NO136167B - Anordning for fremstilling av masker for mikrokretser. - Google Patents

Anordning for fremstilling av masker for mikrokretser. Download PDF

Info

Publication number
NO136167B
NO136167B NO740827A NO740827A NO136167B NO 136167 B NO136167 B NO 136167B NO 740827 A NO740827 A NO 740827A NO 740827 A NO740827 A NO 740827A NO 136167 B NO136167 B NO 136167B
Authority
NO
Norway
Prior art keywords
radiation
slide
beams
side surfaces
medium
Prior art date
Application number
NO740827A
Other languages
English (en)
Other versions
NO136167C (no
NO740827L (no
Inventor
Gerhard Westerberg
Original Assignee
Gerhard Westerberg
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Gerhard Westerberg filed Critical Gerhard Westerberg
Publication of NO740827L publication Critical patent/NO740827L/no
Publication of NO136167B publication Critical patent/NO136167B/no
Publication of NO136167C publication Critical patent/NO136167C/no

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70383Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
    • G03F7/704Scanned exposure beam, e.g. raster-, rotary- and vector scanning

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Amplifiers (AREA)

Description

Oppfinnelsen angår en anordning for fremstilling av
masker for mikrokretser, omfattende en strålingskilde, et strå-lingsfølsomt medium og hjelpemidler for å tilveiebringe en innbyrdes bevegelse mellom strålingskilden og mediet.
For å fremstille fotomasker i målestokk 1:1 for kontakt-trykning av mønster.e for mikrokretser kreves det idag kompliserte og tidkrevende prosesser som innebærer et antall mellomliggende
trinn fra det originale bilde til det endelige produkt. Dette
gjelder også ved anvendelse av regnemaskinstyrt maskesammen-setningskamera, fordi den enedelige maske ikke oppnås direkte med først etter eduksjon og gjentatt eksponering for å dekke det ønskede området. Den nødvendige tid for slik prosess er fra 3
til l6 timer avhengig av mønsterets kompliserthet. '
Utvikling av laserteknologi har åpnet nye muligheter for hurtig eksponering av masker for mikrokretser. Ved å anvende denne teknologi, er det hittil blitt mulig å fremstille masker i målestokk 10:1 ved hjelp av roterende speilavsøkning og en regnemaskinstyrt lysstråle. I disse tilfeller hvor en oppløsning på 5 til 10 u er godtatt som tilfredsstillende og fleksibel film er godtagbar, kan masker f.eks. for trykte kretser fremstilles på forholdsvis enkel måte ved å anbringe fimen på en roterende trommel som avsøkes av en lysstråle som beveger seg langs generatrisen. Denne frem-gangsmåte er imidlertid ikke anvendbar ved fremstilling av mikro-masker i målestokk 1:1 hvor en linjebredde på 1 til 2 y og god formstabilitet er nødvendig. Hensikten med oppfinnelsen er derfor å tilveiebringe en anordning ved hjelp av hvilken disse ønskemål kan oppnås.
Det har vist seg at en lineær avsøkning med et mikroskop-objéktiv som beveges med en takt på 25 Hz eller 50 avsøkninger pr. sekund, i x-retningen i et konstant nivå over en fotografisk plate, og samtidig kan forskyves i y~retningen med lavere hastighet, kan gi et-- f jernsynsraster med en linjeavstand på ly i et areal på 7 x 7 cm i løpet av ca. 25 minutter. En slik direkte fremstilling av en mikrokretsmaske uten noen mellomliggende reduksjon og gjentatt eksponering er naturligvis meget ønskelig særlig fordi den kan utføres med rimelige omkostninger.
