NO127943B - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- NO127943B NO127943B NO00116/68A NO11668A NO127943B NO 127943 B NO127943 B NO 127943B NO 00116/68 A NO00116/68 A NO 00116/68A NO 11668 A NO11668 A NO 11668A NO 127943 B NO127943 B NO 127943B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- selenium
- antimony
- arsenic
- alloy
- amount
- Prior art date
Links
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 239000011669 selenium Substances 0.000 claims description 34
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 33
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 31
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 23
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 229910001370 Se alloy Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910001245 Sb alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910000967 As alloy Inorganic materials 0.000 claims 2
- PCTMTFRHKVHKIS-BMFZQQSSSA-N (1s,3r,4e,6e,8e,10e,12e,14e,16e,18s,19r,20r,21s,25r,27r,30r,31r,33s,35r,37s,38r)-3-[(2r,3s,4s,5s,6r)-4-amino-3,5-dihydroxy-6-methyloxan-2-yl]oxy-19,25,27,30,31,33,35,37-octahydroxy-18,20,21-trimethyl-23-oxo-22,39-dioxabicyclo[33.3.1]nonatriaconta-4,6,8,10 Chemical compound C1C=C2C[C@@H](OS(O)(=O)=O)CC[C@]2(C)[C@@H]2[C@@H]1[C@@H]1CC[C@H]([C@H](C)CCCC(C)C)[C@@]1(C)CC2.O[C@H]1[C@@H](N)[C@H](O)[C@@H](C)O[C@H]1O[C@H]1/C=C/C=C/C=C/C=C/C=C/C=C/C=C/[C@H](C)[C@@H](O)[C@@H](C)[C@H](C)OC(=O)C[C@H](O)C[C@H](O)CC[C@@H](O)[C@H](O)C[C@H](O)C[C@](O)(C[C@H](O)[C@H]2C(O)=O)O[C@H]2C1 PCTMTFRHKVHKIS-BMFZQQSSSA-N 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 23
- YQRYRVCUJXRYIF-UHFFFAOYSA-N [Se].[Sb].[As] Chemical compound [Se].[Sb].[As] YQRYRVCUJXRYIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 18
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 10
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- QLNFINLXAKOTJB-UHFFFAOYSA-N [As].[Se] Chemical compound [As].[Se] QLNFINLXAKOTJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- OQRNKLRIQBVZHK-UHFFFAOYSA-N selanylideneantimony Chemical compound [Sb]=[Se] OQRNKLRIQBVZHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910002058 ternary alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 3
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003708 ampul Substances 0.000 description 2
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- 210000002435 tendon Anatomy 0.000 description 2
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000005194 fractionation Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- -1 selenide compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/08—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
- G03G5/082—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic and not being incorporated in a bonding material, e.g. vacuum deposited
- G03G5/08207—Selenium-based
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/043—Photoconductive layers characterised by having two or more layers or characterised by their composite structure
- G03G5/0433—Photoconductive layers characterised by having two or more layers or characterised by their composite structure all layers being inorganic
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
Lysfølsomt element.
Den foreliggende oppfinnelse vedrører et lysfølsom element omfattende et fotoledende, isolerende lag av en glassaktig legering som inneholder arsen, antimon og selen.
I xerografi er det vanlig å danne et elektrostatisk, latent bilde på et legeme eller en plate som består av et ledende underlag, som for eksempel en metallflate hvorpå det er anbrakt et fotoledende lag. En passende plate for dette formål er et metallegeme belagt med et lag selen-glass. En slik plate utmerker seg ved at den er istand til-å motta en tilstrekkelig elektrisk ladning og selektivt utlade en slik ladning når. den eksponeres for et lysmøn-ster, og som rent generelt er meget følsomt overfor lys i det blå-grønne spektralområde.
Selen-glass er for en vesentlig del blitt standard i kommer-siell xerografi, men mange av dets egenskaper kan forbedres ved tilsetning av legeringselementer som forsterker slike egenskaper som spektralfølsomhet,'lysfølsomhet, varmestabilitet, o.s.v. I U.S-patentskrifter nr. 2.803-542 og 2.822.300 er beskrevet forde-lene ved å modifisere selen-glass ved tilsetning av passende mengder arsen for å frembringe et bredere område av spektralfølsomhet, øke den totale fotografiske hastighet og generelt forbedre det fotoledende lags stabilitet.
