NO135188B - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
NO135188B
NO135188B NO123/73A NO12373A NO135188B NO 135188 B NO135188 B NO 135188B NO 123/73 A NO123/73 A NO 123/73A NO 12373 A NO12373 A NO 12373A NO 135188 B NO135188 B NO 135188B
Authority
NO
Norway
Prior art keywords
copper
group
coating
coating bath
bath according
Prior art date
Application number
NO123/73A
Other languages
Norwegian (no)
Other versions
NO135188C (en
Inventor
M N Gilano
Original Assignee
Dynachem Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dynachem Corp filed Critical Dynachem Corp
Publication of NO135188B publication Critical patent/NO135188B/no
Publication of NO135188C publication Critical patent/NO135188C/no

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/38Coating with copper
    • C23C18/40Coating with copper using reducing agents
    • C23C18/405Formaldehyde

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Description

Oppløsninger for strømløs kobberbelegning som benyt-ter alkalisk formaldehyd som reduksjonsmiddel for kobber(II)-ioner•er autokatalytiske og derfor hyppig ustabile, dvs. at de har en tendens til å sette fri kobber for tidlig. Mange fremgangsmåter er foreslått for å minimalisere autodekomponeringen av kobberbad for strømløs plettering. Bruken av sterke chelat-dannere,slik som etylendiamintetraeddiksyre (EDTA), er f.eks. kjent å understøtte retarderingen av autodekomponeringsgraden. Solutions for electroless copper coating that use alkaline formaldehyde as a reducing agent for copper(II) ions•are autocatalytic and therefore often unstable, i.e. they tend to release copper too soon. Many methods have been proposed to minimize the autodecomposition of copper baths for electroless plating. The use of strong chelating agents, such as ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA), is e.g. known to support the retardation of the autodecomposition rate.

(Se US-patent nr. 3.119-709). Chelatdannelse gir imidlertid ikke helt tilfredsstillende stabilisering, og i mange tilfeller påvirkes metallavsetningshastigheten ugunstig slik at belegnings-■prosessen gjøres kommersielt ubrukbar. (See US Patent No. 3,119-709). However, chelation does not provide completely satisfactory stabilization, and in many cases the rate of metal deposition is adversely affected so that the coating process is rendered commercially unusable.

Det er også kjent at kobber(I)-ionet er ekstremt virksomt med henblikk på å fremme autodekomponeringen av oppløs-ninger for strømløs kobberbelegning. Por å redusere kobber(I)-" ionekonsentrasjonen er det foreslått å boble luft eller oksygen gjennom belegningsoppløsningen for strømløs kobberplettering. It is also known that the copper (I) ion is extremely effective with a view to promoting the auto-decomposition of solutions for electroless copper coating. To reduce the copper(I) ion concentration, it has been suggested to bubble air or oxygen through the plating solution for electroless copper plating.

(Se US-patent nr. 2.938.805). Denne fremgangsmåte omdanner kobber(I)-ionet til kobber(II)-ion og er vanligvis benyttet i denne teknikk. Når denne fremgangsmåte benyttes som eneste hjelpemiddel for stabilisering av badet, har den to store mangler. For det første er avsetningene som oppnås vanligvis mørke og ikke-metalliske av utseende, antagelig på grunn av et ytre sjikt av kobber(II)-oksyd, for det andre flyktiggjøres en stor mengde av formaldehyd på grunn av oksygenet som føres gjennom oppløsningen, og dette gjør kontrollen av den kjemiske balanse mere vanskelig. (See US Patent No. 2,938,805). This method converts the copper (I) ion to copper (II) ion and is commonly used in this technique. When this method is used as the only aid for stabilizing the bath, it has two major shortcomings. Firstly, the deposits obtained are usually dark and non-metallic in appearance, presumably due to an outer layer of copper(II) oxide, secondly, a large amount of formaldehyde is volatilized due to the oxygen carried through the solution, and this makes the control of the chemical balance more difficult.

Bruken av mindre mengder forskjellige kjemikalier som er i stand til komplekst å binde kobber(I)-ioner, er også godt kjent i teknikken for å øke stabiliteten av kobberoppløsninger for strømløs plettering. Typiske additiver er cyanider, nitri-ler, uorganiske sulfider og forskjellige, organiske toverdige svovelforbindelser. (Se US-patent nr. 3.095-309 og 3-361.580)..-Vanligvis har også disse additiver flere mangler. Ofte utvider The use of minor amounts of various chemicals capable of complexing copper(I) ions is also well known in the art to increase the stability of copper solutions for electroless plating. Typical additives are cyanides, nitriles, inorganic sulphides and various organic divalent sulfur compounds. (See US patent no. 3,095-309 and 3-361,580)..-Usually these additives also have several deficiencies. Often expands

de kun i liten grad brukslevetiden eller driftsparametrene for oppløsningene, og når stabiliteten sterkt-økes, reduseres vanligvis hastigheten eller kvaliteten av metallavsetningen. Derfor er vanligvis et visst kompromiss mellom stabilitet for beleg-ningsoppløsningen og kvaliteten eller kvantiteten av metallavsetningen nødvendig.. ,.\, they only slightly affect the service life or operating parameters of the solutions, and when stability is greatly increased, the rate or quality of metal deposition is usually reduced. Therefore, some compromise between stability of the coating solution and the quality or quantity of the metal deposit is usually necessary.. ,.\,

