimeru rozpuszczonego w 100 ml butanonu-2 nalozono, za pomoca poziomego urzadzenia wirujacego na plyte z uziarnionego i anodyzowanego alu¬ minium i wysuszono przez ogrzewanie w 80 °C w ciagu 2 minut. Otrzymana plyte swiatloczula naswietlano pulsu¬ jaca lampa ksenonowa o mocy 4000 watt, przez negatyw, w ciagu 2 minut, a nastepnie zanurzono plyte w 5,7 % wodnym roztworze metakrzemianu sodu. Otrzymano^plyte drukarska, z której mozna byla sporzadzac wiele dobrych kopii.Przykladu, (i) Wytwarzanie swiatloczulej, rozpusz¬ czalnej w alkaliach zywicy. g (0,032 mola) polimeru otrzymanego w syntezie A X rozpuszczono w 100 ml butanonu-2 i traktowano 10,78 g (0,41 mola) kwasu 3-nitrocynamylidenomalonowego (syn¬ teza BI) oraz 0,4 g chlorku benzylotrójetyloamoniowego; mieszanine ogrzewano w 80 °C w ciagu 4 godzin. Dodana ,47 g (0,128 mola) kwasu cynamylideno- a-cyjanoocto- wego (synteza C 1) i 0,4 g chlorku benzylotrójamoniowego i ogrzewano przez dalsze 2 godziny. Ochlodzona mieszanine reakcyjna rozcienczono równa objetoscia butanonu-2, odsaczono i przesacze wlewano do 111,1,1-trójchloroetanu, po czym polimer oddzielano w postaci flokulujacego zóltego osadu na filtrze, odsysano do suchosci i rozpuszczano ponownie w acetonie (100 ml). Roztwór wlano do miesza¬ niny 2 1 wody i 150 ml stezonego kwasu solnego, wytracona, zywice zebrano, przemyto i wysuszono, otrzymujac 9,63 g zadanego produktu, o X max 317 nm i równowazniku kwa¬ sowym 446.3. (ii) Wytwarzanie plyty drukarskiej. 3 g wyzej opisanej zywicy swiatloczulej i 0,3 g nadchloranu 2,6-dwuanizylo-4-fenylotiapiryliowego rozpuszczono w 100 ml butanonu-2, odsaczono i nalozono za pomoca poziomego urzadzenia wirujacego na powierzchnie plyty z elektrouziar- nionego i anodyzowanego aluminium, uzyskujac powloke o ciezarze 1 g/m2. Po wysuszeniu w 80 °C w ciagu 2 minut, otrzymana plyte swiatloczula naswietlano w ciagu 40 sek w ramie drukarskiej ociekowej, poprzez negatyw, za pomoca pulsujacej lampy ksenonowej o mocy 4000 watt z odleglosci 0,65 m. Naswietlona plyte wywolywano przez zanurzenie w 5,7 % wodnym roztworze metakrzemianu sodu, plukano woda i nakladano tlusta farbe.Przyklad III. (i) Wytwarzanie swiatloczulej, rozpusz¬ czalnej w alkaliach zywicy.Stosujac sposób z przykladu II (i) poddawano reakcji 5 g (0,032 mola) polimetakrylanu 2,3-epoksypropyIu (synteza 60 A 1) z 8,9 g (0,041 mola) kwasu cynamylidenomalonowego (synteza B 2) w ciagu 2 godzin, a nastepnie z 16,5 g (0,064 mola) kwasu 4-chloro- a-fenylocynamonowego (synteza C 2) w ciagu dalszych 4 godzin, otrzymujac 10,5 g zadanego produktu o X max 319 nm i równowazniku kwasowym 65 490,4.103 094 . (ii) Wytwarzanie plyty drukarskiej (a). 