NL8900363A - Geintegreerde schakeling. - Google Patents
Geintegreerde schakeling. Download PDFInfo
- Publication number
- NL8900363A NL8900363A NL8900363A NL8900363A NL8900363A NL 8900363 A NL8900363 A NL 8900363A NL 8900363 A NL8900363 A NL 8900363A NL 8900363 A NL8900363 A NL 8900363A NL 8900363 A NL8900363 A NL 8900363A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- line
- read
- shift register
- parts
- transistor
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 7
- 238000010276 construction Methods 0.000 claims description 2
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 abstract description 10
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 7
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 108091006146 Channels Proteins 0.000 description 1
- 108010075750 P-Type Calcium Channels Proteins 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C27/00—Electric analogue stores, e.g. for storing instantaneous values
- G11C27/04—Shift registers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C19/00—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
- G11C19/18—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using capacitors as main elements of the stages
- G11C19/182—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using capacitors as main elements of the stages in combination with semiconductor elements, e.g. bipolar transistors, diodes
- G11C19/184—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using capacitors as main elements of the stages in combination with semiconductor elements, e.g. bipolar transistors, diodes with field-effect transistors, e.g. MOS-FET
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Shift Register Type Memory (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Stabilization Of Oscillater, Synchronisation, Frequency Synthesizers (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Dram (AREA)
- Pulse Circuits (AREA)
- Electronic Switches (AREA)
Description
N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken "Geïntegreerde schakeling".
De uitvinding heeft betrekking op een geïntegreerde schakeling met een, aan een oppervlak van een halfgeleiderlichaam aangebrachte vertragingslijn, omvattende een reeks van signaalopslagcapaciteiten, een ingangslijn voor het toevoeren van signalen en een uitleeslijn voor het uitlezen van de opgeslagen signalen, een reeks van transistorparen die elk met een signaalopslagcapaciteit zijn geassocieerd en waarvan een transistor, de inleestransistor, een schakelaar vormt tussen de capaciteit en de inleeslijn, en de andere transistor, de uitleestransistor, een schakelaar vormt tussen de capaciteit en de uitleeslijn, en omvattende een digitaal schuifregister met een aantal uitgangen die verbonden zijn met sturingselektroden van de transistoren.
Een dergelijke inrichting, die ondermeer gebruikt kan worden voor de verwerking van videosignalen, bijvoorbeeld T.V. signalen, is bekend uit het artikel "Signalverarbeitung mit analogen Speichern in der Fernsehtechnik" van G. Brand, gepubliceerd in Fernseh- & Kinotechnik Bd 30, nr.3 (1976), pg. 81/85. In Fig. 5b van deze publicatie is schematisch een vertragingslijn weergegeven, waarbij de opslagcapaciteiten samen met de bijbehorende transistorparen en het schuifregister in een lineaire configuratie achter elkaar liggen. De signalen die opgeslagen moeten worden, worden aangeboden via de ingangslijn. Door middel van het schuifregister en de door het schuifregister gestuurde inleestransistors, worden de signaalopslagcapaciteiten achtereenvolgens met de ingangslijn verbonden. Als het signaal is opgeslagen wordt de verbinding tussen de ingangslijn en de capaciteiten weer verbroken, waardoor de tijdelijk op de ingangslijn aangeboden signaalwaarde op de capaciteit aanwezig blijft gedurende een gewenste vertragingstijd. Bij het uitlezen worden de uitleestransistoren de een na de ander door het schuifregister in geleiding gebracht, waardoor de opgeslagen signalen na elkaar op de uitleeslijn verschijnen en via een versterker kunnen worden uitgelezen.
De grootte van het (spannings)signaal op de uitleeslijn wordt, in analogie met dynamische geheugens, bepaald door de verhouding van de signaalopslagcapaciteit en de parasitaire capaciteit van de uitleeslijn. Vanwege de storingsmarges die in acht genomen dienen te worden, is het gewenst dat het verschil tussen de hoogste waarde en de laagste waarde van de signalen zo groot aogelijk is. Om deze reden wordt de parasitaire capaciteit van de uitleeslijn zo klein mogelijk gehouden.