Selvom selen-glass viser en tilfredsstillende følsomhet er det behov for fotoledere som oppviser øket følsomhet og spektral-reaksjonsevne utover det som er vanlig for selen-glass, ved hurtig-metoder som krever en plate som har en meget høy grad' av følsomhet og pankromatisme på grunn av den kortere tidsfaktor ved en hurti-gere syklus.
Et trinn i denne retning omfatter tilsetning av antimon i passende mengder til selen, slik som foreslått i svensk patentskrift nr. 318.193. Glassaktige legeringer av antimon og selen er blitt funnet å frembringe en lysfølsom sammensetning som har en føl-somhetsfaktor på opptil 12 ganger større enn den til selen-glass, og i tillegg hertil en relativ reaksjonsevne på opp til 3 ganger den til selen-glass i det blå-grønne spektralområde. Selvom antimon-selensystemet har øket xerografisk hastighet, lider det av en ulempe ved at der er en relativ mangel på varmestabilitet med hensyn til krystallisering.
Det lysfølsomme element ifølge oppfinnelsen kjennetegnes
ved at arsenmengden er 0,5~50 atom-nrosent, antimonmengden 0,1-22 atom-prosent og selenmengden minst 40 atom-prosent og at legeringen eventuelt er tilsatt et halogen.
Disse legeringer fremstilles på en tilsvarende måte som de glassaktige, fotoledende legeringer av arsen-selensystemet, slik som beskrevet i de ovennevnte U. S.-patentskrifter nr. 2.803-542
og 2.822.300 samt svensk patentskrift nr. 318.193. Legeringene ifølge oppfinnelsen gir en lysfølsom komposisjon som har en følsom-hetsfaktor på opptil 12 ganger den til selen-glass med øket varmestabilitet som kan reguleres slik at. den blir større enn selen-glassetSi- Et foretrukket område på høyst 44,9 atom-prosent (.43,7 vektsprosent).arsen, høyst 13 atom-prosent (18,8 vektsprosent) antimon og minst 55 atom-prosent selen er funnet å gi kombinasjo-nen av optimal varmestabilitet og følsomhet. Forholdet arsen til
antimon, nødvendig for opprettholdelse av maksimal varmestabili-
tet, bør være i området fra omtrent 2 til 4 atom-prosent arsen eller mer for hver 1 atom-prosent antimon. Arsen i en mengde på
minst 0,5 atom-prosent (0,6 vektsprosent) er nødvendig for å gi merkbar varmestabilitet, mens antimon i en mengde på minst 0,1 atom-prosent (0,15 vektsprosent) er nødvendig for å gi den ønskete følsomhet eller spektralreaktivite.t.
Fordelen ved denne forbedrete lysfølsomme komposisjon vil fremgå av det etterfølgende eksempel av oppfinnelsen, spesielt sett i forbindelse med den medfølgende tegning, hvori:
Fig. 1 viser en del av det ternære diagram for antimon, ar-
sen og selen.
Fig. 2 viser en serie spektralfølsomhetskurver for en gruppe fotoledere som inneholder en ternær legering ifølge den forelig-
gende oppfinnelse.
I fig.. 1 illustrerer det ternære diagram områdene hvori legeringen av antimon-arsen-selen oppviser de ønskete fotoledende egenskaper og varmestabilitet. Området under kurven A-B-C-D representerer sammensetninger som har en foretrukket varmestabilitet. Området under kurven E-F-G-H, som også omslutter området under A-B-C-D, omfatter ytterligere sammensetninger som har en noe min-
dre varmestabilitet, men noe mer ønskete xerografiske egenskaper enn den under kurven A-B-C-D.
Prikkete linjer J og K representerer grensene for minstemeng-der av henholdsvis arsen og antimon som er tilstede i den foretrukne ternære legering. Som vist ved det ternære diagram, bør ar-senet være tilstede i en mengde på minst 0,5 atom-prosent (0,6 vektsprosent), og mengden antimon bør minst være 0,1 atom-prosent (0,15 vektsprosent).