3 g powyzszej swiatloczulej zywicy i 0,3 g 1,2-benzan- trachinonu rozpuszczonej w 100 ml butanonu-2 przesaczono i nalozono za pomoca poziomego urzadzenia wirujacego na powierzchnie plyty z elektrouziarnionego i anodyzowanego aluminium, otrzymujac powloke o ciezarze 1 g/m2. Po wy¬ suszeniu, otrzymana plyte swiatloczula naswietlano w ciagu 40 sek. przez klin stopniowy Stouffera i wywolywano spo¬ sobem z przykladu II (ii). Otrzymano plyte drukarska z szescioma stopniami z klina stopniowego, calkowicie utwardzona i z nalozona farba. (ii) Wytwarzanie plyty drukarskiej (b).Przyklad III (ii) powtórzono, z ta róznica, ze dodano krystaliczny barwnik fioletowy (0,06 g) do roztworu powle¬ kajacego. Obecnosc barwnika w naswietlonej powloce swiatloczulej ulatwiala usuwanie nieutwardzonych, roz¬ puszczalnych w alkaliach obszarach i otrzymywano wyrazne ostre obrazy, których kontrast wzrastal w miare postepu wywolywania.Przyklad IV. (i) Wytwarzanie* swiatloczulej, roz¬ puszczalnej w alkaliach zywicy. Stosujac sposób z przykladu II (i),5 g (0,032 mola) polimetakrylanu 2,3-epoksypropylu (synteza Al) poddawano reakcji z 10,78 g (0,41 mola) kwasu 2-nitrocynamylidenomalonowego (synteza B 3) w ciagu 2 godzin, a nastepnie z 16,25 g (0,064 mola) kwasu 4-metylo- a-fenoksycynamonowego (synteza C 3) w ciagu dalszych 4 godzin, otrzymujac 8 g zadanego produktu, o max 330 nm, oraz o równowazniku kwasowym 485,2 i zawierajacego 2,9% N. (ii) Wytwarzanie plyty drukarskiej. 3 g powyzszej zywicy swiatloczulej i 0,3 g eozyny rozpusz¬ czono w 100 ml butanolu-2, przesaczono i nalozono na plyte z elektrouziarnionego i anodyzowanego aluminium, otrzymujac plyte swiatloczula, która naswietlano w ciagu 2 minut i obrabiano jak w przykladzie II (ii). Otrzymano plyte drukarska o wysokiej jakosci.PrzykladV. (i) Wytwarzanie swiatloczulej, roz¬ puszczalnej w alkaliach zywicy. Stosujac sposób z przykladu II, 5 g (0,032 mola) polimetakrylanu 2,3-epoksypropylu (synteza Al) poddawano reakcji z 10,35 g (0,041 mola) kwasu y-chlorocynamylidenomalonowego (synteza B 4) w ciagu 3 godzin, a nastepnie z 17,55 g (0,082 mola) kwasu 4-azydo-a-cyjanocynamonowego (synteza C 4) w ciagu dalszych 3 godzin, otrzymujac 8,4 g zadanej zywicy\ mie¬ szanego estru, o k max 327 nm, równowazniku kwasowym 558, 5 i zawierajacej 1,95% N. (ii) Otrzymywanie plyty drukarskiej. 3 g powyzszej swiatloczulej zywicy i 0,03 g enzyny roz¬ puszczono w 100 ml butanolu-2 i nalozono na plyte z elektro¬ uziarnionego aluminium, otrzymujac plyte swiatloczula, która naswietlano 2 minuty i obrabiano jak w przykladzie II \n).Otrzymano plyte drukarska o wysokiej jakosci.-Przyklad VI. (i) Wytwarzanie swiatloczulej, roz¬ puszczalnej w alkaliach zywicy. Stosujac sposób z przykladu II (i)j 5 g 0,032 mola polimetakrylanu 2,3-epoksypropylu (synteza A 1) poddano reakcji z 12,2 g (0,041 mola) kwasu 4-nitro - y-chlorocynamylidenomalonowego (synteza B 5) w ciagu 5 godzin a nastepnie z kwasnym malonianu etylo- cynamylidenu (synteza C 5) (9,68 g) 0,39 mola w ciagu dalszej godziny, otrzymujac 10,025 g zadanej zywicy z mie¬ szanego estru o k max 317 nm i równowazniku kwasowym 493,4 i zawierajacej 2,0% N. (ii) Wytwarzanie plyty drukarskiej. 