Een doel van de uitvinding is de schakeling zodanig te ontwerpen dat een lage parasitaire capaciteit van de uitleeslijn wordt verkregen.
In de bekende schakeling, zoals in Fig. 5b van de hiervoor genoemde publicatie is weergegeven, zijn twee, parallelle vertragingslijnen aanwezig, die elk door een afzonderlijk schuifregister worden gestuurd. Deze schuifregisters nemen in het algemeen vrij veel ruimte in het siliciumkristal in beslag. Een verder doel van de uitvinding is derhalve, de schakeling zodanig te ontwerpen dat het aogelijk is om, in het geval van twee vertragingslijnen, met slechts een schuifregister te volstaan.
Een geïntegreerde schakeling volgens de uitvinding is daardoor gekenmerkt dat de vertragingslijn tenminste twee, naast elkaar gelegen, delen omvat, met, op het oppervlak gezien, een gemeenschappelijk, centraal gelegen, deel van de uitleeslijn, aan weerszijden waarvan de signaalopslagcapaciteiten en de bijbehorende transistorparen en delen van het schuifregister zijn gelegen, zodanig dat aan elke kant van het genoemde deel van de uitleeslijn, de signaalopslagcapaciteiten met de bijbehorende transistorparen van een van de delen van de vertragingslijn gelegen is tussen de uitleeslijn en het bijbehorende deel van het schuifregister.
Door aan weerszijden van het genoemde centrale deel van de uitleeslijn signaalopslagcapaciteiten aan te brengen, wordt een verkleining van de lengte van de uitleeslijn, en daarmee een verlaging van de parasitaire capaciteit verkregen in vergelijking met de situatie waarin de geheugencellen allen achter elkaar zijn gelegen.
Een belangrijk uitvoeringsvorm is daardoor gekenmerkt, dat twee, aan weerszijden van het centraal gelegen deel van de uitleeslijn gelegen uitleestransistoren via een gemeenschappelijk contact met het centraal gelegen deel van de uitleeslijn zijn verbonden. Doordat de aan weerszijden gelegen geheugencellen gemeenschappelijke contacten hebben, wordt in dit deel van de vertragingslijn het aantal contacten gehalveerd waardoor een aanzienlijke reductie van de parasitaire capaciteit wordt verkregen.
Een verdere uitvoeringsvorm, die het voordeel heeft dat voor twee vertragingslijnen slechts een schuifregister vereist is, is daardoor gekenmerkt dat, behalve de genoemde eerste vertragingslijn, een tweede vertragingslijn aanwezig is waarvan de opbouw analoog is aan die van de eerste vertragingslijn, en die eveneens tenminste twee delen omvat die aan weerszijden van de twee delen van de eerste vertragingslijn zijn gerangschikt waarbij de genoemde delen van het schuifregister gemeenschappelijk zijn voor de eerste en de tweede vertragingslijn.
