NL1005802C2 - Afvoersysteem voor een reactor alsmede processtelsel voorzien van een dergelijk afvoersysteem. - Google Patents
Afvoersysteem voor een reactor alsmede processtelsel voorzien van een dergelijk afvoersysteem. Download PDFInfo
- Publication number
- NL1005802C2 NL1005802C2 NL1005802A NL1005802A NL1005802C2 NL 1005802 C2 NL1005802 C2 NL 1005802C2 NL 1005802 A NL1005802 A NL 1005802A NL 1005802 A NL1005802 A NL 1005802A NL 1005802 C2 NL1005802 C2 NL 1005802C2
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- valve
- discharge
- reactor
- drain
- discharge pipe
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- 210000003462 vein Anatomy 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 17
- 239000003570 air Substances 0.000 description 14
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000012080 ambient air Substances 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J4/00—Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
- B01J4/008—Feed or outlet control devices
Description
Afvoersysteem voor een reactor alsmede processtelsel voorzien van een dergeliik afvoersysteem.
De onderhavige uitvinding heeft betrekking op een afvoersysteem 5 voor een reactor, zoals een oven, omvattende een afvoerleiding aan te sluiten op de afvoer van die reactor, welke afvoerleiding anderzijds verbonden is met een afvoerkanaal waarin een afzuiginrichting aangebracht is, welke in het afvoerkanaal een onderdruk opwekt, waarbij de afvoerleiding nabij de afvoer van de reactor voorzien is van een ope-10 ning naar de omgeving, in welke opening een klep aangebracht is.
Een dergelijk systeem is bekend uit het Amerikaanse octrooischrift 4.863.374. In de halfgeleiderindustrie en bij andere processen waarbij in een reactor een zeer geringe hoeveelheid gas of ander medium gedoseerd wordt voor het laten verlopen van het desbetreffende proces is 15 het vaak van belang dat de onderdruk aan de afvoerzijde nauwkeurig constant is. Indien een dergelijke onderdruk te veel varieert, va rieert daardoor de doorstroomsnelheid resp. verblijftijd van het betreffende medium door de reactor en wordt daardoor het eindproduct negatief beïnvloed. Dit geldt met name indien het afvoersysteem voor 20 een dergelijke reactor gecombineerd is met het afvoersysteem van andere reactoren. Veranderingen in de procesomstandigheden in die andere reactoren zouden een negatieve invloed kunnen hebben op de procesomstandigheden in die eerste reactor. Dit geldt met name indien het afvoersysteem voorzien is van een centrale afzuiginrichting zoals een 25 waaier en bij het vergroten of verkleinen van het debiet door een reactor zal het debiet in een andere reactor verkleind respectievelijk vergroot worden.
Om dit probleem te vermijden, is in de stand der techniek een aantal voorstellen gedaan.
30 Een eerste voorstel omvat het aanbrengen van een smoorklep in de verbinding tussen de uitlaat van de reactor en de afvoerleiding. Deze smoorklep wordt met de hand op een vaste waarde ingesteld.
Volgens een ander voorstel werd eveneens een dergelijke smoorklep toegepast in de verbinding tussen afvoerleiding en uitlaat, maar deze 35 klep is tijdens het proces stuurbaar. Daartoe is het noodzakelijk een gecompliceerde drukmeter toe te passen en het daardoor gemeten signaal om te zetten in een verplaatsing van de klep met behulp van elektrische, hydraulische of pneumatische middelen. Een dergelijke oplos- 1005802 2 sing is bijzonder kostbaar indien een aantal van dergelijke afvoerlei-dingen en smoorinrichtingen aanwezig is. Bovendien bestaan aanzienlijke inregelproblemen en is het niet eenvoudig mogelijk de druk op een absolute waarde vast te leggen.
5 Bovendien is het bij toepassing van bepaalde giftige gassen nood zakelijk deze voor het uittreden in de vrije atmosfeer minder schadelijk te maken. Dit kan door het aanbrengen van kostbare absorberende middelen. Een ander in de stand der techniek bekend voorstel is het bijmengen van lucht of andere omgevingsgassen waardoor de concentratie 10 vim dergelijke schadelijke producten verminderd wordt. Daartoe wordt een aparte luchtdoseerinrichting voorgesteld waarbij de toevoer van lucht bij voorkeur na de afzuiginrichting plaatsvindt om bedrijf van het afvoersysteem niet onnodig te verstoren.
In het Amerikaanse octrooischrift 4.863-37^ wordt voorgesteld in 15 de afvoerleiding naar het afvoerkanaal een elektrisch bediende klep aan te brengen. Deze klep dient voor het aanzuigen van koude lucht om bij de gassen afkomstig uit een oven bijgemengd te worden. Om het afvoersysteem tegen te hoge temperaturen te beschermen, wordt de toevoer van koude omgevingslucht aan de uitlaat afhankelijk van de tempe-20 ratuur in de oven geregeld. Van een regeling van de druk die heerst in de oven, is geen sprake en gezien het doel van de oven, zijnde het verwarmen van keramische voorwerpen, lijkt dit echter ook niet van belang te zijn.
Het is het doel van de onderhavige uitvinding deze nadelen te 25 vermijden en in een eenvoudig afvoersysteem te voorzien voor het regelen van de onderdruk nabij de uitlaat van een reactor welke op eenvoudige wijze ingeregeld kan worden. Bovendien wordt beoogd in een afvoersysteem te voorzien waarmee het op eenvoudige wijze mogelijk is een verder gas uit de omgeving in de afvoerstroom bij de mengen.
30 Dit doel wordt bij de hierboven beschreven inrichting verwezen lijkt doordat die klep een op het drukverschil daarover reagerende klep is, zodanig ingericht dat ter plaatse van die opening de onderdruk in die afvoerleiding een vooraf bepaalde waarde niet overschrijdt.