Ifølge oppfinnelsen kan den vanlige kobberoppløsning for strømløs plettering stabiliseres innen et visst temperatur-område i ekstremt lange tidsrom uten å gi avkall på kvalitet, farge eller metallavsetningshastighet. Kobberbadene for strøm-løs plettering ifølge oppfinnelsen benyttes kontinuerlig med erstatning av de bestanddeler som tapes ved kjemisk reaksjon eller uttrekking med høy effektivitet. According to the invention, the usual copper solution for electroless plating can be stabilized within a certain temperature range for extremely long periods of time without sacrificing quality, color or metal deposition rate. The copper baths for electroless plating according to the invention are used continuously with replacement of the components that are lost by chemical reaction or extraction with high efficiency.

I tillegg tåler badene som er stabilisert ifølge oppfinnelsen gjentatte oppvarmings- og avkjølingssykler og vil vanligvis kunne benyttes effektivt ved omgivelsestemperaturer. In addition, the baths which are stabilized according to the invention withstand repeated heating and cooling cycles and will usually be able to be used effectively at ambient temperatures.

De resulterende kobberfilmer er lys rosa og består av rent kobber-metall. De har ingen mørke og kornede områder av kobberoksyder, som vanligvis finnes i de til nå kjente filmer. The resulting copper films are light pink and consist of pure copper metal. They have no dark and grainy areas of copper oxides, which are usually found in the films known to date.

Således angår foreliggende oppfinnelse et alkalisk belegningsbad for strømløs kobberbelegning med en pH innen området 10,5 til 14, inneholdende vann, et vannoppløselig kobbersalt, et kompleksdannende middel for kobber(II)-ioner. og formaldehyd, og belegningsbadet karakteriseres ved at det videre inneholder en primær stabilisator med følgende generelle formel: hvor R og R'<1>' er like eller forskjellige og hver er en alkyl-.gruppe med fra 1-12 karbonatomer, en fenyl- eller naftyl-gruppe, X, Y og Z er oksygen eller svovel og R' sammen med Z er en sur gruppe som hydrolyseres i det alkaliske bad, og der badet videre eventuelt inneholder en sekundær stabilisator med den generelle formel: Thus, the present invention concerns an alkaline coating bath for electroless copper coating with a pH within the range 10.5 to 14, containing water, a water-soluble copper salt, a complexing agent for copper (II) ions. and formaldehyde, and the coating bath is characterized by the fact that it also contains a primary stabilizer with the following general formula: where R and R'<1>' are the same or different and each is an alkyl group with from 1-12 carbon atoms, a phenyl or naphthyl group, X, Y and Z are oxygen or sulfur and R' together with Z is an acidic group which is hydrolysed in the alkaline bath, and where the bath further optionally contains a secondary stabilizer with the general formula:

hvor R'' er en alkylgruppe med fra 1-12 karbonatomer, en fenyl- eller naftylgruppe eller en substituert fenyl- eller naftylgruppe, X' er en tio-, sulfoksyd-, sulfonyl-, oksy-, karbonyl- eller iminogruppe, n er 1, 2 eller 3, eller hvor R''X' er et imid'eller en heterocyklisk ring med nitrogen og karbon med eller uten oksygen. where R'' is an alkyl group with from 1-12 carbon atoms, a phenyl or naphthyl group or a substituted phenyl or naphthyl group, X' is a thio, sulfoxide, sulfonyl, oxy, carbonyl or imino group, n is 1, 2 or 3, or where R''X' is an imide or a heterocyclic ring of nitrogen and carbon with or without oxygen.

I alle tilfeller bør i den primære stabilisator bindingene i R'''X og R'''-Y være stabile i det alkaliske bad, In all cases, in the primary stabilizer the bonds in R'''X and R'''-Y should be stable in the alkaline bath,

og de bør motstå hydrolyse. X, Y og Z kan være oksygen og svovel, helst er X og Y oksygen. R' kan bety et stort område av kjemiske grupper. Hovedkriteriet ved valget av R' er at den sammen med Z danner en sur gruppe som langsomt hydrolyserer i det alkaliske belegningsbad, slik at det fremkommer en R(X)R(Y)P(S)-(Z)~ del. En hvilken som helst struktur hvor karbo-net som er bundet til Z er bundet til en del forskjellig fra en alkylgruppe, er egnet. Mer spesielt kan R' være hydrogen, en substituert alkyl- eller arylgruppe, hvori substituenten er en eller flere av de følgende: halogen (f.eks. klorid, bromid eller jodid), hydroksyl, amino eller lavere alkyl- eller alkanol-amino, amido, nitro, karbalkoksy, alkyltio, alkoksy eller aryl-oksygruppe eller pyrimidyl. Alkylgruppene kan ha 1 - 12 karbonatomer, men:helst 1-4. Arylgruppen kan være fenyl eller naftyl'. Slike grupper er: én paranitrofenylgruppe, en etyltio-gruppe, en N-metylkarbamoylmetylgruppe, en trikloretylgruppe, en l,2-di(etoksykarbonyl)etyltiogruppe. Imidlertid kan ikke mer enn en av de tre R-grupper være hydrogen. and they should resist hydrolysis. X, Y and Z can be oxygen and sulphur, preferably X and Y are oxygen. R' can mean a wide range of chemical groups. The main criterion for the selection of R' is that together with Z it forms an acidic group which slowly hydrolyses in the alkaline coating bath, so that an R(X)R(Y)P(S)-(Z)~ part appears. Any structure in which the carbon attached to Z is attached to a moiety other than an alkyl group is suitable. More particularly, R' may be hydrogen, a substituted alkyl or aryl group, wherein the substituent is one or more of the following: halogen (eg chloride, bromide or iodide), hydroxyl, amino or lower alkyl or alkanol amino, amido, nitro, carbaloxy, alkylthio, alkoxy or aryloxy group or pyrimidyl. The alkyl groups can have 1-12 carbon atoms, but preferably 1-4. The aryl group can be phenyl or naphthyl'. Such groups are: one paranitrophenyl group, one ethylthio group, one N-methylcarbamoylmethyl group, one trichloroethyl group, one 1,2-di(ethoxycarbonyl)ethylthio group. However, no more than one of the three R groups can be hydrogen.