De uitvinding zal nader worden toegelicht aan de hand van enkele uitvoeringsvoorbeelden en de bijgaande schematische tekening waarin
Fig. 1 het blokschema van een vertragingslijn van het type waarop de uitvinding betrekking heeft toont;
Fig. 2 het elektrisch schakelschema van een uitvoeringsvorm van deze vertragingslijn geeft;
Fig. 3 het schakelschema van een trap van het schuifregister van de inrichting volgens Fig. 1 geeft;
Fig. 4 schematisch in bovenaanzicht het ontwerp van een vertragingslijn volgens de uitvinding geeft;
Fig. 5 in bovenaanzicht een deel van een eerste gerealiseerde uitvoering van een dergelijke vertragingslijn volgens de uitvinding geeft;
Fig. 6 een doorsnede langs de lijn VI-VI in Fig. 5 geeft;
Fig. 7 een doorsnede langs de lijn VII-VII in Fig. 5 geeft;
Fig. 8 schematisch het ontwerp van een tweede uitvoeringsvorm van een vertragingslijn volgens de uitvinding weergeeft;
De vertragingslijn volgens Fig. 1 is in principe bekend uit Fig. 5b van de hiervoor genoemde publicatie. De informatie wordt opgeslagen op de bovenste plaat (electrode) van de capaciteiten C1( C2, C3 enz. waarvan de onderste plaat aan een referentiespanning is gelegd. De informatie wordt toegevoerd via de ingangslijn 1 en uitgelezen via de uitgangslijn 2. De informatie-bevattende platen van de condensatoren C^, C2, C3 enz. zijn daartoe via een schakelaar verbonden met de ingangslijn en via de schakelaar T2 met de uitgangslijn. De schakelaar en T2 worden gevormd door MOS-transistoren waarvan de aan- en afvoerelektroden een stroomweg vormen tussen de informatie-bevattende capaciteitselektroden enerzijds en de lijnen 1 en 2 anderzijds. De transistoren en T2 worden in het hierna volgende met inleestransistor resp. uitleestransistor aangeduid. De poortelektroden 3/4 van de transistoren T.|/T2 worden gestuurd door een schuifregister 5, via welk een signaal van links naar rechts wordt getransporteerd en via de verbindingen 7 de transistoren Tj, T2 sequentieel geleidend en niet-geleidend gemaakt. Het transport van het signaal I wordt gestuurd door een of meer klokken 0. Het schuifregister kan op, op zichzelf bekende wijze zijn opgebouwd als een keten van dynamische flip-flops 6. Zoals verder uit Fig. 1 blijkt, zijn telkens een inleestransistor van een eerste groep, en de uitleestransistor T2 van de daaropvolgende groep van 2 transistoren met een gemeenschappelijke uitgang 7 van het schuifregister verbonden, waardoor een geheugencel eerst uitgelezen (gereset) en vervolgens bij hetzelfde signaal I op de verbinding 7 opnieuw ingeschreven kan worden, waarbij de informatie op de condensator opgeslagen blijft totdat een nieuwe puls I de verbinding 7 passeert. Uiteraard zijn ook andere aansluitingen mogelijk. Voor de werking van de schakeling wordt verwezen naar de hiervoor genoemde publicatie.
Fig. 2 geeft een meer gedetailleerde uitvoering van de schakeling volgens Fig. 1. De transistoren T-j en T2 worden gevormd door n-kanaaltransistoren, terwijl de capaciteiten gevormd worden door p-kanaaltransistoren waarvan de aan- en afvoerelektroden zijn kortgesloten en de aan referentiespanning gelegde plaat van de condensator vormen, terwijl de poortelektroden de andere, de informatiehoudende plaat vormen. Opgemerkt wordt dat in het schema volgens Fig. 2 de p-kanaaltransistoren door een ringetje op de poortelektrode van de n-kanaaltransistoren zijn onderscheiden.