3 g powyzszej zywicy swiatloczulej i 0,3 g eozyny rozpusz¬ czono w 100 ml butanonu-2, przesaczono i nalozono nk plyte z elektrouziarnionego i anodyzowanego aluminium, wytwarzajac swiatloczula plyte, która naswietlano i obra- biano zgodnie ze sposobem opisanym w przykladzie II (ii).Otrzymano plyte drukarska o wysokiej jakosci.Przyklad VII. (i) Wytwarzanie swiatloczulej, roz¬ puszczalnej w alkaliach zywicy.Stosujac sposób z przykladu II (i), 5 g (0,032 mola) polimetakrylanu 2,3-epoksypropylu (synteza A-l) poddano . reakcji z 8,94 g (0,041 mola) kwasu cynamylidenomalono- wego (synteza B 2) w ciagu 2 godzin i nastepnie z 9,16 g (0,126 mola) kwasu akrylowego w ciagu dalszych 4 godzin, otrzymujac 12,15 g zadanej zywicy z mieszanego estru o równowazniku kwasowym 501,0. (ii) Wytwarzanie plyty drukarskiej. 3 g powyzszej swiatloczulej zywicy i 3 g eozyny rozpusz¬ czono w 100 ml butanonu-2 i przesaczony roztwór nalozono na plyte z elektrouziarnionego i anodyzowanego aluminium.Otrzymana plyte swiatloczula naswietlano 1 minute i obra¬ biano jak w przykladzie II (ii), otrzymujac plyte drukarska o wysokiej jakosci.Przyklad VIII. (i) Wytwarzanie swiatloczulej, roz- puszczalnej w alkaliach zywicy.Stosujac sposób z przykladu II (i), 5 g (0,029 mola epoksydu)kopolimeru metakrylanu 2,3-epoksypropylu i sty¬ renu (synteza A 4) poddano reakcji z 8,28 g (0,038 mola) kwasu cynamylidenomalonowego (synteza B 2) w ciagu 2 godzin, a nastepnie z 17,4 g (0,176 mola) kwasu fi- (2-fury- lo)-akrylowego (synteza C 6) w ciagu dalszych 4 godzin, otrzymujac 10,t) g zadanej zywicy z mieszanego estru ó równowazniku kwasowym 469,8. (ii) Wytwarzanie plyty drukarskiej. 3 g powyzszej swiatloczulej zywicy i 0,3 g eozyny rozpusz¬ czono w 100 ml butanonu-2. Roztwór przesaczono inalozono za pomoca urzadzenia wirujacego na plyte z elektrouziarnio¬ nego i anodyzowanego aluminium, otrzymujac swiatloczula plyte, która naswietlano 1 min. i obrabiano jak w przykladzie 40 2 (ii), otrzymujac plyte drukarska wysokiej jakosci.Przyklad IX. (i) Wytwarzanie swiatloczulej, roz¬ puszczalnej w alkaliach zywicy.Stosujac sposób z przykladu 2 (i), 5 g (10,034 mola epoksydu) kopolimeru akrylanu 2,3-epoksypropylu i akry- 45 lonitrylu (synteza A 5) poddano reakcji z 8,28 g (0,038 mola) kwasu cynamylidenomalonowego (synteza B 2) w ciagu 4 godzin, a nastepnie z 16,19 g (0,076 mola) kwasu . a-cyjano- /?-metylocynamylidenooctowego (synteza C 7) w ciagu dalszych 2 godzin, otrzymujacf9,8 g zadanej zywicy 50 z mieszanego estru o k max 321 nm i równowazniku kwaso- / wym 531,1. (ii) Wytwarzanie plyty drukarskiej. 3 g powyzszej swiatloczulej zywicy i 0,3 g 1,2-benzo- antrachinonu rozpuszczono w 100 ml butanonu-2. Roztwór 55 odsaczono i nalozono za pomoca urzadzenia wirujacego na plyte z elektrouziarnionego i anodyzowanego aluminium i wysuszono otrzymujac plyte swiatloczula, która naswietlano jak opisano w przykladzie 2 (ii). Naswietlana plyte pocieto na 3 równe czesci. 