NL8303059A - Werkwijze voor de vervaardiging van een laag van een oxide van een element uit groep iva. - Google Patents

Werkwijze voor de vervaardiging van een laag van een oxide van een element uit groep iva. Download PDF

Info

Publication number
NL8303059A
NL8303059A NL8303059A NL8303059A NL8303059A NL 8303059 A NL8303059 A NL 8303059A NL 8303059 A NL8303059 A NL 8303059A NL 8303059 A NL8303059 A NL 8303059A NL 8303059 A NL8303059 A NL 8303059A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
temperature
sec
oxide
layer
rate
Prior art date
Application number
NL8303059A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Philips Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Nv filed Critical Philips Nv
Priority to NL8303059A priority Critical patent/NL8303059A/nl
Priority to DE8484201241T priority patent/DE3467153D1/de
Priority to EP84201241A priority patent/EP0136751B1/en
Priority to CA000462120A priority patent/CA1232798A/en
Priority to US06/645,884 priority patent/US4617206A/en
Publication of NL8303059A publication Critical patent/NL8303059A/nl

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23Oxides
    • C03C17/25Oxides by deposition from the liquid phase
    • C03C17/256Coating containing TiO2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/212TiO2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/22ZrO2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/228Other specific oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/11Deposition methods from solutions or suspensions
    • C03C2218/111Deposition methods from solutions or suspensions by dipping, immersion
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/11Deposition methods from solutions or suspensions
    • C03C2218/116Deposition methods from solutions or suspensions by spin-coating, centrifugation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/30Aspects of methods for coating glass not covered above
    • C03C2218/32After-treatment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)