Het schuifregister 5 is opgebouwd uit een aantal trappen die door 4 klokken 01f 02, 03 en 04 worden gestuurd. Elke deeltrap bevat 4, door de klokken gestuurde transistoren, n.l. de p-type kanaaltransistoren en T^2 aan de poorten waarvan de klokken 0^ resp. 02 worden aangelegd, en de n-kanaaltransistoren T13 en T14 aan de poorten waarvan de klokken 03 resp. 04 worden aangelegd. De aanvoerelektroden van de n-kanaaltransistoren en zijn met de negatieve voedingslijn 8, waar de voeding Vgg aan wordt aangelegd verbonden; de aanvoerelektroden van de p-kanaaltransistoren zijn met de positieve voedingslijn 9 met de spanning verbonden. Tussen de transistoren T^/T^ en de transistoren T11/T14 bevinden zich omkeertrappen 10 resp. 11 die in een reeks met elkaar zijn verbonden. Het ingangssignaal wordt aan de omkeertrap aan de linkerkant van de tekening toegevoerd en op, door de klokspanningen φ1, 02, $3 en $4 gecontroleerde wijze naar rechts getransporteerd. Elke omkeertrap 10,11 kan, zoals in Fig. 3 is weergegeven uit een C-MOS inverter bestaan. De omkeertrap 10 bevat de p-kanaaltransistor en de n-kanaaltransistor T^g; die omkeertrap 11 bevat de p-kanaaltransistor en de n-kanaaltransistor T^g. De ingangen van de inverters worden gevormd door de gemeenschappelijke poortaansluitingen, en de uitgangen door het knooppunt 13 van de afvoer van T^/T^ en de afvoer van de n-kanaaltransistoren T-jg/T-ig·
Bij het uitlezen van de opgeslagen informatie wordt de lading, geheel of ten dele, overgezet op de uitleeslijn (bitlijn) 2. De grootte van het signaal hangt af van de grootte van de parasitaire uitleescapaciteit. Ter verkrijging van een zo groot mogelijk uitgangssignaal is het gewenst, de vertragingslijn zodanig te ontwerpen dat de parasitaire capaciteit zo laag mogelijk is,
Fig. 4 geeft het ontwerp (lay-out) schema van een uitvoering waarin de lengte van de uitleeslijn veel kleiner is dan de lengte van het schuifregister 5. Hierdoor wordt een aanzienlijke reductie verkregen van de parasitaire bitlijncapaciteit in vergelijking met uitvoeringen waarin de bitlijnlengte vergelijkbaar is met de lengte van het schuifregister 5. In Fig. 4 zijn voor overeenkomstige onderdelen dezelfde verwijzingscijfers gebruikt als in Fig. 1-3. De reeks van capaciteiten C^, C2, C3 enz. met de bijbehorende in- en uitleestransistoren T^/T2 bevat tenminste 2 deelrijen a en b, die naast elkaar zijn gelegen en zich, op het oppervlak gezien, evenwijdig aan elkaar en naast elkaar uitstrekken. Centraal tussen de deelrijen a en b bevindt zich de uitleeslijn 2 (of althans een deel daarvan), aan weerszijden waarvan zich de capaciteiten Cj^ van de deelrijen a en b en de bijbehorende in- en uitleestransistoren T-j en T2 bevinden. Aan de, van het centrale deel van de uitleeslijn 2 afgekeerde zijde van de deelrijen a en b zijn de bijbehorende delen 5a resp. 5b van het schuifregister 5 gelegen, zodanig dat de capaciteiten met de bijbehorende in- en uitleestransistoren T|/T2 tussen het centrale deel 2 van de bitlijn en de bijbehorende delen van het schuifregister i 5a/5b zijn gelegen. De delen 5a en 5b van het schuifregister zijn door een verbinding 14 met elkaar in serie verbonden. De ingangslijn 1 kan, zoals in Fig. 4 is weergegeven U-vormig om het centrale deel 2 van de bitlijn zijn aangebracht.
Zoals uit Fig. 4 kan worden opgemaakt is de lengte van het deel van de bitlijn 2 in het weergegeven deel van de vertragingslijn ongeveer slechts de helft van die van de inleeslijn en/of het schuifregister, waardoor de aanzienlijke reductie van de bitlijncapaciteit wordt verkegen. Een verdere reductie kan verkregen worden door, zoals schematisch in Fig. 4 is weergegeven, de aan weerszijden van de bitlijn 2 gelegen uitleestransistoren T2 twee aan twee via een gemeenschappelijk contact met de bitlijn te verbinden.
Fig. 5 geeft een bovenaanzicht van een deel van een gerealiseerde uitvoering. De figuur laat 20 geheugencapaciteiten geheel of ten dele zien, gegroepeerd in twee evenwijdige deelrijen a en b. De bijbehorende trappen van het schuifregister 5 zijn slechts schematisch weergegeven. De inrichting is vervaardigd in CM0S-technologie met een poly-kristallijne siliciumlaag en een aluminiuralaag. Het siliciumlichaam is een p-type substraat dat t.b.v. de p-kanaaltransistoren is voorzien van laaggedoteerde n-type gedoteerde oppervlaktegebieden (wells) waarin de p-kanaaltransistoren worden gevormd, zoals de capaciteiten C^.