I den sekundære stabilisator er X' helst en nitrogen-gruppe og R'' og n sammen en ftalimid- eller ftalimidoksygruppe; således er forbindelsen av propargyltypen en propargylftalimid eller en propargyloksyf talimid .' In the secondary stabilizer X' is preferably a nitrogen group and R'' and n together a phthalimide or phthalimidoxy group; thus the compound of the propargyl type is a propargylphthalimide or a propargyloxyphthalimide.'

Representative primære stabilisatorer er: dietyl-p-nitrofenylfosfat, dietyl-p-nitrofenyltionofosfat (Parathion), dimetyl-S-2-etyltioetyltiolofosfat, monometylamid av 0,0-dimetyl-ditiofosforyleddiksyre, dietylester av 0,O-dimetylditiofosforyl-ravsyre (malathion), dimetylhydroksy-2,2,2-trikloretylfosfonat og dietyl-2-isopropyl-4-metylpyrimid-6-yl-tionofosfat. Representative primary stabilizers are: diethyl-p-nitrophenyl phosphate, diethyl-p-nitrophenylthionophosphate (Parathion), dimethyl-S-2-ethylthioethylthiolophosphate, 0,0-dimethyldithiophosphorylacetic acid monomethylamide, 0,O-dimethyldithiophosphorylsuccinic acid diethyl ester (malathion) , dimethylhydroxy-2,2,2-trichloroethylphosphonate and diethyl-2-isopropyl-4-methylpyrimid-6-yl-thionophosphate.

Mest foretrukket av disse forbindelser er dietyl-p-nitrof enyltionof osf at og dietylesteren av 0,O-dimetylditio-fosforylravsyre, kjent under trivialnavnene Parathion, henholds-vis Malathion. Most preferred of these compounds are diethyl-p-nitrof enylthiophate and the diethyl ester of 0,0-dimethyldithio-phosphorylsuccinic acid, known under the trivial names Parathion, respectively Malathion.

Beregnet på antall mol kobber(II)-salt som benyttes, tilsettes fra 0,0001 til 0,001 mol av den organiske fosfat-stabilisator til den ikke-elektriske belegningsoppløsning. Calculated on the number of moles of copper (II) salt used, from 0.0001 to 0.001 mole of the organic phosphate stabilizer is added to the non-electric coating solution.

Helst benyttes fra 0,0002 til 0,0004 mol. Preferably from 0.0002 to 0.0004 mol is used.

Eksempler på sekundære stabilisatorer som kan benyttes omfatter: N-propargylmaleimid, N-propargylravsyreimid, N-alkyl-N-propargylamider, N,N-dialkyl-N-propargylaminer, aryl-og alkyl-propargyletere, aryl- og alkyl-propargyltioetere, aryl-og alkyl-propargylketoner og aryl- og alkyl-propargylsulfoner. Examples of secondary stabilizers that can be used include: N-propargyl maleimide, N-propargyl succinimide, N-alkyl-N-propargyl amides, N,N-dialkyl-N-propargyl amines, aryl and alkyl propargyl ethers, aryl and alkyl propargyl thioethers, aryl -and alkyl propargyl ketones and aryl and alkyl propargyl sulfones.

Mengden av sekundær stabilisator som kan benyttes uttrykkes helst ved kobber(II)-saltet i 1 liter av det ikke-elektriske kobberbelegningsbad. Vanligvis benyttes. 0,0001 til 0,001 mol, helst 0,0002 til 0,0004 mol. The amount of secondary stabilizer that can be used is preferably expressed by the copper (II) salt in 1 liter of the non-electrical copper plating bath. Usually used. 0.0001 to 0.001 mol, preferably 0.0002 to 0.0004 mol.

Kobberbelegningsoppløsningene ifølge oppfinnelsen er alkaliske vandige oppløsninger som inneholder en kilde for kobber(II)-ioner, minst ett kompleksdannende middel for kobber-(II)-ioner og et aktivt reduserende middel. Alkaliteten kan fremkomme ved natrium- eller kaliumhydroksyder, karbonater eller fosfater eller andre baser. Ifølge oppfinnelsen er det foretrukkede alkali en blanding av et alkalimetallhydroksyd og karbonat. Denne blanding er økonomisk og tillater lett regulering av pH-Vérdien. Natriumsaltene er vanligvis foretrukket på grunn av disses lave omkostninger. The copper coating solutions according to the invention are alkaline aqueous solutions containing a source of copper (II) ions, at least one complexing agent for copper (II) ions and an active reducing agent. The alkalinity can arise from sodium or potassium hydroxides, carbonates or phosphates or other bases. According to the invention, the preferred alkali is a mixture of an alkali metal hydroxide and carbonate. This mixture is economical and allows easy regulation of the pH value. The sodium salts are usually preferred because of their low cost.

Egnede kilder for kobber(II)-ioner er vannoppløselige kobbersalter slik som kobber(II)sulfat, kobber(II)nitrat, kobber(II)klorid og kobber(II)acetat. Ifølge oppfinnelsen er kobber(II)sulfat foretrukket på grunn av den lave pris og den lette oppnåelighet. Suitable sources for copper (II) ions are water-soluble copper salts such as copper (II) sulphate, copper (II) nitrate, copper (II) chloride and copper (II) acetate. According to the invention, copper (II) sulfate is preferred because of its low price and easy availability.

Egnede kompleksdannende midler for kobber(II)-ioner er trietanolamin, tetrakis-N-N-N-N-hydroksypropyletylendiamin, salter av nitrilotrieddiksyre, salter av etylendiaminacetater og salter av hydroksykarboksylsyrer slik som glukonsyre, sitron-syre og vinsyre. Blandinger av salter av etylendiamintetraeddiksyre og vinsyre er de foretrukkede kompleksdannende midler, og disse gir optimal stabilitet og avsetningsegenskaper i for-bindelse med de foretrukkede additiver ifølge oppfinnelsen. Egnede reduserende midler er formaldehyd og formaldehyd-kilder, inkludert vandig'formaldehyd, paraformaldehyd og derivater derav. Vandig formaldehyd er foretrukket på grunn av lave omkostninger, oppnåelighet og lett anvendelighet. Suitable complexing agents for copper (II) ions are triethanolamine, tetrakis-N-N-N-N-hydroxypropylethylenediamine, salts of nitrilotriacetic acid, salts of ethylenediamine acetates and salts of hydroxycarboxylic acids such as gluconic acid, citric acid and tartaric acid. Mixtures of salts of ethylenediaminetetraacetic acid and tartaric acid are the preferred complexing agents, and these provide optimal stability and deposition properties in connection with the preferred additives according to the invention. Suitable reducing agents are formaldehyde and formaldehyde sources, including aqueous formaldehyde, paraformaldehyde and derivatives thereof. Aqueous formaldehyde is preferred due to low cost, availability and ease of use.

Fagmannen vil forstå at andre additiver, slik som overflateaktive midler, kan benyttes, for å øke effektiviteten av en kobberbelegningsoppløsning for strømløs plettering. Those skilled in the art will appreciate that other additives, such as surfactants, can be used to increase the effectiveness of a copper coating solution for electroless plating.

Generelt sagt kan mengden av kobbersulfat pr. liter belegningsoppløsning være 0,002 til 0,15 mol, helst 0,002 til 0,04. Tilstrekkelig alkali bør være tilstede til å gi en pH-verdi på 10,5 til 14, helst 13j0 til 13>5- Mengden av formalde-hyd eller ekvivalent dertil kan være 0,06 til 1,3 mol, helst 0,25 til 0,50. Molantallet for det kompleksdannende middel bør være 1-4 ganger moltallet for kobber, helst omkring 2-2,5 ganger dette. Generally speaking, the amount of copper sulphate per liter of coating solution be 0.002 to 0.15 mol, preferably 0.002 to 0.04. Sufficient alkali should be present to give a pH of 10.5 to 14, preferably 13.0 to 13.5. The amount of formaldehyde or equivalent may be 0.06 to 1.3 moles, preferably 0.25 to 0.50. The molar number for the complexing agent should be 1-4 times the molar number for copper, preferably around 2-2.5 times this.

Slik som nevnt tidligere er de ikke-elektriske kobberbelegningsoppløsninger ifølge oppfinnelsen stabile i utstrakte tidsrom ved omgivelsestemperaturer. Videre kan de motstå temperaturer opp til 48,9°C og i enkelte tilfeller også koking, uten ugunstige virkninger. As mentioned earlier, the non-electrical copper coating solutions according to the invention are stable for extended periods of time at ambient temperatures. Furthermore, they can withstand temperatures up to 48.9°C and in some cases also boiling, without adverse effects.

Belegningsoppløsningene ifølge oppfinnelsen holdes helst på en spesifik vekt på 1,04 til 1,05 og en temperatur på 23,9 til 26,7°C. Under disse betingelser kan det oppnås en avsetningshastighet på 2,54 x 10<->^ cm/min. Ved høyere temperaturer økes avsetningshastigheten. The coating solutions according to the invention are preferably maintained at a specific gravity of 1.04 to 1.05 and a temperature of 23.9 to 26.7°C. Under these conditions, a deposition rate of 2.54 x 10<->^ cm/min can be achieved. At higher temperatures, the deposition rate is increased.