35 Aan de uitvinding ligt het inzicht ten grondslag een afzuiginrich ting met een capaciteit toe te passen die voldoende is voor het opwekken van de vereiste onderdruk voor alle reactoren of andere inrichtingen die aangesloten zijn op het afvoersysteem. Vervolgens 1005802 3 laat men deze afzuiginrichting onder optimale bedrijfsomstandigheden werken en wordt het overschot aan debiet steeds bijgeregeld door het toelaten van een grotere of kleinere hoeveelheid lucht met behulp van de klep volgens de uitvinding die zich bevindt 5 nabij de verbinding tussen afvoerleiding en uitlaat van de reac tor. Door het aanzuigen van lucht uit de omgeving wordt de concentratie schadelijke stoffen direct bij de uitlaat van de reactor verlaagd tot een aanvaardbaar niveau. Door bijmengen vein lucht verlaagt de partieeldruk van afgevoerde gassen. Hierdoor wordt 10 condensatie van waterdamp en andere dampen tegengegaan. Wisselin gen in procesomstandigheden in een reactor worden dadelijk gecompenseerd door wijziging van de positie van de klep.
Een dergelijke klep kan elke in de stand der techniek bekende constructie omvatten zoals een veerbelaste al dan niet elektrisch, 15 hydraulisch of pneumatisch bediende klep.
Volgens een bijzonder eenvoudige uitvoering van de uitvinding omvat de klep een gewichtbelaste klep. Door het aanpassen van het gewicht aan het oppervlak van de klep kan in een bijzonder nauwkeurige regeling van de onderdruk ter plaatse voorzien worden. Bij voorkeur is 20 een dergelijke gewichtbelaste klep een schamierklep. Een dergelijke scharnierklep kan in een klephuis opgenomen worden welk klephuis enerzijds deel uitmaakt van de afvoerleiding of een aftakking daarvan en anderzijds voorzien is van een opening die uitmondt in de vrije atmosfeer. Daarbij werkt de eigenlijke klep samen met een ringvormige rand 25 van die opening welke als klepzitting functioneert. Voor optimaal nauwkeurige instelling wordt er de voorkeur aan gegeven dat het scharnier van de klep in gebruikspositie ten minste hoger ligt dan een deel van de klepzitting.
Met de klep volgens de uitvinding is het bijzonder eenvoudig in 30 een terugslagfunctie te voorzien. Dat wil zeggen, mocht op enigerlei wijze op enigerlei plaats in het afvoersysteem een overdruk optreden, dan sluit de klep zodat voorkomen wordt dat schadelijke gassen teruggeblazen worden door de klepopening naar de locatie waar de betreffende reactor opgesteld is.
35 Met de uitvinding kan in een enkele mechanische unit de regeling van de klep alsmede de klep zelf verenigd worden, zodat enige terugkoppeling met de omgeving via complexe systemen, niet noodzakelijk is en steeds gegarandeerd wordt dat de druk in de afvoerleiding en zo de 1005802 4 druk in de betreffende oven geoptimaliseerd is.
De uitvinding heeft eveneens betrekking op een processtelsel omvattende een met een voor de gezondheid schadelijk gas werkende reactor verbonden met het hierboven beschreven afvoersysteem. Als voor-5 beeld van voor de gezondheid schadelijke gassen worden hier genoemd HCl-gassen en PH3. Andere gassen die met het afvoerstelsel volgens de uitvinding afgevoerd kunnen worden, zijn oxidatieproducten, TCA, H2, 02 en waterdamp. Begrepen dient te worden dat dit slechts een beperkte opsomming van de verschillende mogelijkheden is.
10 De uitvinding zal hieronder nader aan de hand van in de tekening afgeheelde uitvoeringsvoorbeelden verduidelijkt worden. Daarbij tonen:
Fig. 1 schematisch in zijaanzicht het afvoersysteem volgens de uitvinding in combinatie met een reactor;
Fig. 2 in detail en gedeeltelijk in doorsnede de klep volgens de 15 uitvinding; en
Fig. 3 in zijaanzicht de klep volgens de uitvinding.
In fig. 1 is met 1 een oven aangegeven. De uitvinding zal aan de hand van een dergelijke oven besproken worden, maar begrepen dient te worden dat elke andere installatie met het afvoersysteem volgens de 20 uitvinding gecombineerd kan worden. In het onderhavige voorbeeld is de oven een inrichting waarin wafers behandeld worden door het langslei-den van een procesgas. Voor bepaalde toepassingen zijn bijzonder lage concentraties van een te doteren gas noodzakelijk en is het van het grootste belang dat een zeer gelijkmatige concentratie van deze lage 25 dotatie over de hele reactor aanwezig is om een uniform proces te verkrijgen. Gas wordt toegevoerd via leiding 20 en beweegt met een constante verblijftijd door de oven. Daartoe is het van belang dat de onderdruk ter plaatse van de uitlaat 19 van de oven tijdens het proces constant is. Deze uitlaat 19 van de oven is via een afvoerleiding 2 30 verbonden met een afvoerkanaal 3· Daarbij is afvoerkanaal 3 voorzien van een afzuiginrichting 4 zoals een waaier die in het algemeen op het dak van de betreffende hal of dergelijke aangebracht zal zijn. Behalve afvoerleiding 2 zijn afvoerleidingen 5 en 6 aanwezig die leiden naar niet nader afgeheelde reactoren of andere afzuigpunten. Afvoerleiding 35 2 is voorzien van een aftakleiding 7 waarop een klep 8 aangebracht is.
21 geeft een af voer vein stikstof aan, die voor koeling en afscheiding gebruikt wordt. Details van de klep 8 blijken uit fig. 3 en 4.
In fig. 3 en 4 is het klephuis van deze klep 8 met 9 aangegeven.
1005802 5
Dit klephuis 9 is enerzijds verbonden met aftakleiding 7 en is anderzijds voorzien van een luchtinlaatopening 10. De doorlaat van lucht door deze opening 10 wordt beheerst door de sturing van een klep 12 die aan kan liggen op een klepzitting 11. Klep 12 bestaat uit een 5 schijfvormig lichaam dat scharnierend bevestigd is via klepschamier 13 met een contragewicht 14. Uitslag van klep 12 wordt beperkt door een aanslagschroef 15. Het kleplichaam is voorzien van een V-afdichting l8 die aangrijpt op klepzitting 11.
