NL185483C - Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleidereenheid met veldeffecttransistors met geisoleerde poort van de verarmingssoort en de verrijkingssoort. - Google Patents

Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleidereenheid met veldeffecttransistors met geisoleerde poort van de verarmingssoort en de verrijkingssoort.

Info

Publication number
NL185483C
NL185483C NLAANVRAGE7513708,A NL7513708A NL185483C NL 185483 C NL185483 C NL 185483C NL 7513708 A NL7513708 A NL 7513708A NL 185483 C NL185483 C NL 185483C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
deployment
manufacturing
field effect
effect transistors
insulated gate
Prior art date
Application number
NLAANVRAGE7513708,A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Other versions
NL185483B (nl
NL7513708A (nl
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Publication of NL7513708A publication Critical patent/NL7513708A/xx
Publication of NL185483B publication Critical patent/NL185483B/xx
Application granted granted Critical
Publication of NL185483C publication Critical patent/NL185483C/xx

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B20/00—Read-only memory [ROM] devices
    • H10B20/27—ROM only
    • H10B20/30—ROM only having the source region and the drain region on the same level, e.g. lateral transistors
    • H10B20/38—Doping programmed, e.g. mask ROM
    • H10B20/383—Channel doping programmed
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C17/00—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
    • G11C17/08—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements
    • G11C17/10—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements in which contents are determined during manufacturing by a predetermined arrangement of coupling elements, e.g. mask-programmable ROM
    • G11C17/12—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements in which contents are determined during manufacturing by a predetermined arrangement of coupling elements, e.g. mask-programmable ROM using field-effect devices
    • G11C17/123—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements in which contents are determined during manufacturing by a predetermined arrangement of coupling elements, e.g. mask-programmable ROM using field-effect devices comprising cells having several storage transistors connected in series
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
    • H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
    • H01L21/82—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components
    • H01L21/822—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components the substrate being a semiconductor, using silicon technology
    • H01L21/8232—Field-effect technology
    • H01L21/8234—MIS technology, i.e. integration processes of field effect transistors of the conductor-insulator-semiconductor type
    • H01L21/823412—MIS technology, i.e. integration processes of field effect transistors of the conductor-insulator-semiconductor type with a particular manufacturing method of the channel structures, e.g. channel implants, halo or pocket implants, or channel materials
    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03K—PULSE TECHNIQUE
    • H03K19/00—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
    • H03K19/02—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components
    • H03K19/08—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using semiconductor devices
    • H03K19/094—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using semiconductor devices using field-effect transistors
    • H03K19/096—Synchronous circuits, i.e. using clock signals
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B20/00—Read-only memory [ROM] devices

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Computing Systems (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Non-Volatile Memory (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)
NLAANVRAGE7513708,A 1975-09-04 1975-11-24 Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleidereenheid met veldeffecttransistors met geisoleerde poort van de verarmingssoort en de verrijkingssoort. NL185483C (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP50107350A JPS5851427B2 (ja) 1975-09-04 1975-09-04 絶縁ゲ−ト型リ−ド・オンリ−・メモリの製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7513708A NL7513708A (nl) 1977-03-08
NL185483B NL185483B (nl) 1989-11-16
NL185483C true NL185483C (nl) 1990-04-17

Family

ID=14456816

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE7513708,A NL185483C (nl) 1975-09-04 1975-11-24 Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleidereenheid met veldeffecttransistors met geisoleerde poort van de verarmingssoort en de verrijkingssoort.

Country Status (10)

Country Link
US (3) US4235010A (de)
JP (1) JPS5851427B2 (de)
CA (1) CA1070436A (de)
DE (2) DE2552644C2 (de)
FR (1) FR2323233A1 (de)
GB (1) GB1529717A (de)
HK (1) HK35681A (de)
IT (1) IT1049770B (de)
MY (1) MY8200020A (de)
NL (1) NL185483C (de)