I praksis oppbevares kobberbelegningsoppløsningen ifølge oppfinnelsen i plasttanker eller plastforede metalltanker ved 21,1 til 37,8°C, helst under mekanisk omrøring. Stykkene som skal belegges renses, og hvis nødvendig, gjøres de følsomme ved fremgangsmåter som er vel kjent for fagmannen. Neddypping In practice, the copper coating solution according to the invention is stored in plastic tanks or plastic-lined metal tanks at 21.1 to 37.8°C, preferably with mechanical stirring. The pieces to be coated are cleaned and, if necessary, sensitized by methods well known to those skilled in the art. Immersion

av gjenstanden som skal belegges i 10 - 30 min. er vanligvis tilstrekkelig til å gi den ønskede beleggtykkelse. Etterføl-gende avsetning av ytterligere metallbelegg på elektrolytisk måte kan deretter lett gjennomføres hvis ønskelig. of the object to be coated for 10 - 30 min. is usually sufficient to give the desired coating thickness. Subsequent deposition of additional metal coatings electrolytically can then be easily carried out if desired.

Overflaten som skal belegges må være fri for fett og andre forurensende stoffer. Der en ikke-metallisk overflate skal belegges, bør overflatearealene som skal motta avsetningen, først som ved vanlige prosesser, behandles med vanlige sensitiver-ende og podende oppløsninger, slik som tinn(II)-klorid (SnC^K fulgt av behandling med en fortynnet- oppløsning av palladium- The surface to be coated must be free of grease and other contaminants. Where a non-metallic surface is to be coated, the surface areas to receive the deposit should first, as in normal processes, be treated with common sensitizing and grafting solutions, such as tin(II) chloride (SnC^K followed by treatment with a diluted - dissolution of palladium-

(PdClg). Der en metalloverflate, slik .som rustfritt stål, skal behandles, bør den avfettes og deretter behandles med syre, f.eks. saltsyre eller fosforsyre for å befri overflaten for tilstedeværende oksyd. Hvis strømløs avsetning skal skje på et plastunderlag eller et keramisk underlag som er impregnert med kobber(I)oksyd (CUgO), neddyppes den rensede gjenstand i belegningsbadet og tillates å forbli der inntil avsetningen er tilstrekkelig tykk. (PdClg). Where a metal surface, such as stainless steel, is to be treated, it should be degreased and then treated with acid, e.g. hydrochloric acid or phosphoric acid to free the surface from the oxide present. If electroless deposition is to take place on a plastic substrate or a ceramic substrate impregnated with copper (I) oxide (CUgO), the cleaned object is immersed in the coating bath and allowed to remain there until the deposition is sufficiently thick.

De følgende illustrerende eksempler skal belyse oppfinnelsen nærmere. The following illustrative examples shall illuminate the invention in more detail.

Eksempel 1 Example 1

Ifølge oppfinnelsen prepareres 7 kobber-belegnings-oppløsninger for strømløs belegning. Sammensetningen av oppløs-ningene er som følger: Til omtrent \ liter vann tilsettes i den rekkefølge som er angitt i tabellen, de forskjellige angitte forbindelser. Før tilsetningen oppløseliggjøres stabilisatorene med et medoppløsningsmiddel slik som en glykoleter, slik det lett vil være klart for fagmannen. Etter at alle bestanddelene er tilsatt, tilsettes tilstrekkelig vann til at det hele utgjør 1 liter. Hver av oppløsningene inneholder 9,25 g CuSC^ 5H2O, According to the invention, 7 copper coating solutions are prepared for electroless coating. The composition of the solutions is as follows: To approximately \ liter of water, in the order indicated in the table, the various indicated compounds are added. Before the addition, the stabilizers are solubilized with a co-solvent such as a glycol ether, as will be readily apparent to the person skilled in the art. After all the ingredients have been added, sufficient water is added so that the whole amounts to 1 litre. Each of the solutions contains 9.25 g CuSC^ 5H2O,

16 g NaOH, 5 g Na2C03 og 30 g 37 5&ig formaldehyd. 16 g NaOH, 5 g Na2C03 and 30 g 37 5&ig formaldehyde.

Den følgende tabell angir de andre bestanddeler som er tilstede i kobberbelegningsoppløsningene ifølge oppfinnelsen: The following table indicates the other components present in the copper coating solutions according to the invention:

Aksellererte stabilitetsprøver gjennomføres ved for-segling av de ovenfor angitte oppløsninger i glassampuller og lagring av disse ved 54,4<0>C opp til 12 dager. Den følgende tabell beskriver det prosentuale tap av kobber(II)-ioner ved forskjellige tidsrom for lagringen. Accelerated stability tests are carried out by sealing the above-mentioned solutions in glass ampoules and storing these at 54.4<0>C for up to 12 days. The following table describes the percentage loss of copper (II) ions at different times of storage.

