NL165566C - Werkwijze voor het volgens een vooraf bepaald patroon etsen van een op een halfgeleiderplaat aangebrachte oxydelaag. - Google Patents

Werkwijze voor het volgens een vooraf bepaald patroon etsen van een op een halfgeleiderplaat aangebrachte oxydelaag.

Info

Publication number
NL165566C
NL165566C NL6908662A NL6908662A NL165566C NL 165566 C NL165566 C NL 165566C NL 6908662 A NL6908662 A NL 6908662A NL 6908662 A NL6908662 A NL 6908662A NL 165566 C NL165566 C NL 165566C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
etching
semi
oxide layer
plate according
conductor plate
Prior art date
Application number
NL6908662A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Other versions
NL165566B (nl
NL6908662A (xx
Original Assignee
Bosch Gmbh Robert
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Bosch Gmbh Robert filed Critical Bosch Gmbh Robert
Publication of NL6908662A publication Critical patent/NL6908662A/xx
Publication of NL165566B publication Critical patent/NL165566B/xx
Application granted granted Critical
Publication of NL165566C publication Critical patent/NL165566C/xx

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B27/00—Photographic printing apparatus
    • G03B27/02—Exposure apparatus for contact printing
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2041—Exposure; Apparatus therefor in the presence of a fluid, e.g. immersion; using fluid cooling means
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/7035—Proximity or contact printers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
NL6908662A 1968-06-08 1969-06-06 Werkwijze voor het volgens een vooraf bepaald patroon etsen van een op een halfgeleiderplaat aangebrachte oxydelaag. NL165566C (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19681764456 DE1764456C3 (de) 1968-06-08 1968-06-08 Verfahren zur Abbildung eines Musters auf eine Photolackschicht

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL6908662A NL6908662A (xx) 1969-12-10
NL165566B NL165566B (nl) 1980-11-17
NL165566C true NL165566C (nl) 1981-04-15

Family

ID=5697997

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL6908662A NL165566C (nl) 1968-06-08 1969-06-06 Werkwijze voor het volgens een vooraf bepaald patroon etsen van een op een halfgeleiderplaat aangebrachte oxydelaag.

Country Status (4)

Country Link
DE (1) DE1764456C3 (xx)
FR (1) FR2010439A1 (xx)
GB (1) GB1248819A (xx)
NL (1) NL165566C (xx)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ZA8244B (en) * 1981-01-16 1982-11-24 Grace W R & Co Method and apparatus for making printed circuit boards

Also Published As

Publication number Publication date
GB1248819A (en) 1971-10-06
DE1764456A1 (de) 1971-07-22
FR2010439A1 (xx) 1970-02-13
DE1764456C3 (de) 1979-10-11
NL165566B (nl) 1980-11-17
NL6908662A (xx) 1969-12-10
DE1764456B2 (de) 1979-02-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL178382C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een gedrukte schakeling op een geisoleerde basisplaat.
NL159533B (nl) Werkwijze voor het met een tussenruimte scheiden van door verdeling van een halfgeleiderschijf gevormde halfgeleiderplaatjes, en inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze.
NL163059C (nl) Werkwijze ter vervaardiging van een halfgeleiderinrich- ting, waarbij een op een oppervlak van een halfgeleider- lichaam aangebrachte laag materiaal met ionen wordt ge- bombardeerd.
NL164178C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een gedrukte bedrading.
NL176902C (nl) Werkwijze voor het vormen van een metaalpatroon op een microporeus hydrofiel oppervlak van een isolerende ondergrond.
NL161620C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde schakeling.
NL142048B (nl) Gelamineerde plaat voor het vervaardigen van gedrukte bedradingen.
NL154560B (nl) Werkwijze voor het reinigen van het oppervlak van een op een halfgeleider aangebrachte metaallaag door kathodeverstuiving, alsmede met deze werkwijze vervaardigde halfgeleiderinrichting.
NL160512C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een van uitsteeksels voorziene plaat.
NL170901C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL161305C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderin- richting.
NL173907C (nl) Grondplaat met geleiderpatroon en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.
NL161617B (nl) Halfgeleiderinrichting met vlak oppervlak en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.
NL162789C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting.
NL163369B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting.
NL143072B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens de werkwijze.
NL173386C (nl) Werkwijze voor het vormen van een metaaloxydebekleding op een ondergrond.
NL152115B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een siliciumhalfgeleiderinrichting door etsen.
NL143734B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderveldeffectinrichting en halfgeleiderveldeffectinrichting verkregen volgens deze werkwijze.
NL168252C (nl) Werkwijze voor het uitvoeren van een oppervlaktebehandeling op een velvormig substraat.
NL171759B (nl) Werkwijze ter vervaardiging van lichtemitterende halfgeleiderinrichtingen.
NL166171C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van, uit meerdere lagen opgebouwde, gedrukte schakelingen en inrichting ter realisering van deze werkwijze.
NL165566C (nl) Werkwijze voor het volgens een vooraf bepaald patroon etsen van een op een halfgeleiderplaat aangebrachte oxydelaag.
NL139414B (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een gelijkrichtende p,n-keerlaag in een kristallijn halfgeleiderplaatje en halfgeleiderinrichting voorzien van het halfgeleiderplaatje vervaardigd volgens de werkwijze.
IT942744B (it) Procedimento per stabilire contat ti chmici su circuiti a strato sottile

Legal Events

Date Code Title Description
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee