NL8600638A - Inrichting voor het ten opzichte van elkaar uitrichten van een masker en een substraat. - Google Patents

Inrichting voor het ten opzichte van elkaar uitrichten van een masker en een substraat. Download PDF

Info

Publication number
NL8600638A
NL8600638A NL8600638A NL8600638A NL8600638A NL 8600638 A NL8600638 A NL 8600638A NL 8600638 A NL8600638 A NL 8600638A NL 8600638 A NL8600638 A NL 8600638A NL 8600638 A NL8600638 A NL 8600638A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
grating
substrate
mask
alignment
radiation
Prior art date
Application number
NL8600638A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Original Assignee
Philips Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Nv filed Critical Philips Nv
Priority to NL8600638A priority Critical patent/NL8600638A/nl
Priority to US06/887,684 priority patent/US4749278A/en
Priority to EP87200310A priority patent/EP0237102B1/en
Priority to DE8787200310T priority patent/DE3782441T2/de
Priority to JP62052221A priority patent/JPH0758680B2/ja
Publication of NL8600638A publication Critical patent/NL8600638A/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7049—Technique, e.g. interferometric
NL8600638A 1986-03-12 1986-03-12 Inrichting voor het ten opzichte van elkaar uitrichten van een masker en een substraat. NL8600638A (nl)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8600638A NL8600638A (nl) 1986-03-12 1986-03-12 Inrichting voor het ten opzichte van elkaar uitrichten van een masker en een substraat.
US06/887,684 US4749278A (en) 1986-03-12 1986-07-21 Arrangement for aligning a mask and a substrate relative to each other
EP87200310A EP0237102B1 (en) 1986-03-12 1987-02-25 Arrangement for aligning a mask and a substrate relative to each other
DE8787200310T DE3782441T2 (de) 1986-03-12 1987-02-25 Vorrichtung fuer die ausrichtung einer maske gegenueber einem substrat.
JP62052221A JPH0758680B2 (ja) 1986-03-12 1987-03-09 マスクと基板を互に位置合せする装置

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8600638A NL8600638A (nl) 1986-03-12 1986-03-12 Inrichting voor het ten opzichte van elkaar uitrichten van een masker en een substraat.
NL8600638 1986-03-12

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL8600638A true NL8600638A (nl) 1987-10-01

Family

ID=19847701

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL8600638A NL8600638A (nl) 1986-03-12 1986-03-12 Inrichting voor het ten opzichte van elkaar uitrichten van een masker en een substraat.

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4749278A (ja)
EP (1) EP0237102B1 (ja)
JP (1) JPH0758680B2 (ja)
DE (1) DE3782441T2 (ja)
NL (1) NL8600638A (ja)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5225892A (en) * 1990-02-05 1993-07-06 Canon Kabushiki Kaisha Positional deviation detecting method
JP2862307B2 (ja) * 1990-02-05 1999-03-03 キヤノン株式会社 位置ずれ検出方法
US5638211A (en) 1990-08-21 1997-06-10 Nikon Corporation Method and apparatus for increasing the resolution power of projection lithography exposure system
US5719704A (en) 1991-09-11 1998-02-17 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
US6252647B1 (en) 1990-11-15 2001-06-26 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
US6967710B2 (en) 1990-11-15 2005-11-22 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US6885433B2 (en) * 1990-11-15 2005-04-26 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US6710855B2 (en) * 1990-11-15 2004-03-23 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US6897942B2 (en) * 1990-11-15 2005-05-24 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US5274420A (en) * 1992-04-20 1993-12-28 International Business Machines Corporation Beamsplitter type lens elements with pupil-plane stops for lithographic systems
US5837169A (en) * 1996-11-19 1998-11-17 Northern Telecom Limited Creation of bragg reflactive gratings in waveguides
TWI282909B (en) * 1999-12-23 2007-06-21 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and a method for manufacturing a device
KR100391983B1 (ko) * 2001-07-03 2003-07-22 삼성전자주식회사 반도체 노광 장비의 정렬 시스템
DE102009041405B4 (de) * 2009-09-14 2020-08-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Maskeninspektionsmikroskop mit variabler Beleuchtungseinstellung
US10048132B2 (en) * 2016-07-28 2018-08-14 Kla-Tencor Corporation Simultaneous capturing of overlay signals from multiple targets

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3748019A (en) * 1968-03-02 1973-07-24 Agfa Gevaert Ag Photographic recording and reproducing method and apparatus utilizing spatial carrier frequencies
NL7606548A (nl) * 1976-06-17 1977-12-20 Philips Nv Werkwijze en inrichting voor het uitrichten van een i.c.-patroon ten opzichte van een halfgelei- dend substraat.
FR2450468A1 (fr) * 1979-02-27 1980-09-26 Thomson Csf Systeme optique d'alignement de deux motifs et photorepeteur mettant en oeuvre un tel systeme
US4390279A (en) * 1979-07-12 1983-06-28 Nippon Kogaku K. K. Alignment device in an IC projection exposure apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
US4749278A (en) 1988-06-07
EP0237102A1 (en) 1987-09-16
JPH0758680B2 (ja) 1995-06-21
DE3782441T2 (de) 1993-05-27
EP0237102B1 (en) 1992-11-04
JPS62224025A (ja) 1987-10-02
DE3782441D1 (de) 1992-12-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0393775B1 (en) Apparatus for projecting a mask pattern on a substrate
NL8600639A (nl) Werkwijze voor het ten opzichte van elkaar uitrichten van een masker en een substraat en inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze.
KR100306471B1 (ko) 마스크패턴투영장치
NL8600638A (nl) Inrichting voor het ten opzichte van elkaar uitrichten van een masker en een substraat.
US6507388B2 (en) Interferometric alignment system for use in vacuum-based lithographic apparatus
JP4563986B2 (ja) 実質的に透過性のプロセス層にマークを備える基板、デバイス製造方法
US5004348A (en) Alignment device
US5072126A (en) Promixity alignment using polarized illumination and double conjugate projection lens
JP4023695B2 (ja) アラインメント装置及びこの装置が設けられているリソグラフィ装置
NL9000503A (nl) Apparaat en werkwijze voor het afbeelden van een maskerpatroon op een substraat.
NL8601278A (nl) Inrichting voor het detekteren van een vergrotingsfout in een optisch afbeeldingssysteem.
EP0243520A1 (en) Interferometric mask-wafer alignment
NL1036179A1 (nl) Lithographic apparatus and method.
NL9100410A (nl) Afbeeldingsapparaat voorzien van een focusfout- en/of scheefstandsdetectie-inrichting.
JPH065663B2 (ja) 半導体露光方法及びその装置
US6864956B1 (en) Dual phase grating alignment marks
JPH02272305A (ja) 位置合わせ装置及び位置合わせ方法
KR0183658B1 (ko) 표적의 정밀위치 측정장치 및 그 측정방법
KR960007444B1 (ko) 색수차의 영향을 제거한 투영식 정렬장치 및 그 정렬방법
JPH0548932B2 (ja)
JPS6376428A (ja) 半導体露光装置
JP3230093B2 (ja) 投影露光装置
KR100362927B1 (ko) 정렬방법
JPH08162399A (ja) 露光装置
JPH08335550A (ja) 半導体露光方法とその装置

Legal Events

Date Code Title Description
A1B A search report has been drawn up
BV The patent application has lapsed