NO128900B - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
NO128900B
NO128900B NO00725/71A NO72571A NO128900B NO 128900 B NO128900 B NO 128900B NO 00725/71 A NO00725/71 A NO 00725/71A NO 72571 A NO72571 A NO 72571A NO 128900 B NO128900 B NO 128900B
Authority
NO
Norway
Prior art keywords
substrate
varnish
iron
carbon
layer
Prior art date
Application number
NO00725/71A
Other languages
English (en)
Inventor
E Thalmann
H Staub
Original Assignee
Lonza Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lonza Ag filed Critical Lonza Ag
Publication of NO128900B publication Critical patent/NO128900B/no

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B25/00Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
    • C30B25/005Growth of whiskers or needles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B25/00Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
    • C30B25/02Epitaxial-layer growth
    • C30B25/12Substrate holders or susceptors

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Description

Foreliggende oppfinnelse vedrører en fremgangsmåte for fremstilling av nålformige silisiumkarbidkrystaller, såkalte whiskers, ved forhøyet temperatur fra en gassfase som inneholder whiskerskomponentene, ved påvoksing av slike på et substrat som er påført et sjikt av et krystallbefordrende stoff som metaller og/eller metallforbindelser eller blandinger derav iblandet et klebemiddel.
Det er kjent at nålformige silisiumkarbid-én-krystaller, såkalte "whiskers", kan fremstilles ved termisk
spaltning av alkylklorsilaner av kvartssand og karbon eller av silisium og karbon. I "Physical Review", 143, 526, (1966) Kfr. kl. 12i-31/36
er beskrevet reduksjonen av et metylklorsilan med hydrogen ved 1350 - 1430°C, hvorunder krystaller av heksagonalt silisiumkarbid ble avleiret på et grafittsubstrat. Ved på enkelte steder å påføre krystalliseringsbefordrende stoffer, som metaller, f.eks. Cr, Al, Fe, Co, Cu, Si, på substratet kunne utbyttet forøkes. Herunder skal det imidlertid ikke dreie seg om en krystallvekst av silisiumkarbid ved den såkalte "Vapor-Liquid-Solid" -(VLS)- mekanisme.
Andre forskere hevder derimot den oppfatning ("Trans.Met.Soc.A.I.M.E", 233,105-5 fl955] ) > at whisker-veksten kan finne sted ved én VLS-mekanisme. Som oppløsningsmiddel for stoffet som skal krystallisere, tjener herunder en smeltet dråpe av et metall som opptar stoffet fra gassfasen, og efter metning avleires dette stoff på den under stoffet liggende substratkrystall. Som metall ble anvendt silisium og i henhold til de nederlandske utlegningsskrifter 66/17544 og 67/03609 jern, som var blitt påført substratet ved bestryk-ning eller påstrøing. Denne arbeidsmåte har imidlertid den ulempe at metallet som skal påføres, ikke må,overskride en viss partikkelstørrelse. Herunder dannes whiskers med meget liten diameter. For de fleste anvendelsesformål må imidlertid whiskerne oppvise en større diameter. Dessuten er det over-ordentlig vanskelig å holde det metalliske jern som skal på-føres substratoverflaten, konstant såvel lokalt som også fra charge til charge.