Dette oppnås ifølge oppfinnelsen ved at hjelpemidlene omfatter en første slede for hurtig frem- og tilbakegående bevegelse
i en første retning og som bærer strålingskilden eller mediet, og en andre slede for-langsom bevegelse i en andre retning som er vinkelrett på den første retning, samtidig med den første sledes frem- og tilbakegående bevegelse og som bærer mediet eller strålingskilden.
Ytterligere trekk ved oppfinnelsen vil fremgå av kravene 2-10.
Oppfinnelsen skal nedenfor forklares nærmere under henvisning til tegningene.
Pig. 1 viser et vertikalt snitt gjennom en anordning
ifølge oppfinnelsen.
Pig. 2 viser et grunnriss av anordningen på fig. 1.
Pig. 3 viser et blokkskjema for utstyr til drift av anordningen på fig. 1 og 2.
Pig. 4 viser et vertikalsnitt gjennom en andre utførelses-form av en anordning ifølge oppfinnelsen.
Fig. 5 viser et grunnriss av anordningen på fig. 4.
Fig. 6 viser et snitt langs linjen VI-VI på fig. 5.
*F'ig. 7 viser et sideriss av en tredje utførelsesform av ;. en anordning ifølge oppfinnelsen. ;Fig. 8 viser skjematisk strålegangen i en anordning ifølge oppfinnelsen. Fig..9 viser skjematisk anvendelsen av laser interferometer for å bestemme nøyaktig posisjonen av masken som skal fremstilles. Anordningen på fig. 1 og 2 omfatter en slede 11 som er innrettet for forholdsvis hurtig bevegelse i x-retningen, en ^slede 12 som er innrettet for forholdsvis langsom bevegelse i y-retningeh, en linseholder 13 som er anordnet på den første slede 11 og som bærer et objektiv for fokusering av en laserstråle., en glassplate. 14 som er belagt med et fotofølsomt sjikt l4l og anbragt i en åpning i sleden 12, en veivarm 15 som drives av en ikke vist motor og som beveger sleden 11 i x-retningen, en drivskrue 22 som roteres av en trinnmotor 23 og beveger sleden 12 i y-retningen, og et speil 16 (prisme) som er festet på sleden 11 og danner en del av et laser-interferomater for å bestemme posisjonen av sleden 11 i x-retningen. ;For å styre sledene 11 og 12 mekanisk anvendes en enhet bestående av fire bjelker av hvilke to 17 og 18 er innbyrdes parallelle med planslipte sideflater for styring av sleden 11, mens de to andre bjelker 19 og 20 er innbyrdes parallelle og har planslipte sideflater for styring av sleden 12. ;Mellom sledene og bjelkenes sideflater er anordnet glide-legemer i form av kuler 121, 122, 111, 112, 113 og 114. Sleden ;11 ligger videre an med press via glideorganer 115» 116, 117, 118 ;og justeringsblokker 41,42,43 og 44 ^.,.1 mot undersiden av bjelkene 19 og 20 mens sleden 12 ligger an med press via glideorganer 123, 124, 125,126 og justeringsblokker 45,46,47j48 mot oversideruav : ;bjelkene 17 og 18. Justeringsblokkene 45 og 46 kan sløyfes. ;En laserstråle fra en laser 31 (se fig. 3) reflekteres av et speil 10 på et objektiv som fokuserer strålen i et punkt på det fotofølsomme belegg 141. Den fokuserte laserstråle frembringer et linjeraster på det fotofølsomme belegg når sleden 11 meddeles en frem- og tilbakegående bevegelse samtidig som sleden 12 beveges ett lite trinn. Sleden 12 kan f.eks. forflyttes l^um for hver gang sleden 11 har utført en fullstendig frem- og tilbakegående bevegelse. Fra en elektronisk styrekrets 32 blir det via en modulator 33 til-veiebragt modulerte signaler for eksponering av et ønsket