Zoals uit fig. 4 blijkt is scharnieras 13 door het huis heen aan 10 ten minste een zijde verlengd en is daarop een wijzer 16 aangebracht die samenwerkt met een schaalverdeling 17 aangebracht op klephuis 9· De positie van klep 12 geeft nauwkeurig het debiet lucht aan dat door opening 10 verplaatst wordt.
Tijdens normaal bedrijf zal de afzuiginrichting 4 overbemeten 15 zijn, d.w.z. zonder de aanwezigheid van klep 8 zou te grote onderdruk heersen ter plaatse van uitlaat 19 van oven 1. Echter door de aanwezigheid van klep 8 wordt de omvang van een dergelijke onderdruk tot de gewenste waarde gereduceerd. Afhankelijk van de instelling van het gewicht zal het kleplichaam 12 meer of minder verwijderd worden van 20 zitting 11 en zal meer of minder lucht toegelaten worden. Mocht door buitengewone omstandigheden de onderdruk minder worden, d.w.z. dat bijvoorbeeld een van de andere afvoerleidingen 5 of 6 meer gas afgeeft, dan zal klep 12 in sluitrichting bewegen. In het omgekeerde geval zal klep 12 openen. Mocht door een onregelmatigheid in de pro-25 ductie een overdruk ontstaan binnen het systeem dan zal klep 12 volledig sluiten waardoor voorkomen wordt dat via opening 10 voor de gezondheid schadelijk gas in de omgeving komt.
Door gebruik van klep 8 wordt ter plaatse van de uitlaat 19 onder normale bedrijfsomstandigheden direct lucht bijgemengd. Dit is met 30 name wenselijk in het geval waarin voor de gezondheid schadelijke en/of condenserende gassen afgevoerd dienen te worden. Door het bij-mengen van lucht zal de concentratie daarvan verlagen waardoor de vereiste norm gehaald kan worden.
Als voorbeeld kan een klep volgens de uitvinding gebruikt worden 35 voor een debiet liggend tussen 20 en 80 m3 lucht/uur bij een onderdruk van ongeveer £ inch waterkolom.
Gebleken is dat het onder een hoek aanbrengen van kleplichaam 12 ten opzichte van de inlaat van klephuis 9 in een optimaal stabiele 1005802 6 stroming voorziet waardoor het niet noodzakelijk is bijzondere dem-pingsmiddelen aan te brengen voor kleplichaam 12. Een en ander wordt nog bevorderd door de positionering van scharnier 13 onder de bovenrand van klepzitting 11.
5 Hoewel de uitvinding hierboven aan de hand van een voorkeursuit voering beschreven is, dient begrepen te worden dat daaraan talrijke wijzigingen aangebracht kunnen worden zonder buiten het bereik van de onderhavige aanvrage te geraken. Zo is het mogelijk het afvoersysteem volgens de uitvinding toe te passen bij andere reactoren of installa-10 ties die bedreven worden met andere gassen of media. Deze en andere wijzigingen worden alle geacht binnen het bereik van de bijgevoegde conclusies te liggen.
1005802
Claims (8)
1. Afvoersysteem voor een reactor zoals een oven (1), omvattende een afvoerleiding (2) aan te sluiten op de afvoer van die reactor, welke afvoerleiding anderzijds verbonden is met een afvoerkanaal (3) 5 waarin een afzuiginrichting (4) aangebracht is, welke in het afvoerkanaal een onderdruk opwekt, waarbij de afvoerleiding nabij de afvoer van de reactor voorzien is van een opening naar de omgeving, in welke opening (10) een klep (12) aangebracht is, met het kenmerk, dat die klep een op het drukverschil daarover reagerende klep is, zodanig 10 ingericht dat ter plaatse van die opening de onderdruk in die afvoerleiding een vooraf bepaalde waarde niet overschrijdt.
2. Afvoersysteem volgens conclusie 1, waarbij die klep omvat een gewicht (14) belaste klep.
3· Afvoersysteem volgens een van de voorgaande conclusies, waarbij 15 die klep een scharnierklep omvat.
4. Afvoersysteem volgens een van de voorgaande conclusies, waarbij die klep in een klephuis (9) opgenomen is, waarbij het inwendige vein het klephuis met die afvoerleiding verbonden is, welk klephuis van een opening voorzien is begrensd door een ringvormige rand (11), welke 20 rand de klepzitting omvat.
5. Afvoersysteem volgens een van de voorgaande conclusies in combinatie met conclusie 3 en 4, waarbij dat scharnierpunt (13) in ge-bruikspositie lager dan een deel van die ringvormige rand ligt.
6. Afvoersysteem volgens een van de voorgaande conclusies, waarbij 25 die klep een terugslagfunctie omvat.
7· Afvoersysteem volgens een van de voorgaande conclusies, waarbij op dat afvoerkanaal verschillende afvoerleidingen (2, 5, 6) zijn aangesloten.
