NL7700552A - Werkwijze voor het vervaardigen van een bescher- mend masker uit een polymeersamenstelling ten be- hoeve van een halfgeleider en de aldus vervaar- digde voorwerpen. - Google Patents

Werkwijze voor het vervaardigen van een bescher- mend masker uit een polymeersamenstelling ten be- hoeve van een halfgeleider en de aldus vervaar- digde voorwerpen.

Info

Publication number
NL7700552A
NL7700552A NL7700552A NL7700552A NL7700552A NL 7700552 A NL7700552 A NL 7700552A NL 7700552 A NL7700552 A NL 7700552A NL 7700552 A NL7700552 A NL 7700552A NL 7700552 A NL7700552 A NL 7700552A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
articles
manufactured
semiconductor
manufacture
polymer composition
Prior art date
Application number
NL7700552A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Original Assignee
Nippon Telegraph & Telephone
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph & Telephone filed Critical Nippon Telegraph & Telephone
Publication of NL7700552A publication Critical patent/NL7700552A/xx

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/32—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying conductive, insulating or magnetic material on a magnetic film, specially adapted for a thin magnetic film
    • H01F41/34—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying conductive, insulating or magnetic material on a magnetic film, specially adapted for a thin magnetic film in patterns, e.g. by lithography
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/3154—Of fluorinated addition polymer from unsaturated monomers
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31652—Of asbestos
    • Y10T428/31667—Next to addition polymer from unsaturated monomers, or aldehyde or ketone condensation product

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
NL7700552A 1976-01-23 1977-01-20 Werkwijze voor het vervaardigen van een bescher- mend masker uit een polymeersamenstelling ten be- hoeve van een halfgeleider en de aldus vervaar- digde voorwerpen. NL7700552A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP582776A JPS5290269A (en) 1976-01-23 1976-01-23 Forming method for fine resist patterns

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7700552A true NL7700552A (nl) 1977-07-26

Family

ID=11621877

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7700552A NL7700552A (nl) 1976-01-23 1977-01-20 Werkwijze voor het vervaardigen van een bescher- mend masker uit een polymeersamenstelling ten be- hoeve van een halfgeleider en de aldus vervaar- digde voorwerpen.

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4125672A (enExample)
JP (1) JPS5290269A (enExample)
CA (1) CA1092410A (enExample)
DE (1) DE2702427C3 (enExample)
FR (1) FR2339184A1 (enExample)
GB (1) GB1511992A (enExample)
NL (1) NL7700552A (enExample)

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52149116A (en) * 1976-06-07 1977-12-12 Tokyo Ouka Kougiyou Kk Method of forming xxray image
JPS53100774A (en) * 1977-02-15 1978-09-02 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Resist composition for short eavelength ultraviolet light
GB1602724A (en) * 1977-04-26 1981-11-18 Standard Telephones Cables Ltd Resist material for x-ray lithography
JPS5484978A (en) * 1977-12-20 1979-07-06 Cho Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai Method of forming pattern
JPS54115128A (en) * 1978-02-28 1979-09-07 Cho Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai Positive resist sensitive to electromagnetic radiation
JPS54145127A (en) * 1978-05-04 1979-11-13 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Pattern formation material
JPS5828571B2 (ja) * 1978-07-20 1983-06-16 沖電気工業株式会社 微細加工用レジスト形成方法
JPS5517112A (en) * 1978-07-21 1980-02-06 Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai Positive type radiation sensitive composition
JPS5518638A (en) * 1978-07-27 1980-02-08 Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai Ionized radiation sensitive positive type resist
US4225664A (en) * 1979-02-22 1980-09-30 Bell Telephone Laboratories, Incorporated X-ray resist containing poly(2,3-dichloro-1-propyl acrylate) and poly(glycidyl methacrylate-co-ethyl acrylate)
FR2451050A1 (fr) * 1979-03-09 1980-10-03 Thomson Csf Composition de photomasquage, son procede de preparation, et masque obtenu
FR2461967A2 (fr) * 1979-07-17 1981-02-06 Thomson Csf Composition de photomasquage, son procede de preparation, et masque obtenu
EP0016679B1 (fr) * 1979-03-09 1982-06-09 Thomson-Csf Substances de photomasquage, leur procédé de préparation, et masque obtenu
JPS56139515A (en) * 1980-03-31 1981-10-31 Daikin Ind Ltd Polyfluoroalkyl acrylate copolymer
JPS56167139A (en) 1980-05-27 1981-12-22 Daikin Ind Ltd Sensitive material
CA1164261A (en) * 1981-04-21 1984-03-27 Tsukasa Tada PROCESS FOR FORMING RESIST PATTERNS BY DEVELOPING A POLYMER CONTAINING TRIFLUOROETHYL-.alpha.- CHLOROCRYLATE UNITS WITH SPECIFIC KETONE COMPOUNDS
JPS5860536A (ja) * 1981-10-06 1983-04-11 Toshiba Corp レジスト像形成方法
JPS57196232A (en) * 1981-05-29 1982-12-02 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> High sensitive and positive type resist
JPS584137A (ja) * 1981-06-30 1983-01-11 Daikin Ind Ltd レジストおよび微細レジストパタ−ンの形成方法
DE3279090D1 (en) * 1981-12-19 1988-11-10 Daikin Ind Ltd Resist material and process for forming fine resist pattern
DE3246825A1 (de) * 1982-02-24 1983-09-01 Max Planck Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V., 3400 Göttingen Positives resistmaterial
JPS59180546A (ja) * 1983-03-30 1984-10-13 Daikin Ind Ltd レジスト被膜の現像方法
JPS6170719A (ja) * 1984-09-14 1986-04-11 Matsushita Electronics Corp パタ−ン形成方法
US5378502A (en) * 1992-09-09 1995-01-03 U.S. Philips Corporation Method of chemically modifying a surface in accordance with a pattern
EP0617329B1 (en) * 1993-03-25 2001-10-31 Sumitomo Electric Industries, Limited Method of forming a micro structure and an X-ray mask
AU2002315217A1 (en) * 2001-06-18 2003-01-02 Honeywell International Inc. Fluorine-containing compounds and polymers derived therefrom
US6872504B2 (en) * 2002-12-10 2005-03-29 Massachusetts Institute Of Technology High sensitivity X-ray photoresist
EP1983038A1 (en) * 2007-04-18 2008-10-22 Turboden S.r.l. Turbo generator (orc) for applications at middle-low temperatures, using a fluid with azeotropic behaviour
US10689522B2 (en) 2014-12-19 2020-06-23 Merck Patent Gmbh Fluorine compounds
KR102387852B1 (ko) * 2016-03-31 2022-04-15 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 경화막 형성 조성물
JP6900951B2 (ja) * 2016-03-31 2021-07-14 日産化学株式会社 硬化膜形成組成物

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3535137A (en) * 1967-01-13 1970-10-20 Ibm Method of fabricating etch resistant masks
US3632400A (en) * 1969-06-30 1972-01-04 Ford Motor Co Surface modified elastomers
US3743842A (en) * 1972-01-14 1973-07-03 Massachusetts Inst Technology Soft x-ray lithographic apparatus and process
JPS5342260B2 (enExample) * 1973-11-22 1978-11-10
US4011351A (en) * 1975-01-29 1977-03-08 International Business Machines Corporation Preparation of resist image with methacrylate polymers
US4061829A (en) * 1976-04-26 1977-12-06 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Negative resist for X-ray and electron beam lithography and method of using same

Also Published As

Publication number Publication date
CA1092410A (en) 1980-12-30
JPS5524088B2 (enExample) 1980-06-26
FR2339184A1 (fr) 1977-08-19
GB1511992A (en) 1978-05-24
DE2702427B2 (de) 1979-02-15
DE2702427A1 (de) 1977-08-04
DE2702427C3 (de) 1979-10-18
US4125672A (en) 1978-11-14
FR2339184B1 (enExample) 1980-12-26
JPS5290269A (en) 1977-07-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7700552A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een bescher- mend masker uit een polymeersamenstelling ten be- hoeve van een halfgeleider en de aldus vervaar- digde voorwerpen.
NL7706962A (nl) Profiel alsmede werkwijze en inrichting voor de vervaardiging en opvolgende verwerking daarvan.
NL188657C (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een tegen ultraviolette staling beschermd organisch materiaal.
NL7609815A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd met behulp van de werkwijze.
NL7506594A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfge- leiderinrichting en halfgeleiderinrichting ver- vaardigd met behulp van de werkwijze.
NL7707919A (nl) Halfgeleider alsmede werkwijze ter vervaardiging daarvan.
NL187508C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen.
NL7613440A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL7709983A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van voorwerpen uit vermiculiet, en voorwerpen vervaardigd met de werkwijze.
NL7713004A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van halfgelei- derinrichtingen.
NL7503618A (nl) Werkwijze voor de bereiding van polyisocyanaat- materialen en voorwerpen, die geheel of ten dele uit de aldus bereide polyisocyanaatmate- rialen bestaan.
NL7610796A (nl) Werkwijze en inrichting voor de continue ver- vaardiging van kaas.
NL7709274A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van verpakkingen.
NL7609167A (nl) Werkwijze en inrichting voor de vervaardiging van strengvormige profielelementen van cel- achtige structuur uit een sinterbaar granu- laat.
NL7610851A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van geinte- greerde schakelingen.
NL7609607A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd met behulp van de werkwijze.
NL7705266A (nl) Werkwijze en inrichting voor de vervaardiging van samengestelde oppervlakte-elementen.
NL7707654A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van massieve vormstukken.
NL7702652A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van gestrekte polymeerfoelies en gestrekte polymeer- foelies, vervaardigd met de werkwijze.
BE854529A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van veiligheidsschoeisel en het aldus vervaardigde schoeisel
NL7709429A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van voorwerpen uit een thermoplastisch materi- aal.
NL185044B (nl) Halfgeleider-component en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.
NL7708890A (nl) Werkwijze voor het behandelen van velvormig ma- teriaal, alsmede aldus vervaardigde voorwerpen.
NL7600365A (nl) Werkwijze en inrichting voor de meertrappige vloei- stof-vloeistof-tegenstroom-extraktie.
NL182264C (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van halfgeleiderinrichtingen.

Legal Events

Date Code Title Description
BC A request for examination has been filed
A85 Still pending on 85-01-01
CNR Transfer of rights (patent application after its laying open for public inspection)

Free format text: NIPPON TELEGRAPH AND TELEPHONE CORPORATION

BV The patent application has lapsed