1 czesc traktowano 5,7 % roztworem 60 wodnym metakrzemianu sodu, splukano i nasmarowano farba, 1 czesc potraktowano 2,5 % wodnym roztworem wodorotlenku sodu, plukano i smarowano farba, 1 czesc traktowano 0,033 molowym roztworem fosforanu trójsodo- wego, plukano i smarowano farba. Wszystkie trzy mialy 65 podobna zdolnosc drukarska.103 094 11 P r z y k l a d X. (i) Wytwarzanie swiatloczulej, roz¬ puszczalnej w alkaliach zywicy. g (0,028 mola) kopolimeru polimetakrylanu 2,3-epo- ksypropylu i metakrylanu dodecylu (synteza A 3) pod¬ dawano reakqi z 13,74 g (0,063 mola) kwasu cynamylideno¬ malonowego'' (synteza B 2) w ciagu 6 godzin w 80°C przy uzyciu 0,125 ml trójetyloaminy jako katalizatora estryfikaqi.Zywice horaoeatrowaizolowano sposobem opisanym w przy¬ kladzie I (i) otrzymujac 8,8 g produktu o równowazniku kwasowym 461,6 (ii). (ii) Wytwarzanie plyty drukarskiej. 3 g powyzszej zywicy swiatloczulej i 0,3 g nozyny roz¬ puszczono w 100 ml butanonu-2. Roztwór odsaczono ina- lozoiuTna plyte elektrouziatiuonego i anodyzowanego alu¬ minium otrzymujac plyte swiatloczula, która naswietlano w ciagu 1 minuty i wywolywano 5,7 % urodnym roztworem metakrzemianu sodu oraz plukano woda. Otrzymano hydrofóbdwy, przyjmujacy farbe obszar Obrazu, dzieki wprowadzeniu merów metakrylanu dodecylu do lancucha wyjsciowego polimeru. Plyta drukarska ma znakomita charakterystyke drukarska.Przyklad XI. (i) Wytwarzanie swiatloczulej, roz¬ puszczalnej w alkaliach zywicy.Stosujac sposób z przykladu II (i), 5 g (0,032 mola) poli¬ metakrylanu 2,3-epoksypropylu (synteza Al) poddano reakcji z 8,94 g (0,041 mola) kwasu cynamylidenomalono- wego (synteza B 2) w ciagu 2 godzin, a nastepnie z 18,14 g (0,126 mol) kwasu oktandwego w ciagu 4 godzin, otrzy¬ mujac 10,8 g zadanej zywicy z mieszanego estru o równo¬ wazniku kwasowym - 613,6. (ii) Wytwarzanie plyty drukarskiej.Plyte drukarska wytworzono wedlug sposgbu z przykladu I (ii); miala ona podobna charakterystyke dzieki wprowa¬ dzeniu grup estru kwasu oktanowego do zywicy swiatlo¬ czulej.Przyklad XII. (i) Wytwarzanie swiatloczulej, roz¬ puszczalnej w alkaliach sywicy. ,g (0,032 mola) polimetakrylanu 2,3-epoksypropylu (synteza A 1) i 0,2 g bromku benzylotrójetyloamoniowego rozpuszczono w 100 ml butanonu-2, potraktowano 0,29 g (0,0032 mola) chlorku propionylu i ogrzewano w 80°C w ciagu 1 godziny. Dodano 13,74 g (0,063 mola) kwasu cynamylidenomalonowego i 0,4 g bromku benzylotrójetylo¬ amoniowego i kontynuowano ogrzewanie w ciagu dalszych godzin, po czym produkt wyodrebniano sposobem z przy¬ kladu IL (Oj otrzymujac 9,1 g zadanej zywicy z mieszanego estru o równowazniku kwasowym 422,9 oraz zawartosci Cl 1,97 (% wagowy). (ii) Wytwarzanie plyty drukarskiej.Plyte drukarska sporzadzono wedlug sposobu z przykladu X (ii). Otrzymano wiele dobrych kopii bez sladów zuzycia.Przyklad