Arsen-antimon-selen-glasslegeringene ifølge foreliggende oppfinnelse kan fremstilles ved hjelp av hvilken som helst egnet teknikk. Typisk teknikk er vanlig enkeltkilde-pådampning eller "flash"-pådampning. I begge disse typer pådampningsteknikk -er det foretrukket at det finner sted en for-reaksjon mellom bestanddelene før
. pådampning, noe som resulterer i selenidforbindelser med mer like damptrykk enn elementbestanddelene. Utgangslegeringene fremstilles ved avveiing av elementært arsen, antimon og selen som anbringes vakuumtett i en kvartsglassampulle. Materialene oppvarmes til 600°C i flere timer hvoretter de luftkjøles til romtemperatur. Av-hengig av sammensetningen blir den avkjølte legering fullstendig
polykrystallinsk, en blanding av krystallinsk og amorf fase, eller fullstendig amorf. Den for-reagerte legering blir så malt i kule-mølle til en partikkelstørrelse mindre enn omtrent 1 mm i diameter.
I enkeltkilde-pådampning plasseres en passende mengde for-reagert legering i en oppvarmet, grunn, flat digel eller skip som holdes i et vakuumkammer under vilkårlig passende vakuumbetingelser, for eksempel fra omkring 10 til-10 millimeter kvikksølv.
Digelen kan være fremstilt av hvilket som helst inert materiale som kvarts, molybden, eller keramisk forete metaller. Arsen-antimon-selenlegeringen holdes nå en temperatur som sikrer tilstrekkelig damp for avsetning innen en rimelig tid. Denne temperatur overskrider vanligvis legeringens smeltepunkt. En total pådamp-ningstid på omkring 20 minutter ved en temperatur på omkring 400°C under de ovennevnte vakuumbetingelser resulterer i dannelsen av et legeringslag på omkring 20 til 40 mikrons tykkelse.
Et underlag bæres over digelen som oppvarmes, og på hvilket underlag arsen-antimon-selenlegeringen pådampes. Underlaget holdes på en relativt lav temperatur. Passende underlagstemperaturer lig-ger mellom 60 og 150°C.
En annen typisk pådampningsmetode er "flash"-pådampning under vakuumbetingelser i likhet med de betingelser som anvendes under enkeltkilde-pådampning op hvori den for-reagerte arsen-antimon-selenlegering som har en partikkelstørrelse mindre enn 1 millimeter i diameter, selektivt slippes ned i en oppvarmet, inert digel som holdes på en temperatur på omkring 450-660°C. Dampene som dannes ved oppvarming av blandingen, pådampes et underlag båret over digelen. Legeringen slippes ned i digelen med en slik hastighet at dannelsen av en dam av legering i digelen unngås, hvorved proble-met med fraksjonert fordampning minskes. Underlaget holdes på en temperatur i området 60 til 150°C. Denne fremgangsmåte fortsettes inntil det har-dannet seg en ønsket tykkelse av glassaktig arsen-antimon-selenfotole.der på underlaget.
Legeringene ifølge.den foreliggende oppfinnelse kan bekvemt dannes på hvilket som helst underlag, ledende eller isolerende. Det kan være en metallplate av for eksempel messing, aluminium, . gull, platina, stål eller liknende, kan ha hvilken som helst passende tykkelse, være stivt eller elastisk, i form av et ark, en bane, en sylinder eller liknende og kan- også være belagt med et tynt lag plastmateriale. Underlaget kan også omfatte slike materialer som metallisert papir, plast eller plast-belagt med et tynt belegg av aluminium eller kobberjodid, eller glass belagt med et tynt lag av delvis transparent kobberjodid, tinnoksyd eller gull.
I visse tilfeller, etter dannelsen av legeringen, kan underlaget sløyfes om ønskes.
Tykkelsen av laget av arsen-antimon-selen-fotolederen er ikke kritisk. Laget kan være så tynt som omtrent 1 mikron eller så tykt som 300 mikron eller mer, men for de fleste anvendelsesformål vil tykkelsen generelt være fra 20 til 80 mikron.
Ifølge en annen utførelses.form for den foreliggende oppfinnelse kan den fotoledende legering være tilsatt et halogen, som for eksempel jod, klor eller brom for å redusere restspenning og generelt forbedre dens elektriske egenskaper. Tilsetningsmidlet er vanligvis tilstede i en mengde fra omkring 10 deler pr. million og opp til 2 vektsprosent.