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5851427B2 (ja) * 1975-09-04 1983-11-16 株式会社日立製作所 絶縁ゲ−ト型リ−ド・オンリ−・メモリの製造方法
US4600933A (en) * 1976-12-14 1986-07-15 Standard Microsystems Corporation Semiconductor integrated circuit structure with selectively modified insulation layer
JPS5519851A (en) * 1978-07-31 1980-02-12 Hitachi Ltd Manufacture of non-volatile memories
JPS5647996A (en) * 1979-09-20 1981-04-30 Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai Semiconductor memory device
US4336647A (en) * 1979-12-21 1982-06-29 Texas Instruments Incorporated Method of making implant programmable N-channel read only memory
JPS56125854A (en) * 1980-03-10 1981-10-02 Nec Corp Integrated circuit
US4476478A (en) * 1980-04-24 1984-10-09 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor read only memory and method of making the same
US4328610A (en) * 1980-04-25 1982-05-11 Burroughs Corporation Method of reducing alpha-particle induced errors in an integrated circuit
JPS5752943A (en) * 1980-09-12 1982-03-29 Fujitsu Ltd Decoder
DE3108726A1 (de) * 1981-03-07 1982-09-16 Deutsche Itt Industries Gmbh, 7800 Freiburg Monolithisch integrierte referenzspannungsquelle
JPS5830154A (ja) * 1981-08-17 1983-02-22 Toshiba Corp 固定記憶半導体装置およびその製造方法
US4633572A (en) * 1983-02-22 1987-01-06 General Motors Corporation Programming power paths in an IC by combined depletion and enhancement implants
US4742019A (en) * 1985-10-30 1988-05-03 International Business Machines Corporation Method for forming aligned interconnections between logic stages
JP2723147B2 (ja) * 1986-06-25 1998-03-09 株式会社日立製作所 半導体集積回路装置の製造方法
US4847517A (en) * 1988-02-16 1989-07-11 Ltv Aerospace & Defense Co. Microwave tube modulator
US5623443A (en) * 1994-03-11 1997-04-22 Waferscale Integration, Inc. Scalable EPROM array with thick and thin non-field oxide gate insulators
US6498376B1 (en) * 1994-06-03 2002-12-24 Seiko Instruments Inc Semiconductor device and manufacturing method thereof
FR2730345B1 (fr) * 1995-02-03 1997-04-04 Matra Mhs Procede de fabrication d'une memoire morte en technologie mos, et memoire ainsi obtenue
US5644154A (en) * 1995-03-27 1997-07-01 Microchip Technology Incorporated MOS read-only semiconductor memory with selected source/drain regions spaced away from edges of overlying gate electrode regions and method therefor
US5786607A (en) * 1995-05-29 1998-07-28 Matsushita Electronics Corporation Solid-state image pick-up device and method for manufacturing the same
US5795807A (en) * 1996-12-20 1998-08-18 Advanced Micro Devices Semiconductor device having a group of high performance transistors and method of manufacture thereof
US5952696A (en) * 1997-01-30 1999-09-14 Advanced Micro Devices Complementary metal oxide semiconductor device with selective doping
EP0957521A1 (de) * 1998-05-11 1999-11-17 STMicroelectronics S.r.l. Speicherzellenanordnung hergestellt durch ein Self-Aligned-Source-Verfahren (SAS), die Festwertspeicherzellen (ROM) aufweist, und deren Herstellungsverfahren
US6703670B1 (en) * 2001-04-03 2004-03-09 National Semiconductor Corporation Depletion-mode transistor that eliminates the need to separately set the threshold voltage of the depletion-mode transistor

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3541543A (en) * 1966-07-25 1970-11-17 Texas Instruments Inc Binary decoder
US3618050A (en) 1969-05-07 1971-11-02 Teletype Corp Read-only memory arrays in which a portion of the memory-addressing circuitry is integral to the array
JPS5410836B1 (de) * 1970-06-26 1979-05-10
US3775191A (en) * 1971-06-28 1973-11-27 Bell Canada Northern Electric Modification of channel regions in insulated gate field effect transistors
US4011653A (en) * 1971-08-23 1977-03-15 Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. Method for manufacturing a semiconductor integrated circuit including an insulating gate type semiconductor transistor
JPS4871976A (de) * 1971-12-28 1973-09-28
GB1357515A (en) * 1972-03-10 1974-06-26 Matsushita Electronics Corp Method for manufacturing an mos integrated circuit
JPS5232557B2 (de) * 1972-03-14 1977-08-22
US3985591A (en) * 1972-03-10 1976-10-12 Matsushita Electronics Corporation Method of manufacturing parallel gate matrix circuits
US3873372A (en) * 1973-07-09 1975-03-25 Ibm Method for producing improved transistor devices
US3898105A (en) * 1973-10-25 1975-08-05 Mostek Corp Method for making FET circuits
US3874937A (en) * 1973-10-31 1975-04-01 Gen Instrument Corp Method for manufacturing metal oxide semiconductor integrated circuit of reduced size
DE2356446A1 (de) * 1973-11-12 1975-05-28 Licentia Gmbh Integrierte schaltung mit feldeffekttransistoren
JPS50142128A (de) * 1974-05-07 1975-11-15
US3914855A (en) * 1974-05-09 1975-10-28 Bell Telephone Labor Inc Methods for making MOS read-only memories
JPS5851427B2 (ja) * 1975-09-04 1983-11-16 株式会社日立製作所 絶縁ゲ−ト型リ−ド・オンリ−・メモリの製造方法
US4183093A (en) * 1975-09-04 1980-01-08 Hitachi, Ltd. Semiconductor integrated circuit device composed of insulated gate field-effect transistor