XIII. (i) Wytwarzanie swiatloczulej, roz¬ puszczalnej w alkaliach zywicy.Stosujac sposób z przykladu II (i). g (0,038 mola epoksydu) poliakrylanu 2,3-epoksy¬ propylu (synteza A 2) poddano reakcji z 17,0 g (0,075 mola) kwasu cynamylidenomalonowego (synteza B 2) w ciagu 2x/4 godziny, a nastepnie z kwasem octowym (8,9 cm3), 9,388 g, (0,156 mola) w ciagu dalszych 3V2 godzin, otrzy¬ mujac 10,5 g zadanej zywicy z mieszanego estru o równo¬ wazniku kwasowym 443,1. (ii) Wytwarzanie plyty drukarskiej (a).Plyte drukarska sporzadzono sposobem z przykladu IV (ii). Mozna bylo otrzymywac wiele druków o wysokiej jakosci bez sladów zuzycia obrazu. 12 (ii) Wytwarzanie plyty drukarskie} (b).Czesc plyty swiatloczulej sporzadzonej jak wyzej naswie¬ tlono 15 minut wolframowatorówka o mocy 259 wat z ódle- * glosci 0,5 m, po czym wywolywano i smarowano farba jak w przykladzie II (ii); otrzymujac wysokiej jakosci plyte drukarska V (i). Wytwarzanie plyty drukarskiej (o).Dalsza czesc plyty swiatloczulej, sporzadzonej jak wyzej, naswietlano laserem opartym na jonach argonu, dajacym' promieniowanie ultrafioletowe, przy czym naswietlanie bylo rzedu 50 milidzuli/cm2. Otrzymano plyte drukarska wysokiejjakosci. ^ Przyklad XIV. (i) Wytwarzanie swiatloczulej, roz¬ puszczalnej w alkaliach zywicy. stosujac sposób z przykladu II (i), 15 g (0,096 mola) polimetakrylanu 2,3-epoksypropylu (synteza Al) poddano reakqi z 26,8 g (0,123 mola) kwasu cynamylidenomalono¬ wego (synteza B 2) w ciagu 4 godzin, a nastepnie z 30 g (0,18 mola) kwasu trójchlorooctowego w ciagu dalszych 2 godzin, otrzymujac 31 g zadanego mieszanego estnl o równowazniku kwasowym 544,1. (ii) Wytwarzanie plyty drukarskiej.Sporzadzono plyte wedlug przykladu IV (ii). Dawala ona kopie o wysokiej jakosci.Przyklad XV. (i) Wytwarzanie swiatloczulej, roz¬ puszczalna w alkaliach zywicy. g produktu z przykladu XIV rozpuszczono w 100 ml butanonu-2 itraktowano 0,23 g (0,00 225 mola) bezwodnika octowego w ciagu 4 godzin, otrzymujac 9,8 g acetylowanego produktu. (ii) Wytwarzanie plyty drukarskiej.Sporzadzono plyte drukarska sposobem z przykladu IV (ii). Obszary obrazu byly niezwykle hydrofobowej da¬ waly wiele kopii bez sladów zuzycia. PL PL

Claims (9)

1. Zastrzezenia paten to we 1. Srodek zdolny do fotopolimeryzaqi, znamienny tym, ze oprócz znanych skladników zawiera polimer, zawierajacy wieksza ilosc merów o wzorze 1, w którym R1 oznacza atom 40 wodoru lub grupe metylowa, R2 oznacza atom wodoru, grupe alkilowa, ewentualnie podstawiona, grupe arylowa, ewentualnie podstawiona lub grupe heterocykliczna, ewen¬ tualnie podstawiona, R3, R4 i R5 które moga byc takie same lub rózne, oznaczaja atom wodoru, chlorowca, grupe cyja- 45 nowa, alkilowa, arylowa, alkoksylowa, aryloksylowa, arylo- alkilowa, aryloalkoksylowa lub alkoksykarbonylowa, Z ozna¬ cza grupe hydroksylowa lub estrowa, zas a oznacza liczbe calkowita wieksza lub równa jednosci.