Description

v EHN 10.768 1 N.V. Philips’ Gloeilampenfabrieken te Eindhoven
Werkwijze voor de vervaardiging van een laag van een oxide van een element uit groep IVa.
De uitvinding heeft betrekking op een werkwijze voor de vervaardiging van een lichaam, bestaande uit een substraat met een transparante laag van een oxide van een element uit groep IVa van het Periodiek Systeem en op de hiermede verkregen produkten.
5 De oxiden van deze elementen, TiC^, Zr02 en HfC^,worden veelvuldig gebruikt als lagen met een optisch effect. Er zijn verschillende technieken voor het aanbrengen van dergelijke lagen in gebruik.
Het opdampproces wordt veel toegepast, maar voor grootschalige industrieële fabricage geeft men de voorkeur aan werkwijzen, waarbij 10 geen vakuum te pas kant. Eten dergelijke werkwijze maakt gebruik van het danpelen en/of spinnen van een substraat in een oplossing van een verbinding van het betreffende element, die bij verhitting in het betreffende oxide in de vorm van een laagje wordt angezet. Heel geschikt zijn metaalorganische verbindingen van'het element, zoals Ti-dipropoxy-ace- 15 tylacetcnaat, in een organisch oplosmiddel. Na het aanbrengen van een laag van een dergelijke oplossing op het substraat wordt dit droogge-stookt en vervolgens vindt er een thermische nabehandeling plaats, waarbij het residu, bestaande uit koolstof en koolstofhoudende verbindingen, verdwijnen en het gewenste laagje in zuivere toestand overblijft.
20 Deze werkwijzen welke van oplossingen uitgaan leveren goede lagen van TiC^. De brekingsindex ervan is als regel niet hoger dan 2,0 terwijl intrinsiek een hogere waarde zou moeten worden verkregen. Op-gedampte lagen hebben waarden tussen 2,3 en 2,6. Voor ZrO^ en Hf02 geldt een overeenkanstige situatie.
25 Van titaanoxide bestaan verschillende modificaties met ver schillende fysische eigenschappen, met name verschillende waarden van de brekingsindex. Naast de amorfe toestand bestaat er een tetragcnale anataas-vorm, een tetragcnale rutiébvorm en het orthorhcmbische brookiet.
30 Nu is er uit de RCA. Review £1_, 133-180 (1980), een artikel ' van W. Kern c.s. in het bijzonder de bladzijden 153-162, bekend dat door een thermische nabehandeling van een substraat met een door opspuiten verkregen TiO^-laag op een temperatuur van 450°C een verhoging ; a V o ^ - f% O w ./ v, . · o EHN 10.768 2 van de brekingsindex wordt bereikt van ongeveer 2,1 tot 2,2. Door de auteurs van dit artikel werd vastgesteld, dat verhitting van het substraat met de laag tot hogere temperaturen nauwelijks effect heeft op de eigenschappen van de laag, doordat een ongewenste kristallijne fase, 5 anataas, hierbij gevormd wordt met o.a. een hogere optische absorptie.
De uirvinoing maakt het echter mogelijk, de brekingsindex van titaandioxidelaagjes te verhogen tot een waarde van 2,6.
Een vergelijkbare situatie bestaat er voor zirkoonoxide en hafniumoxide.
10 De werkwijze volgens de uitvinding waarbij het substraat bij verhoogde temperatuur wordt behandeld net een oplossing van een verbinding van het element, die bij verhitting in het betreffende oxide wordt omgezet.is daardoor gekenmerkt, dat na het aanbrengen van de laag het lichaam, tenminste in het traject boven 300°C, met een snelheid 15 van tenminste 30°C/sec, van cmgevingstemperatuur op een temperatuur boven 700°C wordt gebracht, tenminste gedurende 45 sec. boven deze tenperatuur gehouden wordt en vervolgens eveneens met een snelheid van tenminste 30°C/sec., althans in het traject van boven 700°C tot 300°C, tot kamertemperatuur wordt af gekoeld. Bij de experimenten, die leidden 20 tot het doen van de uitvinding bleek, dat bij het aldus snel passeren van het temper atuurtr aj eet tussen 300 en 700°C de vorming van de anataas-modificatie wordt voorkanen en de rutielmodificatie wordt verkregen, waarvan bekend is dat het intrinsiek polykristallijn een effectieve brekingsindex van 2,6 bezit.
25 Er zijn verschillende wijzen, waarop deze snelle verhitting kan worden gerealiseerd. Het direct plaatsen in een oven met een temperatuur boven 700°C geeft na ongeveer 30 sec. al een zichtbare reflectieverhoging. Indirecte verhitting via een kwartslichaam in een waterstofvlam levert eveneens het gewenste resultaat.. Tenslotte is 30 het met behulp van een laserbundel (bijvoorbeeld een CC^-laser) niet alleen mogelijk de anzetting hemogeen tot stand te brengen, doch ook gestructureerd.
Door de snelle verhitting op een temperatuur boven 700°C wordt een verhoging van de brekingsindex reeds bij 750°C bereikt. Het 35 optimale effect wordt echter verkregen, wanneer na het aanbrengen van de laag het lichaam, tenminste in het traject boven 300°C, met een snelheid van tenminste 30°C/sec. van angevingstenperatuur op een temperatuur boven 1000°C wordt gebracht, tenminste gedurende 45 sec.
Τ’ λ - Λ - Λ '· , . · · '* ι] •ο -* J * * , ^ /f H3N 10.768 3 hoven deze temperatuur gehouden wordt en vervolgens eveneens met een snelheid van tenminste 30°C/sec., althans In het traject vanboven 1000°c tot 300°C, tot omgevingstemperatuur wordt af gekoeld.
Thans volgt een concrete uitvoeringsvorm van de uitgevonden 5 werkwijze.
Een oplossing van titaanacetylacetanaat in isopropanol wordt cp een glassubstraat (borosilicaatglas of voor toepassingen bij hoge temperatuur kwartsglas) aangebracht d.m.v. spinnen en/of danpelen.
Bij het spinnen wordt een hoeveelheid van genoemde oplossing 10 met een pipet opgebracht en d.m.v. centrifugaalkracht op het substraat gelijkmatig verdeeld. De antreksnelheid en de viscositeit zijn hierbij bepalend voor de laagdikte die verkregen wordt. Bij het danpelen wordt het glassubstraat cndergedanpeld in de oplossing en daaruit ópgetrokken.
De optreksnelheid en de viscositeit van de vloeistof bepalen de laag-15 dikte. De bedekte glassubstraten worden vervolgens gedroogd op 80°C gedurende 20 minuten, waardoor het oplosmiddel verdwijnt. Direkt hierna worden de substraten gedurende 45 sec. in een oven boven 700°C verhit. Dit moet snel gebeuren (30°C/sec. vanaf ca. 300°C). Ook kunnen de aangebrachte lagen aangestraald worden met een 80 Watt CC^-laser 20 waardoor de lagen in zeer korte tijd (de verplaatsing onder de laserbundel is 20 itrn/sec), een hoge locale temperatuur bereiken. Door genoemde hoge temperatuurbehandeling worden de volgende resultaten bereikt: 750° effectieve brekingsindex (n^TiC^ 2,10 25 9 00° effectieve brekingsindex (n^TiC^ 2,40 1050°C effectieve brekingsindex (n^TiC^ 2,50 a 2/X) aanstralen d.m.v. een laser effectieve brekingsindex (n^TiC^ 2,60 30 35 Λ T t *7 - λ ü Q ’ ^