mønster på ;platen 14. ;På denne måte tilveiebringes en .linjetetthet på f.eks. ;l^um. Modulatoren 33 kan være en akustisk-optisk modulator som vist på fig. 8. Modulatoren omfatter en glassblokk 403 mot hvilken ligger an ett eller flere piezo-élektriske krystaller 402. En høyfrekvent modulasjonsspenning på f.eks. 40 MHz påtrykkes krystal-lenes elektroder.fra en høyfrekvensgenerator 401 slik at ultralyd-bølger frembringes og forplantes gjennom glassblokken 403. Ultralyd-bølgene danner et bevegelig gittermønster i glassblokken bestående av deler med vekslende større og mindre tetthet. Laserstrålen 404 fra kilden 400 avbøyes av gitteret og avbøyninger er avhengig av ;ultralydfrekvensen. Hvor stor del av den passerende stråle som vil avbtfyes avhengig av amplituden av ultralydbølgene. ;Den avbøyde del av strålen passerer et optisk system omfattende f.eks. en åpning 405 og en linse 405a som tjener til stråle-begrensning og fokusering. Intensitetsmodulasjonen som er nødvendig for å tilveiebringe mønstere oppnås ved amplitudemodulasjon av høyfrekvenssignalet som påtrykkes det piezo-elektriske krystall eller krystaller. ;Også strålens posisjon kan varieres ved endring av signalets frekvens. På denne måte oppnås en avbøyning av strålen med meget stor nøyaktighet innenfor små vinkler. Ved mekanisk forskyvning av arbeidsstykket i retningen I og samtidig bevegelse i begge ret-ninger som antydet med pilen II, dannes et raster 405 med en linje-tetthét på ca. l^um. Ved videre å anvende avbøyning av strålen på beskrevet måte, kan linjer tegnes opp mellom linjene i rasteret og dermed oppnås et raster 406 med en linjetetthet på minst 0,25 ^um. Strålen kan også avbøyes til å svinge med en høy frekvens i retningen I slik at hver linje i rasteret 405 vil bli erstattet av en svakt siksak-formet linje. Selv om det med meget nøyaktig mekanisk konstruksjon er mulig å frembringe en ønsket linjetetthet, kan det være fordelaktig å anvende avbøyning av strålen ved endring av frekvensen. Dette gjør det mulig å tegne opp flere parallelle linjer samtidig, dvs. bare med én avsøkning, ved endring av frekvensen av høyfrekvenssignalet mellom bestemte verdier under opptegnings-avsøkningen. Variasjonene kan være trinnvise eller kontinuerlige idet det i sistnevnte tilfelle er nødvendig å blokkere signalet i intervaller mellom de frekvensverdier med hvilken opptegningen foretas. Det er også mulig å foreta stråleavsøkningen mellom to grense-verdier som representerer linjeavstanden. ;Ved avbøyning av strålen med ti strålediametere, hvilket er mulig, - kan på denne måte linjeavstanden økes tilganger med samme oppløsningsgrad. ;Den meget store fordel ved å erstatte modulatoren 33 med en akustisk-optisk modulator består i at den akustisk-optiske modulator arbeider uten treghet og uten slitasje av mekaniske deler. Dertil kommer at opptegningen kan skje hurtigere enn ved mekaniske hjelpemidler. ;En elektronstråle kan imidlertid anvendes istedetfor lys elier laserstråle som-beskrevet ovenfor. I dette tilfellet er det mulig å anvende kjente avbøyningsmetoder som f.eks. elektrostatisk avbøyning ved hjelp av avbøyningsplater eller elektromagnetisk ved hjelp av avb.