2. Srodek wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze zawiera 50 polimer o wzorze 1, w którym R2 oznacza grupe fenyIowa, a R3, R4 i R5 oznaczaja atomy wodoru, albo w którym R2 oznacza grupe 2 — nitrofenylowa, a R3, R4 i R5 oznaczaja atomy wodoru albo w którym R2 oznacza grupe 3-nitro- fenylowa, a R3, R4 i Rs oznaczaja atomy wodoru, albo 55 w którym R2 oznacza grupe fenylowa, R3 oznacza atom chloru, a R4 i R5 oznaczaja atomy wodoru, albo w którym R2 oznacza grupe 4-nitrofenylowa, R3 oznacza atom chloru, a R4 i R5 oznaczaja atomy wodoru.
3. Srodek wedlug zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, ze 60 zawiera polimer zawierajacy dodatkowo wieksza ilosc merów o wzorze 2, w którym Z' oznacza grupe hydroksy¬ lowa, estrowa, lub atom chlorowca, R1 — R5 maja znaczenie takie jak we wzorze 1, R6 ma znaczenie takie jak R3 — R5 we wzorze 1, a b oznacza 0 lub liczbe calkowita wieksza 65 lub równa jednosci.103 094 13 14
4. Srodek wedlug zastrz. 3, znamienny tym, ze zawiera polimer o wzorze 2, w którym b oznacza 0, a R2, R5 i R6 wszystkie oznaczaja atomy wodoru albo w którym b ozna¬ cza 0,aR2i R5 oznaczaja atomy wodoru, a R6 oznacza grupe metylowa, albo w którym b oznacza 0,R2 oznacza grupe feny- lowa, a Rs i R6 oznaczaja atomy wodoru albo w którym b oznacza 0, R2 oznacza grupe 4-metoksyfenylowa, R5 ozna¬ cza atom wodoru, a R6 oznacza grupe cyjanowa albo w któ¬ rym b oznacza 0, R2 oznacza grupe 4-chlorofenylowa, R5 oznacza atom wodoru, a R6 oznacza grupe fenylowa albo w którym b oznacza 0, R2 oznacza grupe 4-metylofenylowa, R5 oznacza atom wodoru, a R6 oznacza grupe fenoksylowa, albo w którym b oznacza 0, R2 oznacza grupe 4-azydo- fenylowa, R5 oznacza atom wodoru, a R6 oznacza grupe cyjanowa, albo w którym b oznacza 0, R2 oznacza grupe 2-furylowa, a R5 i R6 oznaczaja atomy wodoru, albo w któ¬ rym b oznacza 1, R2 oznacza grupe fenylowa, R3, R4 i R5 oznaczaja atomy wodoru, a R6 oznacza grupe cyjanowa albo w którym b oznacza liczbe 1, R2 oznacza grupefenylowa, R3, R4 i R5 oznaczaja atomy wodoru, a R6 oznacza grupe etoksykarbonylowa albo w którym b oznacza liczbe 1, R2 oznacza grupe fenylowa, R3 i R4 oznaczaja atomy wo¬ doru, R5 oznacza grupe metylowa, a R6 oznacza grupe cyjanowa.
5. Srodek wedlug zastrz. 1 albo 2 albo 3 albo 4, znamien¬ ny tym, ze zawiera polimer zawierajacy dodatkowo wieksza ¦ 5 ilosc merów o wzorze 3, w którym R1 i Z1 maja znaczenie jak we wzorze 2, a R7 oznacza grupe alkilowa, ewentualnie podstawiona, grupe arylowa, ewentualnie podstawiona lub grupe heterocykliczna, ewentualnie podstawiona.
6. Srodek wedlug zastrz. 5, znamienny tym, ze zawiera 10 polimer o wzorze 3, w którym R7 oznacza grupe metylowa, a Z' oznacza grupe hydroksylowa albo R7 oznacza grupe heptylowa, a Z' oznacza grupe hydroksylowa albo R7 oznacza grupe etylowa, a Z' oznacza atom chloru albo R7 oznacza grupe trójchlorometyIowa, a Z' oznacza grupe 15 hydroksylowa.