Also Published As

Publication number Publication date
NL185483B (nl) 1989-11-16
MY8200020A (en) 1982-12-31
DE2560425C2 (de) 1987-02-19
FR2323233B1 (de) 1979-04-06
US4514894A (en) 1985-05-07
JPS5230388A (en) 1977-03-08
NL7513708A (nl) 1977-03-08
DE2552644A1 (de) 1977-03-17
JPS5851427B2 (ja) 1983-11-16
HK35681A (en) 1981-07-31
CA1070436A (en) 1980-01-22
DE2552644C2 (de) 1983-10-27
US4235010A (en) 1980-11-25
US4365263A (en) 1982-12-21
IT1049770B (it) 1981-02-10
FR2323233A1 (fr) 1977-04-01
GB1529717A (en) 1978-10-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL185483C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleidereenheid met veldeffecttransistors met geisoleerde poort van de verarmingssoort en de verrijkingssoort.
NL186355B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffekttransistor met geisoleerde poort van een paar complementaire transistors.
NL7612850A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een transis- tor.
NL7613440A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL7506594A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfge- leiderinrichting en halfgeleiderinrichting ver- vaardigd met behulp van de werkwijze.
NL7610332A (nl) Scheidingsinrichting en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.
NL7510336A (nl) Halfgeleiderinrichting en werkwijze voor het ver- vaardigen daarvan.
NL7501529A (nl) Veldeffect halfgeleiderinrichting en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.
NL7602783A (nl) Inrichting en werkwijze voor het vervaardigen van hechtomslagen.
NL7610283A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffekttransistor.
NL7613893A (nl) Halfgeleiderinrichting met gepassiveerd opper- vlak, en werkwijze voor het vervaardigen van de inrichting.
NL185882C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffekttransistor.
NL186478C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL7608923A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL140659B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffecttransistor met een geisoleerde poort en een veldeffecttransistor vervaardigd volgens de werkwijze.
NL7611530A (nl) Werkwijze voor het bekleden van een kopersubstraat, alsmede kopersubstraat bekleed volgens deze werkwijze.
NL162511C (nl) Geintegreerde halfgeleiderschakeling met een laterale transistor en werkwijze voor het vervaardigen van de geintegreerde halfgeleiderschakeling.
NL7606083A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van strenggietprofielen.
NL7505134A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL185044B (nl) Halfgeleider-component en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.
NL164157C (nl) Geintegreerde halfgeleiderschakeling van het ladings- gekoppelde type en werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijke halfgeleiderschakeling.
NL7709870A (nl) Complementair geisoleerde veldeffecthalfgeleider- inrichting met poortwerking en werkwijze voor de vervaardiging daarvan.
NL7513111A (nl) Werkwijze en inrichting voor het doorlopend ver- vaardigen van een schuimstofstreng.
NL7604601A (nl) Halfgeleiderinrichting en werkwijze voor het ver- vaardigen van een dergelijke inrichting.
NL165005B (nl) Halfgeleiderinrichting bevattende veldeffecttransistors met geisoleerde stuurelektrode en werkwijze voor het vervaardigen van de halfgeleiderinrichting.

Legal Events

Date Code Title Description
BC A request for examination has been filed
A85 Still pending on 85-01-01
V4 Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent

Free format text: 951124