8. Processtelsel omvattende een met een voor de gezondheid schade-30 lijk gas bedreven reactor verbonden met een afvoersysteem volgens een van de voorgaande conclusies. 1005802
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL1005802A NL1005802C2 (nl) | 1997-04-11 | 1997-04-11 | Afvoersysteem voor een reactor alsmede processtelsel voorzien van een dergelijk afvoersysteem. |
US09/202,227 US6132207A (en) | 1997-04-11 | 1998-04-09 | Discharge system for a reactor, and process system provided with a discharge system of this kind |
JP10543767A JP2000514172A (ja) | 1997-04-11 | 1998-04-09 | 反応装置用排出システム |
PCT/NL1998/000204 WO1998046345A1 (en) | 1997-04-11 | 1998-04-09 | Discharge system for a reactor |
AU67515/98A AU6751598A (en) | 1997-04-11 | 1998-04-09 | Discharge system for a reactor |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL1005802 | 1997-04-11 | ||
NL1005802A NL1005802C2 (nl) | 1997-04-11 | 1997-04-11 | Afvoersysteem voor een reactor alsmede processtelsel voorzien van een dergelijk afvoersysteem. |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL1005802C2 true NL1005802C2 (nl) | 1998-10-14 |
Family
ID=19764780
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL1005802A NL1005802C2 (nl) | 1997-04-11 | 1997-04-11 | Afvoersysteem voor een reactor alsmede processtelsel voorzien van een dergelijk afvoersysteem. |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6132207A (nl) |
JP (1) | JP2000514172A (nl) |
AU (1) | AU6751598A (nl) |
NL (1) | NL1005802C2 (nl) |
WO (1) | WO1998046345A1 (nl) |
Families Citing this family (209)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6413081B2 (en) | 1999-09-17 | 2002-07-02 | Pieter Johannes Quintus Van Voorst Vader | Method for purging a furnace and furnace assembly |
US20130023129A1 (en) | 2011-07-20 | 2013-01-24 | Asm America, Inc. | Pressure transmitter for a semiconductor processing environment |
US10714315B2 (en) | 2012-10-12 | 2020-07-14 | Asm Ip Holdings B.V. | Semiconductor reaction chamber showerhead |
US20160376700A1 (en) | 2013-02-01 | 2016-12-29 | Asm Ip Holding B.V. | System for treatment of deposition reactor |
US11015245B2 (en) | 2014-03-19 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Gas-phase reactor and system having exhaust plenum and components thereof |
US10941490B2 (en) | 2014-10-07 | 2021-03-09 | Asm Ip Holding B.V. | Multiple temperature range susceptor, assembly, reactor and system including the susceptor, and methods of using the same |
US10276355B2 (en) | 2015-03-12 | 2019-04-30 | Asm Ip Holding B.V. | Multi-zone reactor, system including the reactor, and method of using the same |
US10458018B2 (en) | 2015-06-26 | 2019-10-29 | Asm Ip Holding B.V. | Structures including metal carbide material, devices including the structures, and methods of forming same |
CN105066682B (zh) * | 2015-08-05 | 2017-03-01 | 清华大学 | 一种快速致密化压力耦合动态烧结炉及烧结方法 |
US10211308B2 (en) | 2015-10-21 | 2019-02-19 | Asm Ip Holding B.V. | NbMC layers |
US11139308B2 (en) | 2015-12-29 | 2021-10-05 | Asm Ip Holding B.V. | Atomic layer deposition of III-V compounds to form V-NAND devices |
US10529554B2 (en) | 2016-02-19 | 2020-01-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming silicon nitride film selectively on sidewalls or flat surfaces of trenches |
US10367080B2 (en) | 2016-05-02 | 2019-07-30 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a germanium oxynitride film |
US11453943B2 (en) | 2016-05-25 | 2022-09-27 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming carbon-containing silicon/metal oxide or nitride film by ALD using silicon precursor and hydrocarbon precursor |
US9859151B1 (en) | 2016-07-08 | 2018-01-02 | Asm Ip Holding B.V. | Selective film deposition method to form air gaps |
US10612137B2 (en) | 2016-07-08 | 2020-04-07 | Asm Ip Holdings B.V. | Organic reactants for atomic layer deposition |
US9812320B1 (en) | 2016-07-28 | 2017-11-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
KR102532607B1 (ko) | 2016-07-28 | 2023-05-15 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 가공 장치 및 그 동작 방법 |
US9887082B1 (en) | 2016-07-28 | 2018-02-06 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
US11532757B2 (en) | 2016-10-27 | 2022-12-20 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of charge trapping layers |
US10714350B2 (en) | 2016-11-01 | 2020-07-14 | ASM IP Holdings, B.V. | Methods for forming a transition metal niobium nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures |
KR102546317B1 (ko) | 2016-11-15 | 2023-06-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기체 공급 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
KR20180068582A (ko) | 2016-12-14 | 2018-06-22 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
US11581186B2 (en) | 2016-12-15 | 2023-02-14 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus |
US11447861B2 (en) | 2016-12-15 | 2022-09-20 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus and a method of forming a patterned structure |
KR20180070971A (ko) | 2016-12-19 | 2018-06-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
US10269558B2 (en) | 2016-12-22 | 2019-04-23 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a structure on a substrate |
US11390950B2 (en) | 2017-01-10 | 2022-07-19 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor system and method to reduce residue buildup during a film deposition process |
US10468261B2 (en) | 2017-02-15 | 2019-11-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metallic film on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures |
US10529563B2 (en) | 2017-03-29 | 2020-01-07 | Asm Ip Holdings B.V. | Method for forming doped metal oxide films on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures |
US10770286B2 (en) | 2017-05-08 | 2020-09-08 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for selectively forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures |
US11306395B2 (en) | 2017-06-28 | 2022-04-19 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related deposition apparatus |
KR20190009245A (ko) | 2017-07-18 | 2019-01-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반도체 소자 구조물 형성 방법 및 관련된 반도체 소자 구조물 |
US10541333B2 (en) | 2017-07-19 | 2020-01-21 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
US11374112B2 (en) | 2017-07-19 | 2022-06-28 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