Ifølge en ytterligere utførelsesform for oppfinnelsen kan arsen-antimon-selenlegeringen anvendes i en lagdelt utforming. Ty-piske utforminger omfatter et relativt tynt lag på omkring 0,1
til 5 mikron arsen-antimon-selenlegering over et relativt tykkere lag selen-glass. En annen typisk struktur omfatter en legering av arsen-selen, slik som for eksempel den som er beskrevet i U.S.-patentskrift nr. 2.822.300, som kan anvendes istedenfor selen i den ovennevnte to-lags utforming. Det skal forståes at begge lag av to-lags strukturer kan være tilsatt et egnet halogen for å bedre de elektriske egenskaper. Strukturer som har mer enn to fotoledende lag omfattes også av den foreliggende oppfinnelse. Lag av arsen-antimon-selenlegering kan også dannes på grenseflaten av et transparent underlag og avbildes ved eksponering gjennom underlaget. I denne utførelsesform kan arsen-antimon-selenlegeringen anvendes alene eller i forbindelse med andre fotoledende lag, slik som de ovenfornevnte. I.de følgende eksempler vil den foreliggende oppfinnelse bli ytterligere detaljert belyst med hensyn til den fremgangsmåte for fremstilling av et lysfølsomt element av arsen-antimon-selenlegering.
Eksempel I.
En utgangslegering ble fremstilt ved å veie av elementært arsen, antimon og selen i et forhold av 18 vektsprosent arsen, 1 vektsprosent antimon og 81 vektsprosent selen, og blandingen ble plassert vakuumtett i en kvartsglassampulle. Blandingen ble oppvarmet til omtrent 600°C i ca. 2 timer i en vuggeovn hvoretter den ble avkjølt til romtemperatur. Den resulterende legering ble en størknet polykrystallinsk grunnmasse av sammenblandete faser som ble malt i kulemølle til et relativt findelt materiale med diameter på mindre enn 1 mm.
Eksempel II.
En 40 mikrons film av arsen-antimon-selenglass som omfattet omtrent 1 vektsprosent antimon, 18 vektsprosent arsen og 8l vektsprosent selen ble fremstilt som følger: Den for-reagerte legering i eksempel I ble plassert i et grunt, flatt, 5 x 10 cm keramikkbe-lagt metallskip. Den partikkelformete legering ble fordelt jevnt over skipets overflate. Skipet ble plassert i et vakuumkammer. En ca. 10 x 13 cm aluminiumplate ble renset gr.undig og hengt opp i vakuumkammeret ca. 30 cm over skipet og ble holdt på en temperatur av omtrent 65°C med en vannkjølt nlate. Kammeret ble evakuert til et vakuum på ca. 10 ^ mm Hg. Arsen-antimon-selenlegeringen ble på-dampet på aluminiumunderlaget ved oppvarming av skipet til omtrent 400°C i omtrent 20 minutter. Skipet ble avkjølt til romtemperatur, vakuumet ble brutt og den arsen-antimon-selenbelagte aluminiumplate ble fjernet fra vakuumkammeret.
På grunn av fraksjonering under pådampingen inneholdt den • ytre overflate av platens legeringslag, dannet i eksempel II, et større prosentinnhold antimon enn det indre av legeringsfilmen, idet filmoverflaten nærmest underlaget inneholdt minst antimon. Disse bestemmelser ble foretatt ved hjelp av elektronsonde.
Eksempel III.
Platen fremstilt i eksempel II ble deretter brukt til fremstilling av et bilde ved xerografi. Platen ble koronaladet til et posisivt potensial på omtrent 300 volt og ble deretter eksponert for en 100 watts wolframlyskilde■i en avstand av ca. 40 cm i løpet av et halvt sekund under dannelse av et latent, elektrostatisk bilde på platens overflate. Det latente bilde ble deretter fremkalt ved å drysse (kaskade-teknikk) elektroskopiske markeringspartikler over hele overflaten som inneholdt bildet. Bildet ble overført til et papirark og ble smeltet til arket ved oppvarming for å gjøre det permanent. Ved denne fremgangsmåte oppnådde man en utmerket repro-duksjon av originalen.
Eksempel IV.