Den ovenfor angitte tabell viser den markert forbed-rede stabilitet for oppløsningene ifølge oppfinnelsen sammenlignet med kontrollen. En oppløsning identisk med oppløsning nr. 1, bortsett fra at malathion ble utelatt, hadde en i det vesentlige samme stabilitet som kontrollen, selv om 0,005 ..g av ftalimidet er tilstede. Por å vise effektiviteten av kobberbelegningsoppløs-' ningene ifølge oppfinnelsen ble hver av de 7 oppløsninger benyttet til å belegge epoksyplastpaneler. Panelene ble skrubbet og gjort følsomme ifølge fremgangsmåter som er vel kjente i teknikkens stand. De følsomgjorte paneler ble deretter neddyppet i separate begerglass, hvert inneholdende en av de ovenfor angitte oppløsninger, ved 23,9°C, og en pH-verdi på 13,3 i 10 min. Den følgende tabell viser tykkelsen av det strømløst utfelte kobberbelegg som ble notert for hver av oppløsningene. The above table shows the markedly improved stability of the solutions according to the invention compared to the control. A solution identical to solution No. 1, except that malathion was omitted, had substantially the same stability as the control, even though 0.005 g of the phthalimide is present. In order to show the effectiveness of the copper coating solutions according to the invention, each of the 7 solutions was used to coat epoxy plastic panels. The panels were scrubbed and sensitized according to methods well known in the art. The sensitized panels were then immersed in separate beakers, each containing one of the above solutions, at 23.9°C, and a pH of 13.3 for 10 min. The following table shows the thickness of the electroless deposited copper coating noted for each of the solutions.

I hvert tilfelle, bortsett fra kontrollen, hadde det belagte materiale et kobberb'elegg méd en tykkelse på omtrent 254 x 10 ■ mm. Dette tilsvarer en belegningshastighet på 25,4 x 10 ^ mm pr. min. Kobberbelegget hadde en utmerket kvalitet, en rosa farge, og var fritt for urenheter. En spesielt god kvalitet oppnås der det er tilsatt sekundær stabilisator. In each case, except the control, the coated material had a copper coating having a thickness of about 254 x 10 ■ mm. This corresponds to a coating rate of 25.4 x 10 ^ mm per my. The copper coating was of excellent quality, a pink color, and free from impurities. A particularly good quality is achieved where a secondary stabilizer has been added.

Mens belegningshastighetén for kontrollen er noe høyere, er det oppnådde kobberbelegg ikke av høy kvalitet og det inneholder dekomponeringsprodukter som opptrer som' mørke og grå-aktige områder på platen. While the plating speed of the control is somewhat higher, the copper plating obtained is not of high quality and contains decomposition products that appear as dark and greyish areas on the plate.

Denne sammenligning viser tydelig at kobberbelegnings-oppløsningene ifølge oppfinnelsen er stabile, gir høyverdig kobberbelegg og har tilfredsstillende avsetningshastigheter. Fagmannen vil lett forstå at den optimale mengde stabilisatorer kan variere for spesielle belegningsbad, for spesielle substrater og for spesielle belegningsbetingelser. Ved rutineforsøk kan man oppnå den beste balanse mellom avsetningshastighet, stabilitet og beleggkvalitet. This comparison clearly shows that the copper coating solutions according to the invention are stable, provide high quality copper coating and have satisfactory deposition rates. The person skilled in the art will easily understand that the optimal amount of stabilizers can vary for particular coating baths, for particular substrates and for particular coating conditions. With routine tests, the best balance can be achieved between deposition rate, stability and coating quality.

Eksempel 2 Example 2

For å vise bruken av andre stabilisatorer innenfor rammen av oppfinnelsen, ble det fremstilt ytterligere oppløsnin-ger. Disse oppløsninger er i det vesentlige de samme som opp-løsning nr. 5 i eksempel 1, bortsett fra at stabilisatorene var 0,005 g av forskjellige dialkylmerkaptotionofosfater og at de benyttes istedenfor malathion. Ved bruk av de samme prøver som vist i eksempel 1, ble det oppnådd følgende stabiliteter og belegningshastighetén In order to demonstrate the use of other stabilizers within the scope of the invention, additional solutions were prepared. These solutions are essentially the same as solution no. 5 in example 1, except that the stabilizers were 0.005 g of various dialkyl mercaptothionophosphates and that they are used instead of malathion. Using the same samples as shown in example 1, the following stabilities and coating rates were obtained

I hvert av disse forsøk hadde kobberbelegget en utmerket kvalitet, rosa farge, og det var fritt for urenheter. In each of these trials, the copper coating was of excellent quality, pink in color, and free from impurities.

Eksempel 5 Example 5

Ved bruk av den samme fremgangsmåte som beskrevet i eksempel 1, ble det fremstilt en oppløsning identisk med oppløsning nr. 1, bortsett fra at 0}005 g N-propargyloksyftalimid ble benyttet istedet for N-propargylftalimid. Resultatene tilsvarte de som ble oppnådd for oppløsning nr. 1. Using the same method as described in Example 1, a solution identical to solution No. 1 was prepared, except that 0}005 g of N-propargyloxyphthalimide was used instead of N-propargylphthalimide. The results were similar to those obtained for solution #1.