øyningsspoler. I dette tilfellet kan den nødvendige modulasjon tilveiebringes ved avbøyning av strålen slik at den vil avbøyes utenfor en åpning eller det kan anvendes en særskilt modu-lasjonsinnretning som f.eks. en modulasjonselektrode i form av et styregitter. Nødvendigheten av å bestemme posisjonen av forskjellige deler av mønstere er meget stor, og posisjonsbestemmelser i y-retningen oppnås ved å telle styrepulser i styrekretsen 32 og disse pulser leveres ved 380 til trinnmotoren 23 for drift av skruen 22. I x-retningen er et spesielt målesystem nødvendig som følge av den hurtige bevegelse av sleden 11, og dette målesystem omfatter et laser-interferometer med en laserstrålekilde 34, et speil 16 som er festet påsleden 11 og en stasjonær optikk 35 i hvilken interferens-signalene mellom den direkte laserstråle 36 og reflektert laser- ;stråle fra speilet dannes og detekteres. ;Laser interferometeret av hvilket speilet 16 er en del ;er av kjent art og anvendes for å indikere i hvert øyeblikk den eksakte posisjon av glassplaten 11 i forhold til den eksponerende laserstråle. Laser interferometer av denne type kan også anvendes for å indikere posisjonen i y-retningen. ;På fig. 9 er vist et laeer interferometer. En helium-neon-laserkilde 300 emitterer stråler mot et dobbeltprisme 301 som tjjener som såkalt delespeil og som deler strålen i to stråler, en rettet på et fast speil 302 og den andre rettet mot speilet 16. Refleksjonene fra sp&lene 302 og 16 er rettet mot dobbeltprismet 301 og reflekteres til silisiumdioder 303 og 303a. De to stråler er faseforskjøvet 90° og inneholder således informasjon om posisjonen av speilet 16 i forhold til prismet 301. Silisiumdiodene leverer signaler til en reversibel teller 304 som inneholder de nødvendige logiske elementer, hvor strålene sammenlignes og som avgir et signal som inneholder informasjon om posisjonen av speilet 16 i forhold til prismet 301 til en regnemaskin 305. Regnemaskinen 305 styrer driften av modulatoren 33 i avhengighet av posisjonen. ;De ovenfor nevnte interferenssignaler tilføres en teller ;i styrekretsen 32 slik at meget nøyaktige verdier av posisjonen av sleden 11 i x-retningen oppnås. Ved det beskrevne styre- og målesystem er styrekretsen 32 ved hjelp av trinnmotoren som roterer mikrometerskruen i y-retningen og.laserinterferometeret i x-retningen istand til å utføre eksponeringsordre på nøyaktig riktig tidspunkt og posisjon. Løpende mønsterprogrammer leveres fra en regnemaskin 38 med løpende informasjon til styrekretsen 32 for eksponering innenfor hver enkelt linje i rasteret. Linjeinformasjon er lagret i et skyveregister i styrekretsen 32 og dette inneholder det samme antall bits som det er punkter langs en linje og avgis i trinn syn-kront med bevegelsen i x-retningen ved hjelp av skyvepulser som tilveiebringes av interferenssigaler. ;Ved det beskrevne system er det mulig å sikre en innbyrdes overensstemmelse mellom mønstere som fremstilles på forskjellige tidspunkter og å opprettholde fokusering på hele området slik at forskjellige detaljer reproduseres med samme skarphet. Som allerede nevnt oppnås' reproduksjonskapasiteten ved at sledene er styrt ved ;kuleføringer. Videre er bjelken 20 fjærforspent mot sleden 12 ;for å eliminere sideveis spillerom og bjelken 18 er fjærforspent mot sleden 11 av samme grunn. Bjelkene er nøyaktig planslipte på sideflatene som grenser til bjelkene og de er forbundet slik at de danner et kvadrat ved hjelp av skrueforbindelser ved hjeikenes ender. Denne bjelkekonstruksjon