Det er videre fra det franske patentskrift 1 563 415 kjent å anvende substrater som inneholder jern i elementær form eller jern som jernoksyd. Et slikt substrat er eksempelvis mullitt (et aluminiumsilikat), som inneholder jernoksyd. som forurensning. Denne fremgangsmåte er beheftet med den ulempe at substratene efter relativt kort tid blir inaktive for whiskerveksten som følge av at jerninnholdet avtar.
inneholder gassfasen dessuten klor, således som det hensiktsmessig er foreslått i henhold til det franske patentskrift, så reagerer dette med jern under dannelse av jern-klorid, og substratene blir enda hurtigere inaktive.
Det er foreliggende oppfinnelses oppgave å unngå ulempene ved de kjente fremgangsmåter.
I henhold til oppfinnelsen oppnås dette ved at substratet påføres et sjikt som også inneholder karbonpartikler,
og at det som klebemiddel anvendes lakk.
Stoffer som befordrer krystall veksten, er f.eks. jern, nikkel, mangan, krom, jérnklorid, jernsulfat, jern-karbonat, jernoksyd, nikkeloksyd og manganoksyd. Fortrinnsvis anvendes jern eller jernforbindelser.
Som karbon anvendes hensiktsméssig aktivt kull.
De to ovennevnte komponenter kan anvendes i et hvilket som helst forhold. Fordelaktig anvendes de imidlertid i vektforholdet 1 r 0,5 til 1 t 2.
Som lakk kan anvendes en hvilken som helst synte-tisk lakk eller naturlakk. Eksempelvis er alkydharpikslakk, polyvinylacetatlakk, nitrocelluloselakk, polyesterlakk, olje-lakk, zaponlakk eller tjære anvendbar.
Mengden av lakk som skal anvendes er ikke kritisk
og retter seg efter hvilken konsistens sjiktet skal påføres i. Hensiktsmessig tilsettes så meget lakk at det oppstår en godt strykbar masse.
Substratene bestrykes med massen. Ved opphetning forkuller lakken og de uorganiske partikler er innleiret i et tynt kullsjikt. Dette bevirker at stoffene som befordrer krystallveksten ved innvirkning av halogenet bare langsomt avgis til gassfasen. Herved oppnås at under hele reaksjonen er det alltid i reaksjonsrommet tilstede en tilstrekkelig mengde av stoffene som befordrer krystallveksten.
Den mengde av krystallvekst-befordrende stoff, dvs. av uorganisk stoff, som skal påføres substratet, er fordelaktig 0,1 til 10 mg/cm 2 , fortrinnsvis 0,5 til 5 mg/cm 2substrat.
Som substrat kommer i betraktning karbon, korund, mullitt, keramikk osv., og fortrinnsvis anvendes grafittplater.
Eksempler
1. 5 g jernoksyd blandes med 5 g pulverformig aktivt kull og i tilslutning hertil tilsettes 50 g zaponlakk
(naturharpikslakk). Dette gir en godt strykbar masse som med en pensel påføres substratplatene av grafitt. Efter fordampning av oppløsningsmidlet får man en tynn
film.
2. 2,5 g jernoksyd og 2,5 g manganoksyd blandes med
5 g aktivt kull og dispergeres deretter i en polyesterlakk. Den godt strykbare masse ble påført substrat-
plater av grafitt.
De i henhold til eksempel 1 og 2 fremstilte substrater innsettes i en reaksjonsovn hvorunder den vertikale av-stand utgjorde til ca. 5 cm. På substratet ble påført silisiumpulver (renhet større enn 99,8 %) og aktivt kull. Reaktoren ble evakuert, og en reaksjonsgass som bestod av 72 % H2, 20 % N2 og 8 % CH4, ble ført gjennom reaktoren. Ut-gangsstoffene ble opphetet til 1500 - 1450°C. Efter ca. 8 timer ble avkjølt og reaktoren åpnet. Man fikk SiC-whiskers med midlere diameter 2^u og lengde flere millimeter.