Et 25 mikrons lag av glassaktig arsen-antimon-selenlegering på et underlag ble dannet som følger: En for-reagert legering som omfattet ca. 12 vektsprosent antimon, 28 vektsprosent arsen og 60 vektsprosent selen ble fremstilt ved fremgangsmåten ifølge eksempel I. Den for-reagerte legering ble plassert i en messingtrakt som inneholdt en kobbers,]'akt beregnet på å levere den part ikkelformete legering ned i en kvartsdigel som var plassert under trakten. Kvartsdigelen ble omgitt av en motstandsoppvarmingsinnretning som var beregnet på å holde digelen på en temperatur av omtrent 600°C. Et aluminiumunderlag ble plassert på en vannkjølt plate som ble holdt på en temperatur av ca. 70°C. Aluminiumunderlaget og platen ble plassert ca. 30 cm over kvartsdigelen. En glassklokke ble plassert over trakten, digelen og underlaget, og ble evakuert til et vakuum på ca. 10 ^ mm Hg. Kvartsdigelen ble oppvarmet til omtrent 600°C hvoretter en luke under sjakten som fører til kvartsdigelen ble åpnet slik at en liten prøve arsen-antimon-selenlegering ble tillatt å falle ned i kvartsdigelen. Legeringsblandingen ble for-dampet hurtig og bevirket at damper av arsen, antimon og selen kom-mer i kontakt med det op<p>hengte aluminiumunderlag. Denne fremgangsmåte fortsatte i ca. 2 timer hvorunder det ble dannet et 25 mikrons lag av glassaktig antimon-arsen-selenlegering som inneholdt ca. 12 vektsprosent antimon, 28 vektsprosent arsen og 60 vektsprosent selen, på aluminiumunderlaget. Digelen ble så avkjølt til romtemperatur, volumet ble brutt og det belagte underlag fjernet fra kammeret.
Eksempel V.
Legeringen fremstilt i eksempel IV ble brukt til avbildning på den måte som er beskrevet i eksempel III. Ved denne fremgangs-måtte oppnådde man en utmerket kopi av originalen.
Eksempel VI- X.
En serie på fire plater ble fresmtilt for sammenlikning av spektralfølsomhet. Alle fire platene besto av et 40 mikrons lag av en fotoleder på et aluminiumunderlag. Plate nr. 1 inneholdt et 40 mikron lag selenglass fremstilt i henhold til fremgangsmåten som er beskrevet i U.S.-patentskrift nr. 2.970.906. Plate nr. 2 inneholdt et 40 mikrons lag av en legering omfattende 18 vektsprosent arsen og 82 vektsprosent selen tilsatt 1000 deler pr. million jod dannet ved fremgangsmåten beskrevet i U.S.-<p>atentskrift 3-312.548. Plate nr. 3 inneholdt en glassaktig legering av 14 vektsprosent antimon og 86 vektsprosent selen fremstilt ved fremgangsmåten beskrevet i svensk patentskrift nr. 318.193- Plate nr. 4 inneholdt den ternære legering beskrevet i eksempel I, omfattende ca. 1 vektsprosent antimon, 18 vektsprosent arsen og 81 vektsprosent selen som var tilsatt omtrent 1000 deler pr. million jod. Spektralfølsomhets-kurvene for hver av platene 1-4 ble så tegnet inn og vist i fig. 2.
I fig. 2 er spektralfølsomhetskurvene for de fire plater tegnet inn ved forskjellige bølgelengder. E representerer energien i erg/cm p krevet for å utlade platen ca. 25$ og I er en proporsjona-litetsfaktor, idet spektralfølsomheten er proporsjonal med den in-verse verdi av den energi som. kreves for å utlade platen ca. 25$. Hver av platene ble undersøkt ved de forskjellige bølgelengder ved
å lade hver plate til et opprinnelig feltpotensial på ca. 15 volt pr, mikron og deretter eksponere hver plate ved den spesielle bøl-12 2
gelengde for omtrent 2 x 10 fotoner pr. cm sekund. Som vist ved kurvene oppviser arsen-antimon-selenplaten ifølge den foreliggende oppfinnelse ved 4000 Ångstrøm omtrent den dobbelte spektralfølsom-het som den for selenglass og arsen-selenlegeringen, og betraktelig større følsomhet enn den for den binære antimon-selenlegering.
Som det vil sees av ovenstående har arsen-antimon-selenlege-ringene fremstilt ifølge den foreliggende oppfinnelse en utstrakt spektralfølsomhet hele veien ut til omkring 7000 Ångstrøm og for-høyet følsomhet i de kortere bølgelengdeområder. I tillegg til dette har disse legeringer en forbedret varmestabilitet som ikke kan oppnås med antimon-selenfotoledere, og oppviser ved foretrukne forhold arsen til antimon en varmestabilitet som overskrider den til selenglass.
