NL1023803A1 - Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van faseverschuivingsmaskers. - Google Patents

Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van faseverschuivingsmaskers.

Info

Publication number
NL1023803A1
NL1023803A1 NL1023803A NL1023803A NL1023803A1 NL 1023803 A1 NL1023803 A1 NL 1023803A1 NL 1023803 A NL1023803 A NL 1023803A NL 1023803 A NL1023803 A NL 1023803A NL 1023803 A1 NL1023803 A1 NL 1023803A1
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
phase shift
manufacturing phase
shift masks
masks
manufacturing
Prior art date
Application number
NL1023803A
Other languages
English (en)
Other versions
NL1023803C2 (nl
Inventor
Christof Matthias Schilz
Klaus Eisner
Original Assignee
Infineon Technologies Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Infineon Technologies Ag filed Critical Infineon Technologies Ag
Publication of NL1023803A1 publication Critical patent/NL1023803A1/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL1023803C2 publication Critical patent/NL1023803C2/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/72—Repair or correction of mask defects
    • G03F1/74—Repair or correction of mask defects by charged particle beam [CPB], e.g. focused ion beam
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/26—Phase shift masks [PSM]; PSM blanks; Preparation thereof
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/38—Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
    • G03F1/56—Organic absorbers, e.g. of photo-resists

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
NL1023803A 2002-07-04 2003-07-03 Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van faseverschuivingsmaskers. NL1023803C2 (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10230675A DE10230675B4 (de) 2002-07-04 2002-07-04 Verfahren zur Herstellung von Phasenschiebermasken
DE10230675 2002-07-04

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL1023803A1 true NL1023803A1 (nl) 2004-01-06
NL1023803C2 NL1023803C2 (nl) 2005-04-05

Family

ID=29796203

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL1023803A NL1023803C2 (nl) 2002-07-04 2003-07-03 Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van faseverschuivingsmaskers.

Country Status (3)

Country Link
US (3) US20050191561A1 (nl)
DE (1) DE10230675B4 (nl)
NL (1) NL1023803C2 (nl)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10230675B4 (de) * 2002-07-04 2007-01-25 Infineon Technologies Ag Verfahren zur Herstellung von Phasenschiebermasken
US20090095422A1 (en) * 2007-09-06 2009-04-16 Hitachi Kokusai Electric Inc. Semiconductor manufacturing apparatus and substrate processing method
US8912489B2 (en) * 2013-03-04 2014-12-16 Globalfoundries Inc. Defect removal process

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5846055B2 (ja) 1977-04-30 1983-10-14 三菱電機株式会社 ホトマスクの欠陥修正法
US4197332A (en) * 1977-10-26 1980-04-08 International Business Machines Corporation Sub 100A range line width pattern fabrication
JPS60182726A (ja) * 1984-02-29 1985-09-18 Seiko Instr & Electronics Ltd パタ−ン膜形成方法
US4550257A (en) * 1984-06-29 1985-10-29 International Business Machines Corporation Narrow line width pattern fabrication
JPH0642069B2 (ja) 1984-07-13 1994-06-01 株式会社日立製作所 フォトマスク欠陥修正方法
EP0168510B1 (de) 1984-07-16 1989-01-18 Ibm Deutschland Gmbh Verfahren zur Reparatur von Transmissionsmasken
US4698236A (en) * 1984-10-26 1987-10-06 Ion Beam Systems, Inc. Augmented carbonaceous substrate alteration
EP0361460A3 (en) * 1988-09-29 1990-08-01 Sony Corporation A method for forming a pattern
US5429730A (en) * 1992-11-02 1995-07-04 Kabushiki Kaisha Toshiba Method of repairing defect of structure
US5477058A (en) * 1994-11-09 1995-12-19 Kabushiki Kaisha Toshiba Attenuated phase-shifting mask with opaque reticle alignment marks
US6387602B1 (en) * 2000-02-15 2002-05-14 Silicon Valley Group, Inc. Apparatus and method of cleaning reticles for use in a lithography tool
JP2004537758A (ja) 2001-07-27 2004-12-16 エフ・イ−・アイ・カンパニー 電子ビーム処理
DE10230675B4 (de) * 2002-07-04 2007-01-25 Infineon Technologies Ag Verfahren zur Herstellung von Phasenschiebermasken
US6836371B2 (en) * 2002-07-11 2004-12-28 Ophthonix, Inc. Optical elements and methods for making thereof

Also Published As

Publication number Publication date
DE10230675B4 (de) 2007-01-25
US20050191561A1 (en) 2005-09-01
US7211355B2 (en) 2007-05-01
US20070202419A1 (en) 2007-08-30
US20060037939A1 (en) 2006-02-23
DE10230675A1 (de) 2004-01-29
NL1023803C2 (nl) 2005-04-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL1022177A1 (nl) Inrichting en werkwijze voor het afhandelen van zeer lange instructiewoorden met variabele lengte.
NL1028856A1 (nl) Werkwijze voor het coderen van een film.
EP1710696B8 (en) Semiconductor device and method for activating the same
NL1019802A1 (nl) CMOS halfgeleiderinrichting en werkwijze voor de vervaardiging daarvan.
NL1025117A1 (nl) Organische elektroluminescerende inrichting en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.
NL1025133A1 (nl) Organische elektroluminescerende inrichting en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.
SG119329A1 (en) Semiconductor device and method for manufacturing the same
TWI368320B (en) Solid state imaging device, manufacturing method of the same, and substrate for solid state imaging device
NL1022210A1 (nl) Systeem voor het vervaardigen van halfgeleiderproducten.
NL1026771A1 (nl) Schakelingen en werkwijzen voor aansturen van platte beeldschermen.
EP1966826A4 (en) SEMICONDUCTOR COMPONENT AND METHOD FOR THEIR FORMING
NL1021625A1 (nl) Werkwijze voor het beperken van de mogelijkheid tot bekijken.
NL1022051A1 (nl) Inrichting en een werkwijze voor het vervaardigen van meerlagige metaalproducten.
NL1022229A1 (nl) Werkwijze voor het brouwen van sojasaus.
NL1022281A1 (nl) Inrichting en werkwijze voor het wikkelen van een buigzame leiding.
NL1027830A1 (nl) Gradientspoelinrichting en werkwijze voor het assembleren daarvan.
NL1025480A1 (nl) Inspectiewerkwijze, processor en werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL1025558A1 (nl) Inrichting voor het walsen en een werkwijze voor walsen.
NL1019490A1 (nl) Werkwijze en inrichting voor het berekenen van een reciproque.
NL1021785A1 (nl) Inrichting en werkwijze voor het belichten van een object.
NL1025925A1 (nl) Inrichting voor het verwijderen van stoorsignaal met verschillende karakteristiek en werkwijze voor het verwijderen daarvan.
NL1030640A1 (nl) Beeldinterpolatie-inrichting en werkwijze voor het verhinderen van aliasing.
NL1023803A1 (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van faseverschuivingsmaskers.
NL1031680A1 (nl) Startapparaat voor autogasvoertuig en werkwijze voor aansturing daarvan.
NL1022900A1 (nl) Meerlaagse spiegel voor een luminescerende inrichting en werkwijze voor de vervaardiging daarvan.

Legal Events

Date Code Title Description
AD1A A request for search or an international type search has been filed
RD2N Patents in respect of which a decision has been taken or a report has been made (novelty report)

Effective date: 20050126

PD2B A search report has been drawn up
VD1 Lapsed due to non-payment of the annual fee

Effective date: 20080201