US11018002B2 (en) | 2017-07-19 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for selectively depositing a Group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
US10590535B2 (en) | 2017-07-26 | 2020-03-17 | Asm Ip Holdings B.V. | Chemical treatment, deposition and/or infiltration apparatus and method for using the same |
US10770336B2 (en) | 2017-08-08 | 2020-09-08 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate lift mechanism and reactor including same |
US10692741B2 (en) | 2017-08-08 | 2020-06-23 | Asm Ip Holdings B.V. | Radiation shield |
US11139191B2 (en) | 2017-08-09 | 2021-10-05 | Asm Ip Holding B.V. | Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith |
US11769682B2 (en) | 2017-08-09 | 2023-09-26 | Asm Ip Holding B.V. | Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith |
US11830730B2 (en) | 2017-08-29 | 2023-11-28 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method and apparatus |
US11056344B2 (en) | 2017-08-30 | 2021-07-06 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method |
KR102491945B1 (ko) | 2017-08-30 | 2023-01-26 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
US11295980B2 (en) | 2017-08-30 | 2022-04-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a molybdenum metal film over a dielectric surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures |
US10658205B2 (en) | 2017-09-28 | 2020-05-19 | Asm Ip Holdings B.V. | Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber |
US10403504B2 (en) | 2017-10-05 | 2019-09-03 | Asm Ip Holding B.V. | Method for selectively depositing a metallic film on a substrate |
US11022879B2 (en) | 2017-11-24 | 2021-06-01 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming an enhanced unexposed photoresist layer |
JP7214724B2 (ja) | 2017-11-27 | 2023-01-30 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. | バッチ炉で利用されるウェハカセットを収納するための収納装置 |
US11639811B2 (en) | 2017-11-27 | 2023-05-02 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus including a clean mini environment |
US10872771B2 (en) | 2018-01-16 | 2020-12-22 | Asm Ip Holding B. V. | Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures |
TW202325889A (zh) | 2018-01-19 | 2023-07-01 | 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 | 沈積方法 |
US11482412B2 (en) | 2018-01-19 | 2022-10-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a gap-fill layer by plasma-assisted deposition |
US11081345B2 (en) | 2018-02-06 | 2021-08-03 | Asm Ip Holding B.V. | Method of post-deposition treatment for silicon oxide film |
CN111699278B (zh) | 2018-02-14 | 2023-05-16 | Asm Ip私人控股有限公司 | 通过循环沉积工艺在衬底上沉积含钌膜的方法 |
US10896820B2 (en) | 2018-02-14 | 2021-01-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process |
KR102636427B1 (ko) | 2018-02-20 | 2024-02-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 및 장치 |
US10975470B2 (en) | 2018-02-23 | 2021-04-13 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for detecting or monitoring for a chemical precursor in a high temperature environment |
US11473195B2 (en) | 2018-03-01 | 2022-10-18 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus and a method for processing a substrate |
US11629406B2 (en) | 2018-03-09 | 2023-04-18 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus comprising one or more pyrometers for measuring a temperature of a substrate during transfer of the substrate |
US11114283B2 (en) | 2018-03-16 | 2021-09-07 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor, system including the reactor, and methods of manufacturing and using same |
KR102646467B1 (ko) | 2018-03-27 | 2024-03-11 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 상에 전극을 형성하는 방법 및 전극을 포함하는 반도체 소자 구조 |
US11088002B2 (en) | 2018-03-29 | 2021-08-10 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate rack and a substrate processing system and method |
US11230766B2 (en) | 2018-03-29 | 2022-01-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
TW202344708A (zh) | 2018-05-08 | 2023-11-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 藉由循環沉積製程於基板上沉積氧化物膜之方法及相關裝置結構 |
KR102596988B1 (ko) | 2018-05-28 | 2023-10-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 및 그에 의해 제조된 장치 |
US11270899B2 (en) | 2018-06-04 | 2022-03-08 | Asm Ip Holding B.V. | Wafer handling chamber with moisture reduction |
US11718913B2 (en) | 2018-06-04 | 2023-08-08 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution system and reactor system including same |
US11286562B2 (en) | 2018-06-08 | 2022-03-29 | Asm Ip Holding B.V. | Gas-phase chemical reactor and method of using same |
KR102568797B1 (ko) | 2018-06-21 | 2023-08-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 시스템 |
US10797133B2 (en) | 2018-06-21 | 2020-10-06 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a phosphorus doped silicon arsenide film and related semiconductor device structures |
KR20210027265A (ko) | 2018-06-27 | 2021-03-10 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 금속 함유 재료를 형성하기 위한 주기적 증착 방법 및 금속 함유 재료를 포함하는 막 및 구조체 |
CN112292478A (zh) | 2018-06-27 | 2021-01-29 | Asm Ip私人控股有限公司 | 用于形成含金属的材料的循环沉积方法及包含含金属的材料的膜和结构 |
US10612136B2 (en) | 2018-06-29 | 2020-04-07 | ASM IP Holding, B.V. | Temperature-controlled flange and reactor system including same |
US10755922B2 (en) | 2018-07-03 | 2020-08-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
US10388513B1 (en) | 2018-07-03 | 2019-08-20 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
US11053591B2 (en) | 2018-08-06 | 2021-07-06 | Asm Ip Holding B.V. | Multi-port gas injection system and reactor system including same |
US11430674B2 (en) | 2018-08-22 | 2022-08-30 | Asm Ip Holding B.V. | Sensor array, apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods |
US11024523B2 (en) | 2018-09-11 | 2021-06-01 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
KR20200030162A (ko) | 2018-09-11 | 2020-03-20 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 증착 방법 |
US11049751B2 (en) | 2018-09-14 | 2021-06-29 | Asm Ip Holding B.V. | Cassette supply system to store and handle cassettes and processing apparatus equipped therewith |
CN110970344A (zh) | 2018-10-01 | 2020-04-07 | Asm Ip控股有限公司 | 衬底保持设备、包含所述设备的系统及其使用方法 |
US11232963B2 (en) | 2018-10-03 | 2022-01-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
KR102592699B1 (ko) | 2018-10-08 | 2023-10-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 박막 증착 장치와 기판 처리 장치 |
