DE3782441T2 - Vorrichtung fuer die ausrichtung einer maske gegenueber einem substrat. - Google Patents

Vorrichtung fuer die ausrichtung einer maske gegenueber einem substrat.

Info

Publication number
DE3782441T2
DE3782441T2 DE8787200310T DE3782441T DE3782441T2 DE 3782441 T2 DE3782441 T2 DE 3782441T2 DE 8787200310 T DE8787200310 T DE 8787200310T DE 3782441 T DE3782441 T DE 3782441T DE 3782441 T2 DE3782441 T2 DE 3782441T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
aligning
mask
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE8787200310T
Other languages
English (en)
Other versions
DE3782441D1 (de
Inventor
Der Werf Jan Evert Van
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Gloeilampenfabrieken NV filed Critical Philips Gloeilampenfabrieken NV
Application granted granted Critical
Publication of DE3782441D1 publication Critical patent/DE3782441D1/de
Publication of DE3782441T2 publication Critical patent/DE3782441T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7049—Technique, e.g. interferometric
DE8787200310T 1986-03-12 1987-02-25 Vorrichtung fuer die ausrichtung einer maske gegenueber einem substrat. Expired - Fee Related DE3782441T2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8600638A NL8600638A (nl) 1986-03-12 1986-03-12 Inrichting voor het ten opzichte van elkaar uitrichten van een masker en een substraat.

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3782441D1 DE3782441D1 (de) 1992-12-10
DE3782441T2 true DE3782441T2 (de) 1993-05-27

Family

ID=19847701

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE8787200310T Expired - Fee Related DE3782441T2 (de) 1986-03-12 1987-02-25 Vorrichtung fuer die ausrichtung einer maske gegenueber einem substrat.

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4749278A (de)
EP (1) EP0237102B1 (de)
JP (1) JPH0758680B2 (de)
DE (1) DE3782441T2 (de)
NL (1) NL8600638A (de)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5225892A (en) * 1990-02-05 1993-07-06 Canon Kabushiki Kaisha Positional deviation detecting method
JP2862307B2 (ja) * 1990-02-05 1999-03-03 キヤノン株式会社 位置ずれ検出方法
US5638211A (en) 1990-08-21 1997-06-10 Nikon Corporation Method and apparatus for increasing the resolution power of projection lithography exposure system
US5719704A (en) 1991-09-11 1998-02-17 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
US6252647B1 (en) 1990-11-15 2001-06-26 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
US6967710B2 (en) 1990-11-15 2005-11-22 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US6885433B2 (en) * 1990-11-15 2005-04-26 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US6710855B2 (en) * 1990-11-15 2004-03-23 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US6897942B2 (en) * 1990-11-15 2005-05-24 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US5274420A (en) * 1992-04-20 1993-12-28 International Business Machines Corporation Beamsplitter type lens elements with pupil-plane stops for lithographic systems
US5837169A (en) * 1996-11-19 1998-11-17 Northern Telecom Limited Creation of bragg reflactive gratings in waveguides
TWI282909B (en) * 1999-12-23 2007-06-21 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and a method for manufacturing a device
KR100391983B1 (ko) * 2001-07-03 2003-07-22 삼성전자주식회사 반도체 노광 장비의 정렬 시스템
DE102009041405B4 (de) * 2009-09-14 2020-08-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Maskeninspektionsmikroskop mit variabler Beleuchtungseinstellung
US10048132B2 (en) * 2016-07-28 2018-08-14 Kla-Tencor Corporation Simultaneous capturing of overlay signals from multiple targets

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3748019A (en) * 1968-03-02 1973-07-24 Agfa Gevaert Ag Photographic recording and reproducing method and apparatus utilizing spatial carrier frequencies
NL7606548A (nl) * 1976-06-17 1977-12-20 Philips Nv Werkwijze en inrichting voor het uitrichten van een i.c.-patroon ten opzichte van een halfgelei- dend substraat.
FR2450468A1 (fr) * 1979-02-27 1980-09-26 Thomson Csf Systeme optique d'alignement de deux motifs et photorepeteur mettant en oeuvre un tel systeme
US4390279A (en) * 1979-07-12 1983-06-28 Nippon Kogaku K. K. Alignment device in an IC projection exposure apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
NL8600638A (nl) 1987-10-01
US4749278A (en) 1988-06-07
EP0237102A1 (de) 1987-09-16
JPH0758680B2 (ja) 1995-06-21
EP0237102B1 (de) 1992-11-04
JPS62224025A (ja) 1987-10-02
DE3782441D1 (de) 1992-12-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3776805D1 (de) Verfahren fuer die ausrichtung einer maske gegenueber einem substrat sowie vorrichtung fuer die benutzung dieses verfahrens.
DE3761722D1 (de) Vorrichtung zur zerstaeubung einer fluessigkeit.
DE3782441D1 (de) Vorrichtung fuer die ausrichtung einer maske gegenueber einem substrat.
DE3769158D1 (de) Optoelektronische vorrichtung zum oberflaechigen einbau.
DE3685709D1 (de) Substratstruktur zur herstellung einer halbleiterverbundanordnung.
DE3784796D1 (de) Verfahren zum verbinden eines halbleiterchips mit einem substrat.
DE3777635D1 (de) Anlage zur bildung einer duennschicht.
DE3574835D1 (de) Vorrichtung zur kupplung eines ersten glieds an ein zweites glied.
DE3873444D1 (de) Druckplattenverarbeitungsgeraet mit einer einrichtung fuer die spuelwasserrueckgewinnung.
DE3775567D1 (de) Vorrichtung zur aufeinanderfolgenden trocknung beider seiten einer papierbahn.
DE3580559D1 (de) Vorrichtung zur herstellung einer einkristallinen halbleiterverbindung.
DE3578777D1 (de) Verfahren zur aluminium-dotierung einer halbleiteranordnung.
DE3582143D1 (de) Verfahren zur herstellung einer halbleitervorrichtung.
ATE68673T1 (de) Verteilvorrichtung zur bildung einer duennen schicht auf einer oberflaeche.
DE3688193D1 (de) Verfahren zur bildung einer komposit-gekruemmten oberflaeche.
DE3780327T2 (de) Herstellungsverfahren einer halbleiter-kristallschicht.
DE3765144D1 (de) Vorrichtung zum anbringen einer monomolekularen schicht.
DE69013444T2 (de) Vorrichtung zur Bildung einer dünnen Schicht.
DE3685279D1 (de) Verfahren zur waermebehandlung eines verbindungshalbleitersubstrats.
DD247417B1 (de) Vorrichtung zum antrieb einer lackiereinrichtung
DE3772185D1 (de) Vorrichtung fuer die zufuehrung von behaeltern zu einer behandlungsanlage.
DE3580709D1 (de) Vorrichtung zum ausrichten von anschlusselementen fuer ein bauelement mit einer integrierten schaltung.
DE3786067T2 (de) Vorrichtung zum Zerbrechen einer Fläche.
DE3785705T2 (de) Vorrichtung zum Formen einer Schattenmaske.
DE3673601D1 (de) System zum beschichten einer oberflaeche.

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: PHILIPS ELECTRONICS N.V., EINDHOVEN, NL

8339 Ceased/non-payment of the annual fee