Fig. 7 geeft een doorsnede ter plaatse van de capaciteiten C^, langs de lijn VII-VII in Fig. 5. In deze figuur is het p-type substraat 21 aangegeven dat voorzien is van de zwakgedoteerde p-zone (well) 22. De capaciteitselektroden, waarop de informatie-representerende lading wordt opgeslagen, wordt gevormd door de poly-kristallijne siliciumvlakken 23 (poly), die door het dunne poortdiëlectricum 20 van bijvoorbeeld siliciumoxyde van het onderliggende halfgeleiderlichaam zijn gescheiden. Tussen de poly-elektroden 23 bevinden zich de verbindingen 7 tussen het schuifregister 5 en de in- en uitleestransistoren T^/T2· De verbindingen 7 zijn eveneens in poly uitgevoerd. In het n-gebied 22 zijn, op zelf- registrerende wijze t.o.v. de poly-layer 23 en 7, p-type zones 24 en 25 aangebracht, dit de aan- en afvoerzones van de, de capaciteiten vormende transistoren (zie Fig. 2) vormen. Deze zones worden tijdens bedrijf kortgesloten door middel van een inversiekanaal 26 onder de elektroden 23, dat verkregen kan worden door de aanvoerzones aan een positieve spanning, bijvoorbeeld Vd(J te leggen. Deze spanning wordt toegevoerd via een Al-lijn 27 (zie Fig. 5 en 7) die via contactopeningen in de oxidelaag 20 met de p-zones 24 is verbonden. Het n-type gebied is met de p-type zones 24 kortgesloten door de lijn 27, die via verdere contactvensters in de oxidelaag 20 en de daaronder liggende n-type oppervlaktezones 28, die met het n-type gebied 22 zijn verbonden.
Opgemerkt wordt dat in het onderhavige uitvoeringsvoorbeeld alleen de p-type zones 24 met de Al-lijn 27 zijn verbonden. Met voordeel echter kunnen ook de p-type zones 25 via een extra contactvenster met de Al-lijn worden verbonden. Verder wordt opgemerkt dat de delen in Fig. 5 die gerasterd zijn, de actieve oppervlaktegebieden van het halfgeleiderlichaam voorstellen, terwijl de overige, de niet-gerasterde delen de gebieden voorstellen van het halfgeleiderlichaam die door dik veldoxyde zijn bedekt.
Fig. 6 geeft een dwarsdoorsnede van de inrichting langs een deel van de uitleeslijn 2 langs de lijn VI-VI in Fig. 5. Het oppervlak van het halfgeleiderlichaam 21 onder de uitleeslijn 2 is praktisch geheel bedekt met dik veldoxyde 29. Ter plaatse van de contacten vertoont de oxydelaag 29 openingen 30 ter plaatse waarvan n-type zones 31 zich aan het oppervlak van het halfgeleiderlichaam 21 uitstrekken die via de openingen in de oxydelaag met de uitleeslijn 2 zijn verbonden. De zones 31 vormen elk een gemeenschappelijke zone (elektrode) van aan weerszijden van de uitleeslijn 2 gelegen uitleestransistor T2. Het aantal contacten (met contactvensters en zones 31) bedraagt daardoor slechts de helft van het aantal geheugenelementen waardoor een aanzienlijke reductie van de capaciteit van de uitleeslijn wordt verkregen.
In het bovenaanzicht volgens Fig. 5 is verder de inleeslijn 1 (evenals de uitleeslijn 2 in Al uitgevoerd) weergegeven aan weerszijden van de uitleeslijn 2. Via de inleestransistor T^ is de inleeslijn 1 verbonden met de poly-elektroden 23 die ter plaatse van de contacten 32 met de inleestransistoren zijn verbonden.
Fig. 8 geeft, op analoge wijze als Fig. 4, een schema voor het ontwerp van een uitvoering met twee vertragingslijnen voor het vertragen van twee signaalstromen. De signalen worden toegevoerd aan de ingangslijnen 1 en 1', in de tekening met 1^ resp. In2 aangegeven.
