NL7410201A - Werkwijze voor het vervaardigen van een ladingverschuifinrichting volgens de twee- fasetechniek. - Google Patents

Werkwijze voor het vervaardigen van een ladingverschuifinrichting volgens de twee- fasetechniek.

Info

Publication number
NL7410201A
NL7410201A NL7410201A NL7410201A NL7410201A NL 7410201 A NL7410201 A NL 7410201A NL 7410201 A NL7410201 A NL 7410201A NL 7410201 A NL7410201 A NL 7410201A NL 7410201 A NL7410201 A NL 7410201A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
accordance
manufacturing
shifting device
load shifting
stage technology
Prior art date
Application number
NL7410201A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Siemens Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens Ag filed Critical Siemens Ag
Publication of NL7410201A publication Critical patent/NL7410201A/nl

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
    • H01L29/762—Charge transfer devices
    • H01L29/765—Charge-coupled devices
    • H01L29/768—Charge-coupled devices with field effect produced by an insulated gate
    • H01L29/76866—Surface Channel CCD
    • H01L29/76875—Two-Phase CCD
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
    • H01L29/10—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions with semiconductor regions connected to an electrode not carrying current to be rectified, amplified or switched and such electrode being part of a semiconductor device which comprises three or more electrodes
    • H01L29/1025—Channel region of field-effect devices
    • H01L29/1062—Channel region of field-effect devices of charge coupled devices
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/41—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
    • H01L29/423—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions not carrying the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/42312—Gate electrodes for field effect devices
    • H01L29/42396—Gate electrodes for field effect devices for charge coupled devices
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
    • H01L29/762—Charge transfer devices
    • H01L29/765—Charge-coupled devices
    • H01L29/768—Charge-coupled devices with field effect produced by an insulated gate
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00—Metal treatment
    • Y10S148/051—Etching
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00—Metal treatment
    • Y10S148/143—Shadow masking

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
NL7410201A 1973-08-14 1974-07-29 Werkwijze voor het vervaardigen van een ladingverschuifinrichting volgens de twee- fasetechniek. NL7410201A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2341154A DE2341154C2 (de) 1973-08-14 1973-08-14 Verfahren zur Herstellung einer Zweiphasen-Ladungsverschiebeanordnung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7410201A true NL7410201A (nl) 1975-02-18

Family

ID=5889756

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7410201A NL7410201A (nl) 1973-08-14 1974-07-29 Werkwijze voor het vervaardigen van een ladingverschuifinrichting volgens de twee- fasetechniek.

Country Status (15)

Country Link
US (1) US3908262A (nl)
JP (1) JPS5051277A (nl)
AT (1) AT341580B (nl)
BE (1) BE818885A (nl)
CA (1) CA1001775A (nl)
CH (1) CH573662A5 (nl)
DE (1) DE2341154C2 (nl)
DK (1) DK139369C (nl)
FR (1) FR2241142B1 (nl)
GB (1) GB1444452A (nl)
IE (1) IE39610B1 (nl)
IT (1) IT1019904B (nl)
LU (1) LU70712A1 (nl)
NL (1) NL7410201A (nl)
SE (1) SE394766B (nl)

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1534896A (en) * 1975-05-19 1978-12-06 Itt Direct metal contact to buried layer
US4035906A (en) * 1975-07-23 1977-07-19 Texas Instruments Incorporated Silicon gate CCD structure
US4027382A (en) * 1975-07-23 1977-06-07 Texas Instruments Incorporated Silicon gate CCD structure
US4060427A (en) * 1976-04-05 1977-11-29 Ibm Corporation Method of forming an integrated circuit region through the combination of ion implantation and diffusion steps
US4167017A (en) * 1976-06-01 1979-09-04 Texas Instruments Incorporated CCD structures with surface potential asymmetry beneath the phase electrodes
US4182023A (en) * 1977-10-21 1980-01-08 Ncr Corporation Process for minimum overlap silicon gate devices
US4525919A (en) * 1982-06-16 1985-07-02 Raytheon Company Forming sub-micron electrodes by oblique deposition
FR2571177B1 (fr) * 1984-10-02 1987-02-27 Thomson Csf Procede de realisation de grilles en siliciure ou en silicium pour circuit integre comportant des elements du type grille - isolant - semi-conducteur
WO1987001507A1 (en) * 1985-08-27 1987-03-12 Lockheed Missiles & Space Company, Inc. Gate alignment procedure in fabricating semiconductor devices
NL8502765A (nl) * 1985-10-10 1987-05-04 Philips Nv Werkwijze ter vervaardiging van een halfgeleiderinrichting.
JPH0834194B2 (ja) * 1989-06-30 1996-03-29 松下電器産業株式会社 イオン注入方法及び本方法を用いた半導体装置の製造方法
KR940010932B1 (ko) * 1991-12-23 1994-11-19 금성일렉트론주식회사 Ccd영상소자 제조방법
US5290358A (en) * 1992-09-30 1994-03-01 International Business Machines Corporation Apparatus for directional low pressure chemical vapor deposition (DLPCVD)
US5328854A (en) * 1993-03-31 1994-07-12 At&T Bell Laboratories Fabrication of electronic devices with an internal window
IL106892A0 (en) * 1993-09-02 1993-12-28 Pierre Badehi Methods and apparatus for producing integrated circuit devices
IL108359A (en) * 1994-01-17 2001-04-30 Shellcase Ltd Method and device for creating integrated circular devices
US5444007A (en) * 1994-08-03 1995-08-22 Kabushiki Kaisha Toshiba Formation of trenches having different profiles
US5668018A (en) * 1995-06-07 1997-09-16 International Business Machines Corporation Method for defining a region on a wall of a semiconductor structure
GB9512089D0 (en) * 1995-06-14 1995-08-09 Evans Jonathan L Semiconductor device fabrication
JP2965061B2 (ja) * 1996-04-19 1999-10-18 日本電気株式会社 電荷結合素子およびその製造方法
DE10115912A1 (de) * 2001-03-30 2002-10-17 Infineon Technologies Ag Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung und Verwendung einer Ionenstrahlanlage zur Durchführung des Verfahrens

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2666814A (en) * 1949-04-27 1954-01-19 Bell Telephone Labor Inc Semiconductor translating device
GB1355806A (en) * 1970-12-09 1974-06-05 Mullard Ltd Methods of manufacturing a semiconductor device
US3796932A (en) * 1971-06-28 1974-03-12 Bell Telephone Labor Inc Charge coupled devices employing nonuniform concentrations of immobile charge along the information channel
US3851379A (en) * 1973-05-16 1974-12-03 Westinghouse Electric Corp Solid state components

Also Published As

Publication number Publication date
FR2241142A1 (nl) 1975-03-14
DK430874A (nl) 1975-04-14
DE2341154C2 (de) 1975-06-26
AT341580B (de) 1978-02-10
GB1444452A (en) 1976-07-28
DK139369C (da) 1979-08-20
DK139369B (da) 1979-02-05
BE818885A (fr) 1974-12-02
US3908262A (en) 1975-09-30
FR2241142B1 (nl) 1977-10-14
SE7410186L (nl) 1975-02-17
JPS5051277A (nl) 1975-05-08
LU70712A1 (nl) 1974-12-10
CA1001775A (en) 1976-12-14
IE39610L (en) 1975-02-14
IT1019904B (it) 1977-11-30
IE39610B1 (en) 1978-11-22
ATA631774A (de) 1977-06-15
SE394766B (sv) 1977-07-04
CH573662A5 (nl) 1976-03-15
DE2341154B1 (de) 1974-11-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7410201A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een ladingverschuifinrichting volgens de twee- fasetechniek.
NL7410685A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een lading- verschuifinrichting volgens de tweefasetechniek.
NL187863C (nl) Werkwijze voor het omzetten, in het bijzonder het verhogen van het octaangetal, van een reformaat.
NL7510903A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgelei- derinrichting, en inrichting vervaardigd volgens de werkwijze.
NL7503550A (nl) Halfgeleiderstructuur met bovenliggende collector en werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijke structuur.
NL173142C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een filterelement en het daarmee verkregen filterelement.
NL181696C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting met tenminste een halfgeleiderelement in een voor de halfgeleiderelementen gemeenschappelijk halfgeleiderlichaam.
NL7413289A (nl) Inrichting voor het aanbrengen van lagen in de van een vloeistof op voorwerpen.
BE817595A (fr) Werkwijze en inrichting voor het in een groep opsporen van een lichamelijke afwijking
NL162511B (nl) Geintegreerde halfgeleiderschakeling met een laterale transistor en werkwijze voor het vervaardigen van de geintegreerde halfgeleiderschakeling.
NL7500816A (nl) Inrichting voor het verdelen van het vermogen in een hydraulische schakeling.
NL7607298A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een inrichting en inrichting vervaardigd volgens de werkwijze.
NL7410686A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een twee- fasenladingverschuifinrichting.
NL179713C (nl) Inrichting voor het in de middenstand terugbrengen van een centrale koppeling.
NL7407985A (nl) Werkwijze voor het vormen van een patroon en patroon vervaardigd volgens deze werkwijze.
BE812979A (fr) Inrichting voor het aftasten van een oppervlak en micro-endoscoop voorzien van een dergelijke inrichting
NL7410199A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van koorden.
NL7412569A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een tampon en tampon vervaardigd volgens de werkwijze.
NL7309667A (nl) Inrichting voor het constant houden van de stroom in een belasting.
NL7416966A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een motor en otor vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL7312546A (nl) Inrichting, in het bijzonder een neutronengenerator, voorzien van een demontabele hoogspanningsaansluiting.
NL7410978A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting, en inrichting vervaardigd volgens de werkwijze.
NL156012B (nl) Werkwijze voor het bedrijven van een versnellingsinrichting met hoge spanningen.
NL147363B (nl) Inrichting voor het vervaardigen van een gelamineerde structuur.
BE783798A (fr) Luchtverhitter, in het bijzonder voor een centrale verwarmingsintallatie.

Legal Events

Date Code Title Description
BV The patent application has lapsed