Claims (3)

1. Werkwijze voor de vervaardiging van een lichaam, bestaande uit een substraat met een transparante laag van een oxide van een element uit de groep IVa van het Periodiek Systeem, door het substraat bij verhoogde temperatuur te behandelen met een oplossing van een ver- 5 binding van het element, die bij verhitting in het betreffende oxide wordt omgezet, met het kenmerk, dat na aanbrengen van de laag het lichaam, tenminste in het traject boven 300°C, met een snelheid van tenminste 30°C/sec van omgevingstemperatuur op een temperatuur boven 70Q°C wordt gebracht, tenminste gedurende 45 sec. boven deze temperatuur 10 gehouden wordt en vervolgens eveneens met een snelheid van tenminste 30°C/sec., althans in het traject van boven 700°C tot 300°C, tot kamertemperatuur wordt af gekoeld.
2. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat na het aanbrengen van de laag van het lichaam, tenminste in het traject boven 15 300°C, met een snelheid van tenminste 30°C/sec van omgevingstemperatuur qp een temperatuur boven 1000°C wordt gebracht, tenminste gedurende 45 sec. boven deze temperatuur gehouden wordt en vervolgens eveneens met een snelheid van tenminste 30°C/sec., althans in het traject van boven 1000°C,tot 300°C, tot angevingstemperatnur wordt afgekoeld. 20
3. Produkten, verkregen door middel van de werkwijze volgens con clusie 1 of 2. 25 30 35 r 7 η ~ n " ö w -ij ‘.s *3 - ---- i
NL8303059A 1983-09-02 1983-09-02 Werkwijze voor de vervaardiging van een laag van een oxide van een element uit groep iva. NL8303059A (nl)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8303059A NL8303059A (nl) 1983-09-02 1983-09-02 Werkwijze voor de vervaardiging van een laag van een oxide van een element uit groep iva.
DE8484201241T DE3467153D1 (en) 1983-09-02 1984-08-28 Method of manufacturing a layer of an oxide of an element from group iva
EP84201241A EP0136751B1 (en) 1983-09-02 1984-08-28 Method of manufacturing a layer of an oxide of an element from group iva
CA000462120A CA1232798A (en) 1983-09-02 1984-08-30 Method of manufacturing a layer of an oxide of an element from group ivb
US06/645,884 US4617206A (en) 1983-09-02 1984-08-30 Method of manufacturing a layer of an oxide of an element from group IVa

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8303059A NL8303059A (nl) 1983-09-02 1983-09-02 Werkwijze voor de vervaardiging van een laag van een oxide van een element uit groep iva.
NL8303059 1983-09-02

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL8303059A true NL8303059A (nl) 1985-04-01

Family

ID=19842340

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL8303059A NL8303059A (nl) 1983-09-02 1983-09-02 Werkwijze voor de vervaardiging van een laag van een oxide van een element uit groep iva.