De eerste vertragingslijn omvat, behalve de deellijnen a en b die overeenstemmen met de deellijnen a en b in Fig. 4, nog een derde deellijn, onderaan de Figuur, en voorzien van het verwijzingsteken c.
De deellijnen a en b worden gestuurd door de delen 5a en 5b van het schuifregister 5. Het deel c wordt gestuurd door het in serie met de delen 5a en 5b geschakelde deelregister 5c. De andere vertragingslijn, waarvan overeenkomstige onderdelen van dezelfde verwijzingstekens maar met accent zijn voorzien als de eerste vertragingslijn, omvat eveneens 12 geheugencellen, gegroepeerd in 3 evenwijdige deellijnen a', b' en c'. Het tweede ingangssignaal I2 wordt toegevoerd aan de ingangslijn 1', en uitgelezen aan de uitgangslijn 2'. De deellijnen a' en b' kunnen, gezien vanuit de deellijnen a en b, aan de andere kant naast de deellijnen 5a en 5b van het schuifregister worden gelocaliseerd en ook door de deellijnnen 5a en 5b worden gestuurd. De delen a' en b' van de tweede vertragingslijn hebben in principe dezelfde configuratie als de delen a en b van de eerste vertragingslijn met een gemeenschappelijk, centraal gelegen deel van de uitleeslijn 2', aan weerszijden hiervan de cellen b' en c' en vervolgens de delen 5b en 5c van het schuifregister. Het deel c van de eerste vertragingslijn is aan de andere kant van het deel 5c van het schuifregister gelegen en kan hierdoor gestuurd worden.
De in Fig. 8 weergegeven configuratie heeft, naast het voordeel dat de parasitaire capaciteit van de uitleest!jden 2 en 2 laag is, bovendien het voordeel van een ruimtebesparing aangezien voor 2 vertragingslijnen met slechts een schuifregister volstaan kan worden.
Het zal duidelijk zijn dat de uitvinding niet is beperkt tot de hier gegeven uitvoeringsvoorbeelden, maar dat binnen het kader van de uitvinding voor de vakman nog veel variaties mogelijk zijn
Claims (3)
1. Geïntegreerde schakeling met een, aan een oppervlak van een halfgeleiderlichaam aangebrachte vertragingslijn, omvattende een reeks van signaalopslagcapaciteiten, een ingangslijn voor het toevoeren van signalen en een uitleeslijn voor het uitlezen van de opgeslagen signalen, een reeks van transistorparen die elk met een signaalopslagcapaciteit zijn geassocieerd en waarvan een transistor, de inleestransistor, een schakelaar vormt tussen de capaciteit en de inleeslijn, en de andere transistor, de uitleestransistor, een schakelaar vormt tussen de capaciteit en de uitleeslijn, en omvattende een digitaal schuifregister met een aantal uitgangen die verbonden zijn met sturingselektroden van de transistoren, met het kenmerk dat de vertragingslijn tenminste twee, naast elkaar gelegen, delen omvat, met, op het oppervlak gezien, een gemeenschappelijk, centraal gelegen, deel van de uitleeslijn, aan weerszijden waarvan de signaalopslagcapaciteiten en de bijbehorende transistorparen en delen van het schuifregister zijn gelegen, zodanig dat aan elke kant van het genoemde deel van de uitleeslijn,de signaalopslagcapaciteiten met de bijbehorende transistoren van een van de delen van de vertragingslijn gelegen is tussen de uitleeslijn en het bijbehorende deel van het schuifregister.
2. Geïntegreerde schakeling volgens conclusie 1, met het kenmerk dat twee, aan weerszijden van het centraal gelegen deel van de uitleeslijn gelegen uitleestransistor via een gemeenschappelijk contact met het centraal gelegen deel van de uitleeslijn zijn verbonden.