De stabiliserte kobberbelegningsoppløsninger som er beskrevet i de ovenfor angitte eksempler, er stabile i lange tidsrom ved omgivelsestemperaturer og ved forhøyede temperaturer opp til 48,9°C sammenlignet med kontrolloppløsninger uten stabilisatorene ifølge oppfinnelsen. The stabilized copper coating solutions described in the examples given above are stable for long periods of time at ambient temperatures and at elevated temperatures up to 48.9°C compared to control solutions without the stabilizers according to the invention.

Claims (8)

1. Alkalisk belegningsbad for strømløs kobberbelegning med en pH innen området 10,5 til 14, inneholdende vann, et vannoppløselig kobbersalt, et kompleksdannende middel for kobber(II)-ioner og formaldehyd, karakterisert ved at badet videre inneholder en primær stabilisator med den følgende generelle formel:1. Alkaline plating bath for electroless copper plating with a pH within the range of 10.5 to 14, containing water, a water-soluble copper salt, a complexing agent for copper (II) ions and formaldehyde, characterized in that the bath further contains a primary stabilizer with the following general formula: hvor R og R"' er like eller forskjellige og hver er en alkylgruppe med fra 1 - 12 karbonatomer, en fenyl- eller naftyl-gruppe, X, Y og Z er oksygen eller svovel og R' sammen med Z er en sur gruppe som hydrolyseres i det alkaliske bad, og der badet videre eventuelt inneholder en sekundær stabilisator med den generelle formel: hvor R'<1> er en alkylgruppe med fra 1-12 karbonatomer, en fenyl-eller naftylgruppe eller en substituert fenyl- eller naftyl-gruppe, X' er en tio-, sulfoksyd-, sulfonyl-, oksy-, karbonyl-eller iminogruppe, n er 1, 2 eller 3> eller hvor R''X' er et imid eller en heterocyklisk ring med nitrogen og karbon med eller uten oksygen. where R and R"' are the same or different and each is an alkyl group with from 1 to 12 carbon atoms, a phenyl or naphthyl group, X, Y and Z are oxygen or sulfur and R' together with Z is an acidic group which is hydrolysed in the alkaline bath, and where the bath further optionally contains a secondary stabilizer with the general formula: where R'<1> is an alkyl group with from 1-12 carbon atoms, a phenyl or naphthyl group or a substituted phenyl or naphthyl group, X' is a thio-, sulfoxide-, sulfonyl-, oxy-, carbonyl- or imino group, n is 1, 2 or 3> or where R''X' is et imide or a heterocyclic ring of nitrogen and carbon with or without oxygen. 2. Belegningsbad ifølge krav 1, karakterisert ved at X og Y er oksygen og R er en alkylgruppe med fra 1-4 karbonatomer. 2. Coating bath according to claim 1, characterized in that X and Y are oxygen and R is an alkyl group with from 1-4 carbon atoms. 3. Belegningsbad ifølge krav 1, karakteri- sert ved at den primære stabilisator er en Malathion eller Parathion. 3. Coating bath according to claim 1, charac- characterized in that the primary stabilizer is a Malathion or Parathion. 4. Belegningsbad ifølge krav 1, karakterisert ved at ZR' er en merkaptogruppe. 4. Coating bath according to claim 1, characterized in that ZR' is a mercapto group. 5. Belegningsbad ifølge krav 1, karakterisert ved at n er 1 og R''X' er en ftalimidgruppe. 5. Coating bath according to claim 1, characterized in that n is 1 and R''X' is a phthalimide group. 6. Belegningsbad ifølge krav 1, karakterisert ved at det inneholder små mengder- Malathion og N-propargylftalimid eller N-propargyloksyftalimid. 6. Coating bath according to claim 1, characterized in that it contains small amounts of Malathion and N-propargylphthalimide or N-propargyloxyphthalimide. 7. Belegningsbad ifølge krav 5, karakterisert ved at det inneholder 0,0001 til 0,001 mol Malathion og 0,0001 til 0,001 mol ftalimid pr. mol kobberioner. 7. Coating bath according to claim 5, characterized in that it contains 0.0001 to 0.001 mol Malathion and 0.0001 to 0.001 mol phthalimide per moles of copper ions. 8. Belegningsbad ifølge krav 1, karakterisert ved at det som primær stabilisator inneholder et .dialkylmerkåptotionofosfat, fortrinnsvis dimetyl-, dietyl- og di-n-propylderivat.8. Coating bath according to claim 1, characterized in that it contains a dialkyl mercaptothionophosphate, preferably a dimethyl, diethyl and di-n-propyl derivative, as primary stabilizer.
NO123/73A 1972-01-17 1973-01-11 NO135188C (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US21845972A 1972-01-17 1972-01-17

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NO135188B true NO135188B (en) 1976-11-15
NO135188C NO135188C (en) 1977-02-23

Family

ID=22815208

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NO123/73A NO135188C (en) 1972-01-17 1973-01-11

Country Status (23)