Selvom spesielle komponenter og forhold er blitt nevnt i den foregående beskrivelse av den foretrukne utførelsesform for den foreliggende oppfinnelse, kan andre egnete materialer og andre me-toder, slik som den som er nevnt ovenfor, anvendes med liknende resultater. Dessuten kan andre materialer tilsettes for å synergi-sere, forbedre eller på annen måte modifisere egenskapene til disse plater.
Claims (6)
1. Lysfølsomt element omfattende et fotoledende, isolerende lag av en glassaktig legering som inneholder arsen, antimon og selen, karakterisert ved at arsenmengden er 0,5-50 atom-prosent, antimonmengden 0,1-22 atom-prosent og selenmengden minst 40 atom-prosent og at legeringen eventuelt er tilsatt et halogen .
2. Element i samsvar med krav 1, karakterisert ved at arsenmengden er høyst 44,9 atom-prosent, antimonmengden er høyst 13 atom-prosent og selenmengden minst 55 atom-prosent.
3. Element i samsvar med krav 1 eller 2, karakterisert ved at arsenmengden uttrykt i atomprosent er minst den doble av antimonmengden.
4. Element i samsvar med krav 1, karakterisert ved at halogenet er tilstede i en mengde på fra 10 deler pr. million til 2 vektsprosent.
5- Element i samsvar med krav 1,karakterisert ved at den glassaktige legering av arsen, antimon og selen begrenses av arealet under kurven ABCD i fig. 1 i den medfølgende tegning.
6. Element i samsvar med krav 1, karakterisert ved at den glassaktige legering av arsen, antimon og selen er begrenset av arealet under kurven EPGH i fig. 1 i den medfølgende tegning.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US60912667A | 1967-01-13 | 1967-01-13 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO127943B true NO127943B (no) | 1973-09-03 |
Family
ID=24439451
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO00116/68A NO127943B (no) | 1967-01-13 | 1968-01-11 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3524745A (no) |
BE (1) | BE709132A (no) |
CH (1) | CH495573A (no) |
DE (1) | DE1608200B2 (no) |
ES (1) | ES349235A1 (no) |
FR (1) | FR1550902A (no) |
GB (1) | GB1209971A (no) |
LU (1) | LU55231A1 (no) |
NL (1) | NL160663C (no) |
NO (1) | NO127943B (no) |
SE (1) | SE328189B (no) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3867143A (en) * | 1969-01-17 | 1975-02-18 | Canon Kk | Electrophotographic photosensitive material |
US3904408A (en) * | 1969-11-14 | 1975-09-09 | Canon Kk | Electrophotographic member with graded tellurium content |
JPS5249716B1 (no) * | 1971-07-08 | 1977-12-19 | ||
US4097277A (en) * | 1973-01-31 | 1978-06-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Photosensitive member having layer of vinyl carbazole polymer containing antimony chalcogen compound of antimony and sulfur |
JPS536035A (en) * | 1976-07-07 | 1978-01-20 | Yamanashi Denshi Kogyo Kk | Electrophotographic photosensitive element |
DE3322494A1 (de) * | 1983-06-22 | 1985-01-10 | Valentina Fedorovna Leningrad Kokorina | Optisches chalkogenidglas |
US4780386A (en) * | 1986-11-28 | 1988-10-25 | Xerox Corporation | Selenium alloy treatment |
US4822712A (en) * | 1988-04-08 | 1989-04-18 | Xerox Corporation | Reduction of selenium alloy fractionation |
US4859411A (en) * | 1988-04-08 | 1989-08-22 | Xerox Corporation | Control of selenium alloy fractionation |
US5002734A (en) * | 1989-01-31 | 1991-03-26 | Xerox Corporation | Processes for preparing chalcogenide alloys |
US10191186B2 (en) | 2013-03-15 | 2019-01-29 | Schott Corporation | Optical bonding through the use of low-softening point optical glass for IR optical applications and products formed |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2803541A (en) * | 1953-05-29 | 1957-08-20 | Haloid Co | Xerographic plate |