7. Srodek wedlug któregokolwiek z zastrz. znamienny tym, ze zawiera polimer zawierajacy dodatkowo wieksza ilosc merów pochodnych nienasyconych addycyjnych monomerów zdolnych do polimeryzacji. 20
8. Srodek wedlug zastrz. 7, znamienny tym, ze zawiera jako monomery zdolne do polimeryzacji metakrylan do- decylu, styren lub akrylonitryl. R1 I —C—CH?— I 2 o i CH2 I CH-2 CH2-0-C-C = 4 II I 0 COOH R5 C— (CR^CRY-R2 Wzór 1 R1 I -C — I c= I o I CH2 CH2- 0 CH I CH2 -Z1 R5 I ¦°-C-C = C-(CR^CR3)b-R2 0 R6 Wzdr 2103 094 R1 I — C—CH2— I L -C=0 ! O I CH2 I . CH-Z1 i CH2-0 —C —R7 I! O Wzór 3 XOOH R2—(CR3=CR\—C = C ^5 ^COOH Wzór / R2— (CR3=CR4)K— C=C .R6 ^5 "COOH Wzór 5 LZG Z-d 3 sam. 666-7
9. Nakl. 85 + 20 egr. Cena 45 zl PL PL
PL1976194590A 1975-12-23 1976-12-21 Srodek zdolny do fotopolimeryzacji PL103094B1 (pl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB52522/75A GB1572441A (en) 1975-12-23 1975-12-23 Photopolymerisable polymers with free carboxyl groups and printing plates therefrom

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL103094B1 true PL103094B1 (pl) 1979-05-31

Family

ID=10464243

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1976194590A PL103094B1 (pl) 1975-12-23 1976-12-21 Srodek zdolny do fotopolimeryzacji

Country Status (27)

Country Link
US (1) US4263394A (pl)
JP (1) JPS5286488A (pl)
AT (1) AT348552B (pl)
AU (1) AU510145B2 (pl)
BE (1) BE849803A (pl)
BR (1) BR7608579A (pl)
CA (1) CA1107444A (pl)
CH (1) CH629314A5 (pl)
CS (1) CS212783B2 (pl)
DE (1) DE2658272A1 (pl)
DK (1) DK579976A (pl)
ES (1) ES454521A1 (pl)
FI (1) FI64863C (pl)
FR (1) FR2336707A1 (pl)
GB (1) GB1572441A (pl)
IE (1) IE44405B1 (pl)
IT (1) IT1065419B (pl)
KE (1) KE3336A (pl)
LU (1) LU76465A1 (pl)
MW (1) MW5276A1 (pl)
NL (1) NL7614259A (pl)
NO (1) NO764338L (pl)
NZ (1) NZ182955A (pl)
PL (1) PL103094B1 (pl)
SE (1) SE424642B (pl)
ZA (1) ZA767635B (pl)
ZM (1) ZM15276A1 (pl)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4343888A (en) 1980-05-01 1982-08-10 E. I. Du Pont De Nemours And Company Use of radiation crosslinkable polyesters and polyesterethers in printing plates
US4284710A (en) 1980-05-01 1981-08-18 E. I. Du Pont De Nemours And Company Radiation crosslinkable polyesters and polyesterethers
US4592816A (en) * 1984-09-26 1986-06-03 Rohm And Haas Company Electrophoretic deposition process
DE3528929A1 (de) * 1985-08-13 1987-02-26 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches gemisch, dieses enthaltendes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefbildern
WO1996034316A1 (en) * 1995-04-27 1996-10-31 Minnesota Mining And Manufacturing Company Negative-acting no-process printing plates
US5925497A (en) * 1995-04-27 1999-07-20 Minnesota Mining And Manufacturing Company Negative-acting no-process printing plates
US6159658A (en) * 1996-03-19 2000-12-12 Toray Industries, Inc. Photosensitive resin composition with polymer having an ionic group and having a polymerizable group in the side chain and printing plate materials
US6800659B2 (en) * 2000-04-13 2004-10-05 Hsc Research And Development Limited Partnership Compounds for modulating cell proliferation
CA2407755A1 (en) * 2002-10-11 2004-04-11 The Hospital For Sick Children Inhibition of vegf secretion