gjør det mulig å anvende en enkel metode for å oppnå konstant brennvidde mellom objektivet og det fotofølsommecbelegg over hele arealet. Uten denne metode ville det ha vært nødvendig med meget omhyggelig maskinering bl.a. forholds-regler for å definere de forskjellige nivåer av de to sleder. Kon-taktflatene i bjelkekonstruksjonen danner meget nøyaktig definerte plan med to referanseflater som vender nedover og to referanseflater som vender oppover. Som følge av at sleden 12 med presisjonskuler ruller på oversiden og sleden 11 ruller på undersiden, er den vertikale avstand mellom sledene og dermed opprettholdelse av skarpheten bestemt nøyaktig og uavhengig av posisjonen av sledene i x- og y-retningen. Den vertikale avstand kan justeres ved inn-førings av justeringsblokker Ul og Ul på rulleflåtene. Anvendelse av felles flate som dannes ved skrueforbindelsen mellom de fire bjelker som rullebane, eventuelt med innlagte justeringsblokker, for de to bevegelige sleder betyr en vesentlig innsparing av frem-stillingskostnader sammenlignet med vanlige metoder. Rulling på disse referanseflater er også fri for spillerom da motstående rulle-baner er forspent mot referanseflåtene. Se f.eks. forspennings-platen 133 og kulen 123 på den venstre del av sleden 12,. Ved et enkelt supplement til den viste anordning er det lett å kontrollere en fremstillet maske og sammenligne denne med programmet som danner basisen for fremstillingen. Supplementet omfatter en lysfølsom detektor som er anordnet i akseretningen for fokuseringsenheten 13 på den andre side av-sleden 12. Denne detektor er festet tpå sleden 11 og følger derfor nøyaktig sleden i dens bevegelse i x-.retningen. Ved_ en konstant stråling fra laseren 31 inneholder et modulert signal fra detektoren informasjon _somter nødvendig _oitl„ masken etter at strålingen har passert masken i den posisjon hvor enheten 1U til lUl er vist på fig. 1 og 2. Kontrollen er derfor meget hurtig og pålitelig. ;Det er klart at modifikasjoner kan tenkes innenfor opp-finnelsens ramme. F.eks. kan sleden 11 drives av en trinnmotor og sleden 12 av en motor med veivarm. Videre kan kuleføringene erstattes av andre lågere. ;Posisjonsmåling ved hjelp av et laser interferometer ;kan også anvendes for den langsomme slede. I dette tilfellet er ikke lenger trinnmotoren med mateskruen nødvendig, men skruen kan drives av en enklere motor styrt av posisjonsinformasjon fra iaser-interferometeret. I en ytterligere utførelse kan laser interferometeret for indikering av posisjonen av den hurtig bevegede slede erstattes av et tidssignal som er opptegnet i et magnetsjikt på, sleden og som avleses av et stasjonært avlesningshode direkte over-for det magnetiske sjikt. ;Den overflate som eksponeres pr. tidsenhet kan videre økes ved å fordele eksponeringsstrålen på et antall fokuserings-enheter som er festet på sleden 11 og som hver avsøker en del av masken. Alternativt kan denne anordning anvendes for samtidig eksponering av flere forskjellige masker. ;Anordningen på fig. 4-6 har samme basiskonstruksjon som anordningen på fig. 1 og 2 og derfor skal bare de detaljer som er forskjellige fra fig. 1 og 2 beskrives nedenfor, dvs. understøt-telsen av sledene. Denne understøttelse skjer ved hjelp av V-formede spor og kuler på den måte som er vist på fig. 4 hvor sideflatene av sleden 12 som strekker seg i sledens bevegelsesretning er forsynt med et V-formet spor 51,52 og at bæreribber 53,5* er anordnet parallelt med de nevnte sideflater og er også forsynt med V-formede spor 55,56 og at presisjonskuler 57 er anordnet i sporene.