KR102605121B1 (ko) | 2018-10-19 | 2023-11-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
KR102546322B1 (ko) | 2018-10-19 | 2023-06-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
USD948463S1 (en) | 2018-10-24 | 2022-04-12 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor for semiconductor substrate supporting apparatus |
US11087997B2 (en) | 2018-10-31 | 2021-08-10 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus for processing substrates |
KR20200051105A (ko) | 2018-11-02 | 2020-05-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
US11572620B2 (en) | 2018-11-06 | 2023-02-07 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selectively depositing an amorphous silicon film on a substrate |
US11031242B2 (en) | 2018-11-07 | 2021-06-08 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a boron doped silicon germanium film |
US10847366B2 (en) | 2018-11-16 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a transition metal chalcogenide film on a substrate by a cyclical deposition process |
US10818758B2 (en) | 2018-11-16 | 2020-10-27 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures |
US11217444B2 (en) | 2018-11-30 | 2022-01-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming an ultraviolet radiation responsive metal oxide-containing film |
KR102636428B1 (ko) | 2018-12-04 | 2024-02-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치를 세정하는 방법 |
US11158513B2 (en) | 2018-12-13 | 2021-10-26 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a rhenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures |
TW202037745A (zh) | 2018-12-14 | 2020-10-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成裝置結構之方法、其所形成之結構及施行其之系統 |
TWI819180B (zh) | 2019-01-17 | 2023-10-21 | 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 | 藉由循環沈積製程於基板上形成含過渡金屬膜之方法 |
KR20200091543A (ko) | 2019-01-22 | 2020-07-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
CN111524788B (zh) | 2019-02-01 | 2023-11-24 | Asm Ip私人控股有限公司 | 氧化硅的拓扑选择性膜形成的方法 |
TW202104632A (zh) | 2019-02-20 | 2021-02-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用來填充形成於基材表面內之凹部的循環沉積方法及設備 |
KR102626263B1 (ko) | 2019-02-20 | 2024-01-16 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 처리 단계를 포함하는 주기적 증착 방법 및 이를 위한 장치 |
US11482533B2 (en) | 2019-02-20 | 2022-10-25 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus and methods for plug fill deposition in 3-D NAND applications |
KR102638425B1 (ko) | 2019-02-20 | 2024-02-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 표면 내에 형성된 오목부를 충진하기 위한 방법 및 장치 |
TW202100794A (zh) | 2019-02-22 | 2021-01-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基材處理設備及處理基材之方法 |
KR20200108242A (ko) | 2019-03-08 | 2020-09-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 실리콘 질화물 층을 선택적으로 증착하는 방법, 및 선택적으로 증착된 실리콘 질화물 층을 포함하는 구조체 |
KR20200108243A (ko) | 2019-03-08 | 2020-09-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | SiOC 층을 포함한 구조체 및 이의 형성 방법 |
KR20200108248A (ko) | 2019-03-08 | 2020-09-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | SiOCN 층을 포함한 구조체 및 이의 형성 방법 |
JP2020167398A (ja) | 2019-03-28 | 2020-10-08 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | ドアオープナーおよびドアオープナーが提供される基材処理装置 |
KR20200116855A (ko) | 2019-04-01 | 2020-10-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반도체 소자를 제조하는 방법 |
KR20200123380A (ko) | 2019-04-19 | 2020-10-29 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 층 형성 방법 및 장치 |
KR20200125453A (ko) | 2019-04-24 | 2020-11-04 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기상 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법 |
KR20200130118A (ko) | 2019-05-07 | 2020-11-18 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 비정질 탄소 중합체 막을 개질하는 방법 |
KR20200130121A (ko) | 2019-05-07 | 2020-11-18 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 딥 튜브가 있는 화학물질 공급원 용기 |
KR20200130652A (ko) | 2019-05-10 | 2020-11-19 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 표면 상에 재료를 증착하는 방법 및 본 방법에 따라 형성된 구조 |
JP2020188255A (ja) | 2019-05-16 | 2020-11-19 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. | ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法 |
USD975665S1 (en) | 2019-05-17 | 2023-01-17 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
USD947913S1 (en) | 2019-05-17 | 2022-04-05 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
USD935572S1 (en) | 2019-05-24 | 2021-11-09 | Asm Ip Holding B.V. | Gas channel plate |
USD922229S1 (en) | 2019-06-05 | 2021-06-15 | Asm Ip Holding B.V. | Device for controlling a temperature of a gas supply unit |
KR20200141002A (ko) | 2019-06-06 | 2020-12-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 배기 가스 분석을 포함한 기상 반응기 시스템을 사용하는 방법 |
KR20200143254A (ko) | 2019-06-11 | 2020-12-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 개질 가스를 사용하여 전자 구조를 형성하는 방법, 상기 방법을 수행하기 위한 시스템, 및 상기 방법을 사용하여 형성되는 구조 |
USD944946S1 (en) | 2019-06-14 | 2022-03-01 | Asm Ip Holding B.V. | Shower plate |
USD931978S1 (en) | 2019-06-27 | 2021-09-28 | Asm Ip Holding B.V. | Showerhead vacuum transport |
KR20210005515A (ko) | 2019-07-03 | 2021-01-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치용 온도 제어 조립체 및 이를 사용하는 방법 |
JP2021015791A (ja) | 2019-07-09 | 2021-02-12 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. | 同軸導波管を用いたプラズマ装置、基板処理方法 |
CN112216646A (zh) | 2019-07-10 | 2021-01-12 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板支撑组件及包括其的基板处理装置 |
KR20210010307A (ko) | 2019-07-16 | 2021-01-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
KR20210010816A (ko) | 2019-07-17 | 2021-01-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 라디칼 보조 점화 플라즈마 시스템 및 방법 |
KR20210010820A (ko) | 2019-07-17 | 2021-01-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 실리콘 게르마늄 구조를 형성하는 방법 |
US11643724B2 (en) | 2019-07-18 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming structures using a neutral beam |
CN112242296A (zh) | 2019-07-19 | 2021-01-19 | Asm Ip私人控股有限公司 | 形成拓扑受控的无定形碳聚合物膜的方法 |
TW202113936A (zh) | 2019-07-29 | 2021-04-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於利用n型摻雜物及/或替代摻雜物選擇性沉積以達成高摻雜物併入之方法 |
CN112309900A (zh) | 2019-07-30 | 2021-02-02 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
CN112309899A (zh) | 2019-07-30 | 2021-02-02 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
US11587814B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-02-21 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