Claims (2)

  1. <1>'Fremgangsmåte for fremstilling av whiskers ved for-høyet temperatur fra en gassfase som inneholder whiskerskomponentene, ved påvoksing av slike på et substrat som er på-ført et sjikt av et krystallbefordrende stoff som metaller og/eller metallforbindelser eller blandinger derav iblandet et klebemiddel, karakterisert ved at substratet påføres et sjikt som også inneholder karbonpartikler, og at det som klebemiddel anvendes lakk.
  2. 2. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at det krystallvekst-befordrende stoff og karbon anvendes i vektforholdet 1 : 0,5 til 1 : 2.
NO00725/71A 1970-05-14 1971-02-26 NO128900B (no)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH719170A CH525711A (de) 1970-05-14 1970-05-14 Verfahren zur Herstellung von Whiskers

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NO128900B true NO128900B (no) 1974-01-28

Family

ID=4321309

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NO00725/71A NO128900B (no) 1970-05-14 1971-02-26

Country Status (12)

Country Link
US (1) US3778296A (no)
AT (1) AT307369B (no)
BE (1) BE767030A (no)
CH (1) CH525711A (no)
DE (1) DE2122386A1 (no)
ES (1) ES388121A1 (no)
FR (1) FR2091412A5 (no)
GB (1) GB1292422A (no)
NL (1) NL7106611A (no)
NO (1) NO128900B (no)
SE (1) SE368556B (no)
SU (1) SU396862A3 (no)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4054635A (en) * 1974-09-26 1977-10-18 American Can Company Copolymer of glycidyl methacrylate and allyl glycidyl ether
USRE32843E (en) * 1984-02-09 1989-01-24 Martin Marietta Energy Systems, Inc. Silicon carbide whisker reinforced ceramic composites and method for making same
USRE34446E (en) * 1984-02-09 1993-11-16 Martin Marietta Energy Systems, Inc. Silicon carbide whisker reinforced ceramic composites and method for making same
US4543345A (en) * 1984-02-09 1985-09-24 The United States Of America As Represented By The Department Of Energy Silicon carbide whisker reinforced ceramic composites and method for making same
US4961757A (en) * 1985-03-14 1990-10-09 Advanced Composite Materials Corporation Reinforced ceramic cutting tools
US4789277A (en) * 1986-02-18 1988-12-06 Advanced Composite Materials Corporation Method of cutting using silicon carbide whisker reinforced ceramic cutting tools
US4789536A (en) * 1987-01-20 1988-12-06 J. M. Huber Corporation Process for producing silicon carbide whiskers
US4911781A (en) * 1987-05-05 1990-03-27 The Standard Oil Company VLS Fiber growth process
US5037626A (en) * 1988-11-22 1991-08-06 Union Oil Company Of California Process for producing silicon carbide whiskers using seeding agent
US5221526A (en) * 1991-05-24 1993-06-22 Advanced Industrial Materials Production of silicon carbide whiskers using a seeding component to determine shape and size of whiskers
SE507706C2 (sv) * 1994-01-21 1998-07-06 Sandvik Ab Kiselkarbidwhiskerförstärkt oxidbaserat keramiskt skär

Also Published As

Publication number Publication date
AT307369B (de) 1973-05-25
GB1292422A (en) 1972-10-11
ES388121A1 (es) 1974-02-16
US3778296A (en) 1973-12-11
FR2091412A5 (no) 1972-01-14
BE767030A (fr) 1971-11-12
NL7106611A (no) 1971-11-16
SE368556B (no) 1974-07-08
SU396862A3 (no) 1973-08-29
DE2122386A1 (de) 1971-11-25
CH525711A (de) 1972-07-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Wentorf Jr Diamond growth rates
NO128900B (no)
US3721732A (en) Method of manufacturing filamentary bodies of circular cross-section consisting of silicon carbide single crystals and filamentary bodies obtained by said method
JP2005529058A5 (no)
US4469802A (en) Process for producing sintered body of boron nitride
Deryagin et al. Epitaxial synthesis of diamond in the metastable region
Ras et al. Boron carbide coatings on diamond particles
Kim et al. The effect of temperature on the growth and properties of chemical vapor deposited ZrC films on SiC-coated graphite substrates
Motojima et al. Chemical vapour deposition of niobium diboride (NbB2)
US3773899A (en) Manufacture of silicon carbide
DeVries et al. A review of liquid phase systems pertinent to diamond synthesis
JPS62153189A (ja) 窒化ホウ素被覆ルツボおよびその製造方法
US3413090A (en) Preparation of silicon nitride whiskers
Zhou et al. Bridgman growth of new piezoelectric single crystal Sr3Ga2Ge4O14
Chen et al. Effect of cellulose additive on the silicon carbide film by decomposition and conversion of silicon nitride
DE2036604A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Sihciumcarbidwhiskers
US2839426A (en) Method of coating carbonaceous articles with silicon nitride
US2966424A (en) Crystallization of boron phosphide
RU2586140C1 (ru) Химический способ получения искусственных алмазов
Hojo et al. Molybdenum carbide powders obtained from the vapor phase reaction of the MoCl4-CH4-H2 system
JP3631976B2 (ja) 炭化珪素単結晶の育成法
JPH0477399A (ja) SiCウイスカーの製造方法
JPS5938165B2 (ja) 立方晶窒化ほう素の製造法
JPH1135308A (ja) 乱層構造窒化ホウ素(βtBN)の製造方法
JPH0784357B2 (ja) 窒化ホウ素被覆ルツボ