EP1654220A4 (en) * 2003-07-30 2006-10-25 Hospital For Sick Children COMPOUNDS FOR MODULATING CELL PROLIFERATION
WO2005092904A1 (en) * 2004-03-26 2005-10-06 Hsc Research And Development Limited Partnership Novel compounds for modulating cell proliferation
US8778568B2 (en) * 2010-12-14 2014-07-15 General Electric Company Optical data storage media and methods for using the same

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3799915A (en) * 1971-08-20 1974-03-26 Western Litho Plate & Supply Photopolymers
US3993684A (en) * 1971-08-20 1976-11-23 Western Litho Plate & Supply Co. Monomeric compounds
US4065430A (en) * 1973-02-13 1977-12-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Functional group containing polymer and method of preparing the same

Also Published As

Publication number Publication date
ATA964076A (de) 1978-07-15
NO764338L (pl) 1977-06-24
ES454521A1 (es) 1977-12-01
IE44405B1 (en) 1981-11-18
NZ182955A (en) 1979-04-26
KE3336A (en) 1983-11-04
LU76465A1 (pl) 1977-06-15
CA1107444A (en) 1981-08-18
BR7608579A (pt) 1977-12-27
IT1065419B (it) 1985-02-25
FI763683A (pl) 1977-06-24
DK579976A (da) 1977-06-24
FI64863C (fi) 1984-01-10
CH629314A5 (de) 1982-04-15
NL7614259A (nl) 1977-06-27
FI64863B (fi) 1983-09-30
FR2336707B1 (pl) 1983-04-29
DE2658272A1 (de) 1977-07-14
AT348552B (de) 1979-02-26
MW5276A1 (en) 1978-02-08
US4263394A (en) 1981-04-21
AU2081876A (en) 1978-06-29
SE7614315L (sv) 1977-06-24
IE44405L (en) 1977-06-23
BE849803A (fr) 1977-06-23
FR2336707A1 (fr) 1977-07-22
GB1572441A (en) 1980-07-30
SE424642B (sv) 1982-08-02
AU510145B2 (en) 1980-06-12
ZA767635B (en) 1977-11-30
CS212783B2 (en) 1982-03-26
JPS5286488A (en) 1977-07-18
ZM15276A1 (en) 1978-03-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW304235B (pl)
US5055579A (en) Heterocyclic compounds containing 4,6-bis-trichloromethyl-s-triazin-2-ly groups
PL103094B1 (pl) Srodek zdolny do fotopolimeryzacji
JP2818968B2 (ja) 新規窒素含有チタノセン、及びその使用方法
WO2012068879A1 (zh) 一种高感光度咔唑肟酯类光引发剂、其制备方法及应用
JPS6046701B2 (ja) 光感受性エレメント
JPH0251509A (ja) 不飽和β―ケト―エステルアセタール、その製造方法およびその用途
JPS5843951A (ja) イミジル化合物
US3073699A (en) Addition polymerizable dye-forming compositions, elements, and processes
WO2014094658A1 (zh) 烷基苯基衍生物和其作为光引发剂的应用
JPH07179522A (ja) 酸触媒によって架橋可能なコポリマー
EP0118766B1 (en) Light-sensitive composition
US2824084A (en) Light-sensitive, unsaturated polymeric maleic and acrylic derivatives
JPH0354961B2 (pl)
JPH0118897B2 (pl)
US3881935A (en) Photosensitive polymer composition
US3696072A (en) Light-sensitive polymers
JPH024782A (ja) 芳香族化合物、その製法および該化合物からなる感光性混合物中の光開始剤
US3748131A (en) Photosensitive composition and element comprising light sensitive polymers
FI57183C (fi) Ljuskaenslig polymer laemplig att anvaendas foer framstaellning av tryckplattor
US5216158A (en) Oxadiazole compounds containing 4,6-bis-trichloromethyl-S-triazin-2-yl groups, process for their preparation
CA2014487A1 (en) Light-sensitive bis-trichloromethyl-s-triazines, process for their preparation and light-sensitive composition containing said compounds
US4569901A (en) Poly(N-benzyl acrylamide) polymer containing negative photoresist compositions
US4117039A (en) Light sensitive materials
JPH04316540A (ja) オレフィン性不飽和を含む置換基をもつベンゾエート