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4617206A (nl)
EP (1) EP0136751B1 (nl)
CA (1) CA1232798A (nl)
DE (1) DE3467153D1 (nl)
NL (1) NL8303059A (nl)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL8500985A (nl) * 1985-04-03 1986-11-03 Heineken Technische Beheer Bv Werkwijze en stelsel voor het herstellen van mechanische en/of chemische beschadigingen aan het oppervlak van voor hergebruik bestemde flessen.
JPH064497B2 (ja) * 1985-08-05 1994-01-19 日本板硝子株式会社 酸化錫膜の形成方法
US4960618A (en) * 1987-01-07 1990-10-02 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Process for formation of metal oxide film
JPS63184210A (ja) * 1987-01-27 1988-07-29 日本板硝子株式会社 透明導電体の製造方法
DE3744368C1 (de) * 1987-12-29 1989-08-03 Schott Glaswerke Verfahren zur Herstellung von festen optischen Einfach- und Mehrfach-Interferenz-Schichten
US5024859A (en) * 1989-11-20 1991-06-18 General Electric Company Method for applying an oxide barrier coating to a reinforcing fiber
US5190820A (en) * 1989-11-20 1993-03-02 General Electric Company Coated reinforcing fiber and method for applying an oxide barrier coating
US5100764A (en) * 1989-12-26 1992-03-31 Iowa State University Research Foundation, Inc. Method of making patterned metal oxide films comprising a sol-gel of metal oxide and a photoactive compound
GB9016414D0 (en) * 1990-07-26 1990-09-12 Total Rays Enterprises Canada Heat conducting material
US5393593A (en) * 1990-10-25 1995-02-28 Ppg Industries, Inc. Dark gray, infrared absorbing glass composition and coated glass for privacy glazing
FR2672884B1 (fr) * 1991-02-20 1993-09-10 Saint Gobain Vitrage Int Couche protectrice sur un substrat conducteur.
US5143533A (en) * 1991-08-22 1992-09-01 The United States Of America As Represented By The Department Of Energy Method of producing amorphous thin films
US5235662A (en) * 1992-01-02 1993-08-10 Eastman Kodak Company Method to reduce light propagation losses in optical glasses and optical waveguide fabricated by same
US5427825A (en) * 1993-02-09 1995-06-27 Rutgers, The State University Localized surface glazing of ceramic articles
AU666830B2 (en) * 1993-11-16 1996-02-22 Ppg Industries Ohio, Inc. Gray glass composition
NZ264880A (en) 1993-11-16 1995-09-26 Ppg Industries Inc Grey glass containing iron and cobalt oxides
US5565388A (en) * 1993-11-16 1996-10-15 Ppg Industries, Inc. Bronze glass composition
US7071133B2 (en) * 1993-11-16 2006-07-04 Ppg Industries Ohio, Inc. Colored glass compositions and-automotive vision panels with-reduced transmitted-color shift
US5891238A (en) * 1997-12-29 1999-04-06 Aos Holding Company Curable pigmented silicate compositions
US7604839B2 (en) * 2000-07-31 2009-10-20 Los Alamos National Security, Llc Polymer-assisted deposition of films
US7365118B2 (en) * 2003-07-08 2008-04-29 Los Alamos National Security, Llc Polymer-assisted deposition of films
US6889410B2 (en) * 2003-01-31 2005-05-10 Indian Institute Of Science Rapid coating process and its application to lead-acid batteries
DE102008044485A1 (de) * 2008-08-28 2010-04-01 Schott Solar Ag Verfahren und Anordnung zum Herstellen einer Funktionsschicht auf einem Halbleiterbauelement