Bæreribbnne 53 er festet på referanseflaten 19' av bjelken 19 ved hjelp av skruer 58. Bæreribben 53 tjjsner som presisj-sjonsføring som kan skiftes ut når den blir slitt.
Bæreribben 54 ligger an mot en bladfjær 59 som er bølge-formet i lengderetningen og som er festet på bjelken 20. Skruer 6~0 for fjerning av bæreribben 54 har en slik klaring i ribbens skruehull at bæreribben 54 er forskyvbar i en viss utstrekning mot sleden 12 ved påvirkning av bladfjæren 59, og derfor vil de V-formede spor og kulene alltid ligge an mot hverandre slik at det unngås spillerom. Innstilling av sleden 12 utføres på basis av v W
referanseflaten 19'.
Bæreribbene 53 og 54 er fortrinnsvis vertikalt juster-bare ved hjelp av avstandsstykker 61 og 62. Fig. 5 viser at bæreribbene 53 og 54 strekker seg langs hele lengden av bjelkene 19 og 20 men hver av dem kan bestå av to kortere deler som er anordnet på stedet for kulene.
Sleden 11 er båret på samme måte som sleden 12. Som vist på fig. 6 er sleden 11 forsynt med V-formede spor 63,64 på sideflatene og strekker seg i sledens bevegelsesretning, og bæreribber 65,66 er anordnet parallelt med sledens sideflater og er forsynt med motsvarende V-formede spor 67,68 og isporene er anordnet kuler 69. Bjelken 17 har en referanseflate for bæreribben 65 og derfor for sleden 11, mens bæreribben 66 ligger an mot en bladfjær 70.
Den beskrevne konstruksjon har den fordel at bare åtte kuler er nødvendig for å bære og styre de to sleder mens det ved ut-førelsen på fig. 1 og 2 er nødvendig med fireogtyve kuler.
Bæreribbene 55 og .651 som ligger an mot referanseflatene kan sløyfes hvis de V-formede spor er anordnet direkte i bjelkene 19, 17, men anvendelse av bæreribber har den fordel at de kan skiftes ut når de er slitt.
Som vist på fig. 4 er en fotodetektor 71 anordnet over sleden 12 med glassplaten 14 og festet til sleden 11 ved hjelp av en arm 72 og følger derfor denne sledens bevegelse. Hensikten med detektoren er allerede beskrevet under henvisning til fig. 1 og 2.
Ved et reflékterende arbeidsstykke av metall som objekt på sleden 12 blir en del av strålen reflektert tilbake gjennom fokuseringsinnretningen 13 og videre via speilet 10 hvis dette er halvtransparent. Detektoren 71 kan da sløyfes og istedet kan det an-ordnes en detektor 73 under speilet 10 som vist med strekprikkede linjer på fig. 4.
En ytterligere måte å anordne fotodetektorer på er vist på fig. 7. Her er to detektorer 74 og 75 anordnet over sle^en-i 12 og festet på bjelkene 19 og 20, men de kan også være festet på enhver faststående del. Denne konstruksjon er mulig ved at strålen når dnh når detektorene 74,75 har divergert og at detektorene ikke har et så smalt innfangningsområde at det er nødvendig å la dem følge sledens bevegelser. Det er også mulig å anordne flere detektorer på en rekke
langs bevegelsesbanen for fokuseringsinnretningen 13.
Ytterligere, modifikasjoner kan foretas innenfor opp-finnelsens ramme, f.eks. kan hver av kulene 57 og 69 erstattes av to ruller som er anordnet etter hverandre og med sine rotasjons-akser vinkelrett på hverandre på i og for seg kjent måte.