US11227782B2 (en) | 2019-07-31 | 2022-01-18 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
US11587815B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-02-21 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
KR20210018759A (ko) | 2019-08-05 | 2021-02-18 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 화학물질 공급원 용기를 위한 액체 레벨 센서 |
USD965044S1 (en) | 2019-08-19 | 2022-09-27 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
USD965524S1 (en) | 2019-08-19 | 2022-10-04 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor support |
JP2021031769A (ja) | 2019-08-21 | 2021-03-01 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. | 成膜原料混合ガス生成装置及び成膜装置 |
USD940837S1 (en) | 2019-08-22 | 2022-01-11 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode |
USD979506S1 (en) | 2019-08-22 | 2023-02-28 | Asm Ip Holding B.V. | Insulator |
USD949319S1 (en) | 2019-08-22 | 2022-04-19 | Asm Ip Holding B.V. | Exhaust duct |
KR20210024423A (ko) | 2019-08-22 | 2021-03-05 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 홀을 구비한 구조체를 형성하기 위한 방법 |
USD930782S1 (en) | 2019-08-22 | 2021-09-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distributor |
US11286558B2 (en) | 2019-08-23 | 2022-03-29 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a molybdenum nitride film on a surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures including a molybdenum nitride film |
KR20210024420A (ko) | 2019-08-23 | 2021-03-05 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 비스(디에틸아미노)실란을 사용하여 peald에 의해 개선된 품질을 갖는 실리콘 산화물 막을 증착하기 위한 방법 |
KR20210029090A (ko) | 2019-09-04 | 2021-03-15 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 희생 캡핑 층을 이용한 선택적 증착 방법 |
KR20210029663A (ko) | 2019-09-05 | 2021-03-16 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
US11562901B2 (en) | 2019-09-25 | 2023-01-24 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing method |
CN112593212B (zh) | 2019-10-02 | 2023-12-22 | Asm Ip私人控股有限公司 | 通过循环等离子体增强沉积工艺形成拓扑选择性氧化硅膜的方法 |
TW202129060A (zh) | 2019-10-08 | 2021-08-01 | 荷蘭商Asm Ip控股公司 | 基板處理裝置、及基板處理方法 |
TW202115273A (zh) | 2019-10-10 | 2021-04-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成光阻底層之方法及包括光阻底層之結構 |
KR20210045930A (ko) | 2019-10-16 | 2021-04-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 실리콘 산화물의 토폴로지-선택적 막의 형성 방법 |
US11637014B2 (en) | 2019-10-17 | 2023-04-25 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selective deposition of doped semiconductor material |
KR20210047808A (ko) | 2019-10-21 | 2021-04-30 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 막을 선택적으로 에칭하기 위한 장치 및 방법 |
US11646205B2 (en) | 2019-10-29 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Methods of selectively forming n-type doped material on a surface, systems for selectively forming n-type doped material, and structures formed using same |
KR20210054983A (ko) | 2019-11-05 | 2021-05-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 도핑된 반도체 층을 갖는 구조체 및 이를 형성하기 위한 방법 및 시스템 |
US11501968B2 (en) | 2019-11-15 | 2022-11-15 | Asm Ip Holding B.V. | Method for providing a semiconductor device with silicon filled gaps |
KR20210062561A (ko) | 2019-11-20 | 2021-05-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판의 표면 상에 탄소 함유 물질을 증착하는 방법, 상기 방법을 사용하여 형성된 구조물, 및 상기 구조물을 형성하기 위한 시스템 |
CN112951697A (zh) | 2019-11-26 | 2021-06-11 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
US11450529B2 (en) | 2019-11-26 | 2022-09-20 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selectively forming a target film on a substrate comprising a first dielectric surface and a second metallic surface |
CN112885692A (zh) | 2019-11-29 | 2021-06-01 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
CN112885693A (zh) | 2019-11-29 | 2021-06-01 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
JP2021090042A (ja) | 2019-12-02 | 2021-06-10 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. | 基板処理装置、基板処理方法 |
KR20210070898A (ko) | 2019-12-04 | 2021-06-15 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
CN112992667A (zh) | 2019-12-17 | 2021-06-18 | Asm Ip私人控股有限公司 | 形成氮化钒层的方法和包括氮化钒层的结构 |
US11527403B2 (en) | 2019-12-19 | 2022-12-13 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for filling a gap feature on a substrate surface and related semiconductor structures |
KR20210095050A (ko) | 2020-01-20 | 2021-07-30 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 형성 방법 및 박막 표면 개질 방법 |
TW202130846A (zh) | 2020-02-03 | 2021-08-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成包括釩或銦層的結構之方法 |
KR20210100010A (ko) | 2020-02-04 | 2021-08-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 대형 물품의 투과율 측정을 위한 방법 및 장치 |
US11776846B2 (en) | 2020-02-07 | 2023-10-03 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing gap filling fluids and related systems and devices |
TW202146715A (zh) | 2020-02-17 | 2021-12-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於生長磷摻雜矽層之方法及其系統 |
KR20210116240A (ko) | 2020-03-11 | 2021-09-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 조절성 접합부를 갖는 기판 핸들링 장치 |
KR20210116249A (ko) | 2020-03-11 | 2021-09-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 록아웃 태그아웃 어셈블리 및 시스템 그리고 이의 사용 방법 |
CN113394086A (zh) | 2020-03-12 | 2021-09-14 | Asm Ip私人控股有限公司 | 用于制造具有目标拓扑轮廓的层结构的方法 |
KR20210124042A (ko) | 2020-04-02 | 2021-10-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 형성 방법 |
TW202146689A (zh) | 2020-04-03 | 2021-12-16 | 荷蘭商Asm Ip控股公司 | 阻障層形成方法及半導體裝置的製造方法 |
TW202145344A (zh) | 2020-04-08 | 2021-12-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於選擇性蝕刻氧化矽膜之設備及方法 |
US11821078B2 (en) | 2020-04-15 | 2023-11-21 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming precoat film and method for forming silicon-containing film |
TW202146831A (zh) | 2020-04-24 | 2021-12-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 垂直批式熔爐總成、及用於冷卻垂直批式熔爐之方法 |
KR20210132600A (ko) | 2020-04-24 | 2021-11-04 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 바나듐, 질소 및 추가 원소를 포함한 층을 증착하기 위한 방법 및 시스템 |
KR20210132576A (ko) | 2020-04-24 | 2021-11-04 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 바나듐 나이트라이드 함유 층을 형성하는 방법 및 이를 포함하는 구조 |
KR20210134226A (ko) | 2020-04-29 | 2021-11-09 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 고체 소스 전구체 용기 |
KR20210134869A (ko) | 2020-05-01 | 2021-11-11 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | Foup 핸들러를 이용한 foup의 빠른 교환 |