3. Geïntegreerde schakeling volgens conclusie 1 of 2, met het kenmerk dat, behalve de genoemde, eerste vertragingslijn, een tweede vertragingslijn aanwezig is waarvan de opbouw analoog is aan die van de eerste vertragingslijn, en die eveneens tenminste twee delen omvat die aan weerszijden van de twee delen van de eerste vertragingslijn zijn gerangschikt waarbij de genoemde delen van het schuifregister gemeenschappelijk zijn voor de eerste en de tweede vertragingslijn.
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8900363A NL8900363A (nl) | 1989-02-15 | 1989-02-15 | Geintegreerde schakeling. |
US07/417,976 US5012143A (en) | 1989-02-15 | 1989-10-04 | Integrated delay line |
AT90200297T ATE114865T1 (de) | 1989-02-15 | 1990-02-09 | Integrierte schaltung. |
EP90200297A EP0383387B1 (en) | 1989-02-15 | 1990-02-09 | Integrated circuit |
DE69014342T DE69014342T2 (de) | 1989-02-15 | 1990-02-09 | Integrierte Schaltung. |
IE49090A IE66139B1 (en) | 1989-02-15 | 1990-02-12 | Integrated circuit |
KR1019900001773A KR0154334B1 (ko) | 1989-02-15 | 1990-02-14 | 집적 회로 |
JP2031641A JP3049360B2 (ja) | 1989-02-15 | 1990-02-14 | 集積回路 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8900363A NL8900363A (nl) | 1989-02-15 | 1989-02-15 | Geintegreerde schakeling. |
NL8900363 | 1989-02-15 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL8900363A true NL8900363A (nl) | 1990-09-03 |
Family
ID=19854134
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL8900363A NL8900363A (nl) | 1989-02-15 | 1989-02-15 | Geintegreerde schakeling. |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5012143A (nl) |
EP (1) | EP0383387B1 (nl) |
JP (1) | JP3049360B2 (nl) |
KR (1) | KR0154334B1 (nl) |
AT (1) | ATE114865T1 (nl) |
DE (1) | DE69014342T2 (nl) |
IE (1) | IE66139B1 (nl) |
NL (1) | NL8900363A (nl) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03219719A (ja) * | 1990-01-24 | 1991-09-27 | Mitsubishi Electric Corp | 遅延回路及びそれを用いた半導体装置 |
FR2667688B1 (fr) * | 1990-10-05 | 1994-04-29 | Commissariat Energie Atomique | Circuit d'acquisition ultrarapide. |
DE4242201A1 (de) * | 1992-12-15 | 1994-06-16 | Philips Patentverwaltung | Schaltungsanordnung zum Verzögern eines Nutzsignals |
US5453710A (en) * | 1994-05-10 | 1995-09-26 | Analog Devices, Inc. | Quasi-passive switched-capacitor (SC) delay line |
DE19503782A1 (de) * | 1995-02-04 | 1996-08-08 | Philips Patentverwaltung | Verzögerungsschaltung |
DE19604929A1 (de) * | 1996-02-10 | 1997-08-14 | Philips Patentverwaltung | Kammfilteranordnung |
US5841296A (en) * | 1997-01-21 | 1998-11-24 | Xilinx, Inc. | Programmable delay element |
US6133751A (en) | 1998-08-05 | 2000-10-17 | Xilinx, Inc. | Programmable delay element |
DE19718617A1 (de) * | 1997-05-02 | 1998-11-05 | Philips Patentverwaltung | Verzögerungsanordnung |
US6046620A (en) * | 1997-12-18 | 2000-04-04 | Advanced Micro Devices, Inc. | Programmable delay line |
US6222409B1 (en) * | 1999-07-16 | 2001-04-24 | University Of Utah Research Foundation | Variable analog delay line for analog signal processing on a single integrated circuit chip |
JP2006140825A (ja) * | 2004-11-12 | 2006-06-01 | Sanyo Electric Co Ltd | トラップフィルタ |
JP2007097019A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-12 | Sanyo Electric Co Ltd | 遅延回路及びそれを用いた映像信号処理回路 |
US20090033389A1 (en) | 2007-08-03 | 2009-02-05 | Abadeer Wagdi W | Micro-phase adjusting and micro-phase adjusting mixer circuits designed with standard field effect transistor structures |
US7932552B2 (en) * | 2007-08-03 | 2011-04-26 | International Business Machines Corporation | Multiple source-single drain field effect semiconductor device and circuit |