Claims (10)

1. Anordning for fremstilling av masker for mikrokretser, omfattende en strålingskilde (10,13,405a), et strålingsfølsomt medium (141), og hjelpemidler for å tilveiebringe en innbyrdes bevegelse mellom strålingskilden og mediet, karakterisert ved at hjelpemidlene omfatter en første slede (11) for hurtig frem- og tilbakegående bevegelse i en første retning (x) og som"bærer strålingskilden eller mediet, og en andre slede (12) for langsom bevegelse i en andre retning (y) som er vinkelrett på den første retning, samtidig med den første sledens frem- og tilbakegående bevegelse og som bærer mediet eller strålingskilden.
2. Anordning ifølge krav 1, karakterisert ved at en mekanisk føring for sledene omfatter en enhet bestående av fire bjelker (17,18,19,20) av hvilke to (17,18) er parallelle og har planslipte sideflater for styring av den første slede (11) ved hjelp av glideorganer (111-114,69) mellom de nevnte sideflater og sideflatene av den~første slede, og''de to andre bjelker (19,20) er parallelle og har planslipte sideflater for styring av den andre slede (12) ved hjelp av glideorganer (121,122,59) mellom de sistnevnte sideflater og sideflatene av den andre slede, og at den første slede (11) med press via glideorganer (115,117) ligger an mot undersiden av de to sistnevnte bjelker (19,20) og den andre slede (12) med press via glideorganer (124,126) ligger an mot oversiden av de to først-nevnte bjelker (17,l8).
3. Anordning ifølge krav 2, karakterisert ved at de to par bjelker (17-20) kryåser hverandre, at bjelkenes og sledenes sideflater er forsynt med V-formede spor (51,55 resp. 52,56;63j67, resp. 64,68), og at glideorganene er kuler (57,69) eller ruller som ruller i sporene.
4. - Anordning ifølge krav 3j karakterisert ved at i hvert par bjelker utgjør en av de nevnte sideflater en i'fast referanséflate og' den anre sideflate danner en fjærende pressflate.
5. Anordning ifølge krav 3, karakterisert ved at i hvert par bjelker danner den sideflate av én bjelke som vender mot sleden en fast referanseflåte, at en første bæreribbe (53s65) ligger an mot denne referanseflate og er forsynt med et V-formet spor som vender mot ett V-formet spor i sleden, at den andre bjelke ved hjelp av ettergivende organer danner understøttelse for en annen bæreribbe (54,66) som har et V-formet spor som vender motdet andre V-formede spor på sleden, og at kulene (57>69) eller rullene ruller i sporene, slik at sleden ved innvirkning av ettergivende press holdes i stilling i forhold til referanseflaten.
6. Anordning ifølge krav 1, karakterisert ved at en av sledene (11) er forsynt med en fokuseringsinn-retning (13) for strålingen fra strålingskilden, at den anre av sledene (12 ) er forsynt med.?£eseféorganer for det strålingsføl-somme medium (l4l), og at en lysfølsom detektor (71) er anordnet i fokuseringsinnretningens akse, på den andre side av festeorganene og er mekanisk festet til den første slede (11).
7. Anordning ifølge krav 1, karakterisert ved at en av sledene (11) er forsynt med en fokuseringsinn-retning (13) for strålingen fra strålingskilden, at den andre av sledene er forsynt med festeorganer for det strålingsfølsomme medium (141), og at minst en lysfølsom detektor (74,75) er anordnet vinkelrett på fokuseringsinnretningen <p>g på den andre side av det strålingsfølsomme medium og er mekanisk festet til en stasjonær del som f.eks. enheten.
8. Anordning ifølge krav 1, karakterisert ved at en av sledene (11) er forsynt med en fokuseringsinn-ré.tning (13) for strålingen fra strålingskilden, at den andre av sledene (12) er forsynt med festeorganer for det strålings-følsomme medium (l4l)yat et halvtransparent speil er anordnet for å rette strålingen som faller på det mot fokuseringsinnretningens objektiv, og at en fotodetektor (73) er anordnet bak speilet, sett fra fokuseringsinnretningen, og mekanisk festet på den første slede (11), for å motta stråling som reflekteres fra det strålingsfølsomme medium og trenger gjennom speilet.
9- Anordning ifølge et av de foregående krav, karakterisert ved at en modulator (33) er anordnet mellom strålingskilden og det strålingsfølsomme medium (141), i form av en avbøyningsinnretning for strålingen, for avbøyning av strål ingen slik at strålen dels tegner linjer (405) hvis innbyrdes stilling bestemmes av en rent mekanisk bevegelse av sledene, og dels tegner punkter (406), linjer eller et sikk-sakkmønster mellom linjene..
10. Anordning ifølge krav 9, kar a"k terisert ved at modulatoren (33) er akustisk-optisk og tjener til både amplitudemodulasjon og avbøyning av strålingen.
NO740827A 1973-11-19 1974-03-08 Anordning for fremstilling av masker for mikrokretser. NO136167C (no)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US416885A US3903536A (en) 1973-11-19 1973-11-19 Device for generating masks for microcircuits