KR20210141379A (ko) | 2020-05-13 | 2021-11-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반응기 시스템용 레이저 정렬 고정구 |
KR20210143653A (ko) | 2020-05-19 | 2021-11-29 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
KR20210145078A (ko) | 2020-05-21 | 2021-12-01 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 다수의 탄소 층을 포함한 구조체 및 이를 형성하고 사용하는 방법 |
TW202201602A (zh) | 2020-05-29 | 2022-01-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基板處理方法 |
TW202218133A (zh) | 2020-06-24 | 2022-05-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成含矽層之方法 |
TW202217953A (zh) | 2020-06-30 | 2022-05-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基板處理方法 |
KR20220010438A (ko) | 2020-07-17 | 2022-01-25 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 포토리소그래피에 사용하기 위한 구조체 및 방법 |
TW202204662A (zh) | 2020-07-20 | 2022-02-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於沉積鉬層之方法及系統 |
US11725280B2 (en) | 2020-08-26 | 2023-08-15 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming metal silicon oxide and metal silicon oxynitride layers |
USD990534S1 (en) | 2020-09-11 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Weighted lift pin |
USD1012873S1 (en) | 2020-09-24 | 2024-01-30 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode for semiconductor processing apparatus |
TW202229613A (zh) | 2020-10-14 | 2022-08-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 於階梯式結構上沉積材料的方法 |
TW202217037A (zh) | 2020-10-22 | 2022-05-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 沉積釩金屬的方法、結構、裝置及沉積總成 |
TW202223136A (zh) | 2020-10-28 | 2022-06-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於在基板上形成層之方法、及半導體處理系統 |
TW202235675A (zh) | 2020-11-30 | 2022-09-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 注入器、及基板處理設備 |
US11946137B2 (en) | 2020-12-16 | 2024-04-02 | Asm Ip Holding B.V. | Runout and wobble measurement fixtures |
TW202231903A (zh) | 2020-12-22 | 2022-08-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 過渡金屬沉積方法、過渡金屬層、用於沉積過渡金屬於基板上的沉積總成 |
USD980813S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas flow control plate for substrate processing apparatus |
USD980814S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distributor for substrate processing apparatus |
USD981973S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-28 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor wall for substrate processing apparatus |
USD1023959S1 (en) | 2021-05-11 | 2024-04-23 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode for substrate processing apparatus |
USD990441S1 (en) | 2021-09-07 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Gas flow control plate |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4725204A (en) * | 1986-11-05 | 1988-02-16 | Pennwalt Corporation | Vacuum manifold pumping system |
US4863374A (en) * | 1987-03-27 | 1989-09-05 | Edward Orton, Jr., Ceramic Foundation | Kiln with ventilation system |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4502503A (en) * | 1982-02-24 | 1985-03-05 | Anchor/Darling Valve Company | Vacuum breaker valve with internally balanced disc |
US4620508A (en) * | 1985-09-25 | 1986-11-04 | Exxon Research And Engineering Company | Gas discharge and/or distribution system |
US5769628A (en) * | 1996-05-03 | 1998-06-23 | Vanguard International Semiconductor Corporation | Furnace exhaust system with regulator |
US5738511A (en) * | 1996-06-07 | 1998-04-14 | Council Of Scientific & Industrial Research | Vertical shaft kiln |
-
1997
- 1997-04-11 NL NL1005802A patent/NL1005802C2/nl not_active IP Right Cessation
-
1998
- 1998-04-09 WO PCT/NL1998/000204 patent/WO1998046345A1/en active Application Filing
- 1998-04-09 AU AU67515/98A patent/AU6751598A/en not_active Abandoned
- 1998-04-09 US US09/202,227 patent/US6132207A/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-04-09 JP JP10543767A patent/JP2000514172A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4725204A (en) * | 1986-11-05 | 1988-02-16 | Pennwalt Corporation | Vacuum manifold pumping system |
US4863374A (en) * | 1987-03-27 | 1989-09-05 | Edward Orton, Jr., Ceramic Foundation | Kiln with ventilation system |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JACOBS R P: "KEEP YOUR VACUUM SYSTEM UNDER TIGHT CONTROL", I & CS - INDUSTRIAL AND PROCESS CONTROL MAGAZINE, vol. 67, no. 1, 1 January 1994 (1994-01-01), pages 53 - 56, XP000435491 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6132207A (en) | 2000-10-17 |
AU6751598A (en) | 1998-11-11 |
JP2000514172A (ja) | 2000-10-24 |
WO1998046345A1 (en) | 1998-10-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL1005802C2 (nl) | Afvoersysteem voor een reactor alsmede processtelsel voorzien van een dergelijk afvoersysteem. | |
US6419455B1 (en) | System for regulating pressure in a vacuum chamber, vacuum pumping unit equipped with same | |
ATE305590T1 (de) | Lagerungs und verteilungssystem für aussigkeiten | |
CN1155338A (zh) | 近红外分析仪的温度控制 | |
US6752710B2 (en) | Closed capture emission system | |
US20070190474A1 (en) | Systems and methods of controlling systems | |
KR0165146B1 (ko) | 저장 콘테이너의 불활성 형성용 장치 | |
AU2002240761A1 (en) | System and process for the treatment of gaseous emissions | |
US20030138242A1 (en) | Vapor flow controller | |
JP2001007192A (ja) | コンテナに貯蔵した物品の処理方法及びデバイス並びにそのデバイスを備えた設備 | |
CA2380277C (en) | Closed capture emission system | |
US20230096772A1 (en) | Apparatus and methods to reduce particles in a film deposition chamber | |
US210750A (en) | Improvement in gas-regulators | |
KR0116279Y1 (ko) | 저압화학증착장치 | |
EP0928834B1 (en) | Method and apparatus for controlling a furnace atmosphere dew point | |
CN219547016U (zh) | 一种用于工业电窑炉的加热区露点控制系统 | |
US352594A (en) | Volumetric regulator | |
JP7313171B2 (ja) | 流動焼却炉の制御装置および流動焼却炉の制御方法 | |
US157676A (en) | Improvement in pressure-regulators | |
FR2837562B1 (fr) | Dispositif de traitement d'air et procede de traitement d'air mis en oeuvre dans un tel dispositif | |
JPH07212030A (ja) | チッソリフロー装置 | |
US197842A (en) | Improvement in gas-governors | |
US775393A (en) | Regulator for compressors or the like. | |
DE58902757D1 (de) | Ventil fuer tiefkalte fluessige gase. | |
JPS63238324A (ja) | レキユペレ−タ出口排ガス温度制御方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PD2B | A search report has been drawn up | ||
VD1 | Lapsed due to non-payment of the annual fee |
Effective date: 20011101 |