US2803542A (en) * | 1955-07-26 | 1957-08-20 | Haloid Co | Xerographic plate |
US3041166A (en) * | 1958-02-12 | 1962-06-26 | Xerox Corp | Xerographic plate and method |
US2962376A (en) * | 1958-05-14 | 1960-11-29 | Haloid Xerox Inc | Xerographic member |
US3355289A (en) * | 1962-05-02 | 1967-11-28 | Xerox Corp | Cyclical xerographic process utilizing a selenium-tellurium xerographic plate |
DE1250737B (no) * | 1963-07-08 | |||
US3312547A (en) * | 1964-07-02 | 1967-04-04 | Xerox Corp | Xerographic plate and processes of making and using same |
US3427157A (en) * | 1964-12-28 | 1969-02-11 | Xerox Corp | Xerographic process utilizing a photoconductive alloy of thallium in selenium |
US3372294A (en) * | 1966-07-29 | 1968-03-05 | Gen Electrodynamics Corp | Camera tube target including porous photoconductive layer comprising antimony trisulfide, free antimony and copper phthalocyanine |
-
1967
- 1967-01-13 US US609126A patent/US3524745A/en not_active Expired - Lifetime
-
1968
- 1968-01-08 LU LU55231D patent/LU55231A1/xx unknown
- 1968-01-09 BE BE709132D patent/BE709132A/xx unknown
- 1968-01-09 SE SE00234/68A patent/SE328189B/xx unknown
- 1968-01-10 DE DE1968R0047763 patent/DE1608200B2/de active Granted
- 1968-01-11 GB GB0616/68A patent/GB1209971A/en not_active Expired
- 1968-01-11 NO NO00116/68A patent/NO127943B/no unknown
- 1968-01-12 ES ES349235A patent/ES349235A1/es not_active Expired
- 1968-01-12 FR FR1550902D patent/FR1550902A/fr not_active Expired
- 1968-01-12 CH CH44568A patent/CH495573A/de not_active IP Right Cessation
- 1968-01-15 NL NL6800625.A patent/NL160663C/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1209971A (en) | 1970-10-28 |
ES349235A1 (es) | 1969-09-16 |
DE1608200B2 (de) | 1977-02-24 |
NL6800625A (no) | 1968-07-15 |
NL160663B (nl) | 1979-06-15 |
BE709132A (no) | 1968-07-09 |
NL160663C (nl) | 1979-11-15 |
FR1550902A (no) | 1968-12-20 |
CH495573A (de) | 1970-08-31 |
US3524745A (en) | 1970-08-18 |
SE328189B (no) | 1970-09-07 |
LU55231A1 (no) | 1969-08-12 |
DE1608200A1 (de) | 1971-02-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3312548A (en) | Xerographic plates | |
NO127943B (no) | ||
US3884688A (en) | Photosensitive element employing a vitreous bismuth-selenium film | |
US2822300A (en) | Photoconductive material | |
US3723105A (en) | Process for preparing selenium tellurium alloys | |
JPH01315766A (ja) | 電子写真用像形成部材の製造方法 | |
US2863768A (en) | Xerographic plate | |
US3498835A (en) | Method for making xerographic plates | |
US3966470A (en) | Photo-conductive coating containing Ge, S, and Pb or Sn | |
JPS636865B2 (no) | ||
US4011079A (en) | Method for producing an electrophotographic recording material | |
US3490903A (en) | Alloys of antimony and selenium used in photoconductive elements | |
US4513072A (en) | Dual layer electrophotographic recording material containing a layer of selenium, arsenic and halogen, and thereabove a layer of selenium and tellurium | |
JPS60252353A (ja) | 電子写真感光体用セレン,セレン感光膜およびそれらの製造方法 | |
JPS58134643A (ja) | 光導電部材 | |
JPS59223436A (ja) | セレンテルル合金電子写真用感光体の製造方法 | |
JPS58168052A (ja) | 電子写真用感光体およびその製造方法 | |
JPS60252354A (ja) | 電子写真感光体用セレン,セレン感光膜およびそれらの製造法 | |
JPH0372152B2 (no) | ||
JPS58132244A (ja) | 光導電部材 | |
JPS60252355A (ja) | 電子写真感光体用セレン,セレン感光膜およびそれらの製法 | |
JPS60140354A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPS60144752A (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
JPS60166954A (ja) | 電子写真用セレン感光体 | |
JPS59137308A (ja) | セレン材料の精製方法 |