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NO740827L NO740827L (no) 1975-05-21
NO136167B true NO136167B (no) 1977-04-18
NO136167C NO136167C (no) 1977-07-27

Family

ID=23651711

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NO740827A NO136167C (no) 1973-11-19 1974-03-08 Anordning for fremstilling av masker for mikrokretser.

Country Status (4)

Country Link
US (1) US3903536A (no)
DE (1) DE2411508C2 (no)
FR (1) FR2251842B1 (no)
NO (1) NO136167C (no)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SE399628B (sv) * 1975-02-13 1978-02-20 Westerberg Erik Gerhard Natana Drivanordning, speciellt for anvendning vid en avsokningsanordning for framstellning av masker for mikrokretsar
US4095891A (en) * 1976-12-27 1978-06-20 Gca Corporation On-the-fly photoresist exposure apparatus
US4119976A (en) * 1977-04-25 1978-10-10 Itek Corporation Phototypesetter lens carriage arrangement
SE407715B (sv) * 1977-05-17 1979-04-09 Bofors Aerotronics Ab Anvendning av en anordning for att alstra stora datorbereknade hologram med hog upplosning
US4209240A (en) * 1978-10-10 1980-06-24 California Institute Of Technology Reticle exposure apparatus and method
JPS5645021A (en) * 1979-09-19 1981-04-24 Hitachi Ltd Moving apparatus
SE449531B (sv) * 1980-12-11 1987-05-04 Gerhard Westerberg Forfarande och anordning for kontroll av mikromasker
JPS59129633A (ja) * 1983-01-08 1984-07-26 Canon Inc ステージ装置
DE102012217241A1 (de) * 2012-09-25 2014-03-27 Schaeffler Technologies Gmbh & Co. Kg Lagerelement für zwei Raumrichtungen
JP7020078B2 (ja) * 2017-11-24 2022-02-16 株式会社島津製作所 フーリエ変換型分光光度計

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1900566A (en) * 1930-05-23 1933-03-07 Clarence W Kanolt Depthograph plate holder
US1857706A (en) * 1931-08-17 1932-05-10 Zabrocki Tony Camera back
US2259084A (en) * 1938-03-28 1941-10-14 Rosenhaft Walter Hand camera for the production therewith of small-sized photographs in series
US2459552A (en) * 1945-08-07 1949-01-18 Justus S Stoner Apparatus for producing photographic multiple copies
GB961227A (en) * 1961-07-12 1964-06-17 Crosfield Electronics Ltd Improvements in or relating to image reproduction systems
NL301413A (no) * 1963-12-05
FR2038520A5 (no) * 1969-03-18 1971-01-08 Panhard & Levassor

Also Published As

Publication number Publication date
FR2251842B1 (no) 1978-02-10
DE2411508C2 (de) 1985-11-14
DE2411508A1 (de) 1975-05-22
US3903536A (en) 1975-09-02
NO136167C (no) 1977-07-27
FR2251842A1 (no) 1975-06-13
NO740827L (no) 1975-05-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3971002A (en) Device for the optical read-out of a diffractive track belonging to a data carrier in the form of a disc or tape
CN104959730B (zh) 旋转台式飞秒激光直写方法及装置
JP4761432B2 (ja) レーザ加工装置
EP2404222B1 (en) Rotor optics imaging method and system with variable dose during sweep
US4464030A (en) Dynamic accuracy X-Y positioning table for use in a high precision light-spot writing system
JP2538456B2 (ja) 光学的変位量測定装置
TWI448809B (zh) 雷射處理多重元件平板
CN101194208B (zh) 用于多曝光射束光刻装置的方法
US7123340B2 (en) Lithograph with moving lens and method of producing digital holograms in a storage medium
DE2004243A1 (de) Bilderzeugende Einrichtungen
NO136167B (no) Anordning for fremstilling av masker for mikrokretser.
US3650605A (en) Interferometric apparatus with controlled scanning means
KR20070008711A (ko) 정보 매체와 장치 내에 이 정보 매체를 위치하기 위한시스템
JP2004523805A (ja) ビーム案内を有するリソグラフ及び記憶媒体にデジタルホログラムを生成する方法
US5103257A (en) Process for producing or inspecting micropatterns on large-area substrates
NL7907828A (nl) Stelsel voor het registeren en weergeven van optische signalen.
JPS6148135A (ja) 光学デ−タカ−ドランダムアクセス情報システム
GB2178548A (en) Pattern generation
US4693555A (en) Device for holding an imaging lens
JP5117250B2 (ja) 露光装置
US3863262A (en) Laser phototypesetter
US7522323B2 (en) Method and apparatus for printing a pattern with improved focus correction and higher throughput
TW478219B (en) A machine for exposing a panel to laser radiation
US4134651A (en) Method of making an assembly
CN211478821U (zh) 应用于dmd图案化液晶光取向装置的照明系统