US7814449B2 (en) * | 2007-10-17 | 2010-10-12 | International Business Machines Corporation | Design structure for multiple source-single drain field effect semiconductor device and circuit |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS503744A (nl) * | 1973-04-25 | 1975-01-16 | ||
US3986176A (en) * | 1975-06-09 | 1976-10-12 | Rca Corporation | Charge transfer memories |
US4714924A (en) * | 1985-12-30 | 1987-12-22 | Eta Systems, Inc. | Electronic clock tuning system |
JP2603252B2 (ja) * | 1987-04-30 | 1997-04-23 | キヤノン株式会社 | 撮像装置 |
-
1989
- 1989-02-15 NL NL8900363A patent/NL8900363A/nl not_active Application Discontinuation
- 1989-10-04 US US07/417,976 patent/US5012143A/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-02-09 AT AT90200297T patent/ATE114865T1/de not_active IP Right Cessation
- 1990-02-09 EP EP90200297A patent/EP0383387B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-02-09 DE DE69014342T patent/DE69014342T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-02-12 IE IE49090A patent/IE66139B1/en not_active IP Right Cessation
- 1990-02-14 KR KR1019900001773A patent/KR0154334B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1990-02-14 JP JP2031641A patent/JP3049360B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69014342D1 (de) | 1995-01-12 |
EP0383387A1 (en) | 1990-08-22 |
EP0383387B1 (en) | 1994-11-30 |
US5012143A (en) | 1991-04-30 |
DE69014342T2 (de) | 1995-06-14 |
IE900490L (en) | 1990-08-15 |
ATE114865T1 (de) | 1994-12-15 |
KR900013508A (ko) | 1990-09-05 |
IE66139B1 (en) | 1995-12-13 |
JPH02241280A (ja) | 1990-09-25 |
JP3049360B2 (ja) | 2000-06-05 |
KR0154334B1 (ko) | 1998-12-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL8900363A (nl) | Geintegreerde schakeling. | |
US7332717B2 (en) | Infrared sensor and infrared sensor array | |
US4658377A (en) | Dynamic memory array with segmented bit lines | |
US4125854A (en) | Symmetrical cell layout for static RAM | |
US4012757A (en) | Contactless random-access memory cell and cell pair | |
US4366559A (en) | Memory device | |
US4144590A (en) | Intermediate output buffer circuit for semiconductor memory device | |
GB1370449A (en) | Sensing apparatus and arrays | |
JPH10500536A (ja) | 電子装置 | |
US4090257A (en) | Dual mode MNOS memory with paired columns and differential sense circuit | |
US4651306A (en) | Dynamic memory | |
US4151610A (en) | High density semiconductor memory device formed in a well and having more than one capacitor | |
US4109284A (en) | Self-scanning photo-sensitive circuits | |
US3862435A (en) | Digital shift register | |
US4402063A (en) | Flip-flop detector array for minimum geometry semiconductor memory apparatus | |
USRE33694E (en) | Dynamic memory array with segmented bit lines | |
US4250568A (en) | Capacitor semiconductor storage circuit | |
US3993897A (en) | Solid state imaging apparatus | |
EP0647894A2 (en) | A circuit for providing a sink for majority charge carriers | |
US5526305A (en) | Two-transistor dynamic random-access memory cell | |
US4908797A (en) | Dynamic memory array with quasi-folded bit lines | |
USRE32236E (en) | One device field effect transistor (FET) AC stable random access memory (RAM) array | |
JPS608555B2 (ja) | 半導体一時記憶装置 | |
JP2002197866A (ja) | 表示用ドライバic | |
EP0097920A2 (en) | Dynamic reference potential generating circuit arrangement |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A1B | A search report has been drawn up | ||
BV | The patent application has lapsed |