Country Link
US (1) US3790392A (en)
JP (1) JPS5519983B2 (en)
AT (1) AT320372B (en)
AU (1) AU464729B2 (en)
BE (1) BE794048A (en)
CH (1) CH599981A5 (en)
DD (1) DD107490A5 (en)
DE (1) DE2300748C3 (en)
DK (1) DK143948C (en)
ES (1) ES410652A1 (en)
FI (1) FI54500C (en)
FR (1) FR2168364B1 (en)
GB (1) GB1414896A (en)
HK (1) HK65076A (en)
IL (1) IL41331A (en)
IT (1) IT980460B (en)
LU (1) LU66834A1 (en)
NL (1) NL177330C (en)
NO (1) NO135188C (en)
PL (1) PL94000B1 (en)
RO (1) RO69172A (en)
SE (1) SE387664B (en)
ZA (1) ZA73328B (en)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL164906C (en) * 1975-08-19 1981-02-16 Philips Nv PROCESS FOR PREPARING AN AQUEOUS ALKALINE SELLER BATH.
JPS60159328U (en) * 1984-03-31 1985-10-23 株式会社 高津製作所 Oil level gauge with drain alarm
US4666858A (en) * 1984-10-22 1987-05-19 International Business Machines Corporation Determination of amount of anionic material in a liquid sample
US5626736A (en) 1996-01-19 1997-05-06 Shipley Company, L.L.C. Electroplating process
EP2639335B1 (en) 2012-03-14 2015-09-16 Atotech Deutschland GmbH Alkaline plating bath for electroless deposition of cobalt alloys
CN103225092A (en) * 2013-05-22 2013-07-31 南通鑫平制衣有限公司 Plated copper for plastics
JP6176841B2 (en) * 2013-07-19 2017-08-09 ローム・アンド・ハース電子材料株式会社 Electroless copper plating solution
US10060034B2 (en) 2017-01-23 2018-08-28 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Electroless copper plating compositions
US10655227B2 (en) 2017-10-06 2020-05-19 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Stable electroless copper plating compositions and methods for electroless plating copper on substrates
US10294569B2 (en) 2017-10-06 2019-05-21 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Stable electroless copper plating compositions and methods for electroless plating copper on substrates

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1192021B (en) * 1963-01-12 1965-04-29 Dehydag Gmbh Galvanic baths
US3457089A (en) * 1967-04-07 1969-07-22 Shipley Co Electroless copperplating
US3635758A (en) * 1969-08-04 1972-01-18 Photocircuits Corp Electroless metal deposition

Also Published As

Publication number Publication date
DD107490A5 (en) 1974-08-05
DE2300748A1 (en) 1973-07-26
ES410652A1 (en) 1976-01-01
LU66834A1 (en) 1973-03-19
FI54500B (en) 1978-08-31
BE794048A (en) 1973-07-16
PL94000B1 (en) 1977-07-30
FI54500C (en) 1978-12-11
IL41331A (en) 1975-11-25
IT980460B (en) 1974-09-30
NL7300599A (en) 1973-07-19
DK143948C (en) 1982-04-19
NO135188C (en) 1977-02-23
CH599981A5 (en) 1978-06-15
JPS5519983B2 (en) 1980-05-30
US3790392A (en) 1974-02-05
FR2168364B1 (en) 1975-03-28
DE2300748C3 (en) 1975-10-30
NL177330B (en) 1985-04-01
DK143948B (en) 1981-11-02
ZA73328B (en) 1973-10-31
NL177330C (en) 1985-09-02
GB1414896A (en) 1975-11-19
IL41331A0 (en) 1973-03-30
FR2168364A1 (en) 1973-08-31
AT320372B (en) 1975-02-10
HK65076A (en) 1976-10-22
JPS4999934A (en) 1974-09-20
AU464729B2 (en) 1975-09-04
AU5076873A (en) 1974-07-11
SE387664B (en) 1976-09-13
DE2300748B2 (en) 1975-03-13
RO69172A (en) 1980-01-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
USRE35513E (en) Cyanide-free plating solutions for monovalent metals
ES2280652T3 (en) NICKEL NON-ELECTROLYTIC CHAPADO SOLUTIONS.
US4600609A (en) Method and composition for electroless nickel deposition
NO135188B (en)
US3699012A (en) Process for the electrolytic formation of aluminum coatings on metallic surfaces in molten salt bath
JPH1121692A (en) Plating method and plated products
US4013523A (en) Tin-gold electroplating bath and process
US5562814A (en) Sludge-limiting tin and/or lead electroplating bath
ES2428497T3 (en) Non-electrolytic nickel coating solution and procedure for use
US4747916A (en) Plating bath for electrodeposition of aluminum and process for the same
US4229280A (en) Process for electrodialytically controlling the alkali metal ions in a metal plating process
JP2000503354A (en) Removal of orthophosphite ions from electroless nickel plating bath
US3698939A (en) Method and composition of platinum plating
EP0085771B1 (en) Electrodeposition of chromium and its alloys
JP7219120B2 (en) Electrolytic gold plating solution and its manufacturing method, gold plating method and gold complex
US2883288A (en) Silver plating bath
US3915718A (en) Chemical silver bath
US5194139A (en) Pretreating solution for silver plating and silver plating treating process using the solution
US3338725A (en) Novel plating process and composition
US5944879A (en) Nickel hypophosphite solutions containing increased nickel concentration
KR20190068046A (en) Immersion Tin Plating Solution Using Ionic Liquid Electrolyte materials
US3274021A (en) Stannate coating bath and method of coating aluminum with tin
JPH06145997A (en) Electroless gold plating liquid
US1841978A (en) Tin plating
US3515564A (en) Stabilization of electroless plating solutions