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL106520C (nl) * 1956-09-01 1900-01-01
FR1404190A (fr) * 1964-08-10 1965-06-25 Minnesota Mining & Mfg Perles transparentes
US4129434A (en) * 1971-07-08 1978-12-12 Glaverbell Process for forming a metal oxide coating
US3916041A (en) * 1974-02-14 1975-10-28 Westinghouse Electric Corp Method of depositing titanium dioxide films by chemical vapor deposition
FR2319594A1 (fr) * 1975-07-28 1977-02-25 Corning Glass Works Perfectionnement aux ustensiles de cuisine servant a la cuisson des aliments
JPS54122321A (en) * 1978-03-16 1979-09-21 Central Glass Co Ltd Production of heat beam reflecting glass
JPS54150417A (en) * 1978-05-19 1979-11-26 Hitachi Ltd Production of transparent conductive layer
NL8301652A (nl) * 1983-05-10 1984-12-03 Philips Nv Werkwijze voor het aanbrengen van magnesiumfluoridelagen en antireflectieve lagen verkregen met deze werkwijze.

Also Published As

Publication number Publication date
US4617206A (en) 1986-10-14
CA1232798A (en) 1988-02-16
DE3467153D1 (en) 1987-12-10
EP0136751B1 (en) 1987-11-04
EP0136751A1 (en) 1985-04-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL8303059A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een laag van een oxide van een element uit groep iva.
NL8301652A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van magnesiumfluoridelagen en antireflectieve lagen verkregen met deze werkwijze.
CN1010132B (zh) 光学干涉滤光片
KR20090101201A (ko) 금속 알콕사이드 함유 필름의 경화 방법
JP2005538871A (ja) チタン−アルミニウム酸化物層を含む層システム
CN1033471C (zh) 用于生产高折射率光学涂层的蒸镀用材料
RU2429262C2 (ru) Подложка с удаляемым защитным покрытием и соответствующие способы
JP2010529290A (ja) 高光触媒活性を有する酸化チタン層の製造方法およびこの方法により製造された酸化チタン層
CN101250811A (zh) 碳纤维表面二氧化钛涂层的制备方法
JPH01132770A (ja) チタン含有酸化物膜用組成物およびその膜の形成方法
EP0347683A2 (de) Verfahren zur Herstellung von Kunststofformkörpern mit verbesserter Witterungsbeständigkeit
JP5264914B2 (ja) 基体を大気圧でプラズマで透明コーティングする方法
JP3746525B2 (ja) 表面プラスモン共鳴分析用担体の製造方法
DE19708808B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Aufbringen von transparenten Schutzschichten auf Gegenstände
JP2002226967A (ja) 高屈折率光学層製造用蒸着材料および蒸着材料の製造方法
US8029923B2 (en) Vaporizing material for producing highly refractive optical layers
JPH09189801A (ja) 耐熱性反射防止膜付き光学部品
US5648115A (en) Method for making a tantala/silica interference filter on a vitreous substrate and an electric lamp made thereby
Yazid et al. The influence of ethanol on the morphology, phase and crystal size of the sol-gel dip coating TiO2 thin films
RU2711386C1 (ru) Способ нанесения покрытия SnO2
JPH03162561A (ja) プラスチック基板への成膜方法
JPS6144949B2 (nl)
Huang et al. TfC13. Rapid thermal processing of PZT thin films
Okudera et al. Fabrication of silica-anatase multilayer coating on a K Ca Zn Si glass substrate
JP2005126348A (ja) 金属系無機抗菌・防カビ剤、その製造方法及び用途

Legal Events

Date Code Title Description
A1B A search report has been drawn up
BV The patent application has lapsed