MXPA97003323A

MXPA97003323A - Mejorado enfriamiento de lampara para un montajereactor de lampara uv

Info

Publication number: MXPA97003323A
Application number: MXPA/A/1997/003323A
Authority: MX
Inventors: C Hallett Ronald
Original assignee: Cryptonics Corporation
Priority date: 1994-11-07
Filing date: 1995-11-06
Publication date: 1998-02-01

Abstract

La presente invención se refiere a un montaje reactor para destruir contaminantes en fluidos mediante la aplicación de radiación UV para promover dicha destrucción, el montaje reactor que comprende:i) una columna del reactor con una entrada en un extremo para introducir fluidos al reactor y una salida en el otro extremo para retirar fluidos tratados del reactor, ii) una lámpara de emisión de radiación de UV que opera a temperaturas que exceden los 300§C y colocada en la columna del reactor, iii) un forro cilíndrico protector, transparente a la radiación ultravioleta para la lámpara, el forro es concéntrico con la lámpara y aisla la lámpara del interior del reactor, la columna del reactor tiene una pared que define un espacio de reactor a través del cual los fluidos a tratarse circulan de la entrada del reactor hasta la salida del reactor, con lo cual la corriente de los fluidos sobre el forro efectúa el enfriamiento del forro debido al calentamiento de la lámpara, iv) cada extremo del forro que se proyecta a través de la pared de la columna del reactor y medios para sellar cada extremo de forro a la pared del reactor con lo que cada extremo del forro se abre hacia fuera del reactor, los medios para sellar retienen de esta manera fluidos que se están tratando en el espacio del reactor;v) la lámpara tiene una primera porción terminal y una segunda porción terminal, siendo la lámpara de longitud suficiente para extender las porciones terminales más alláde extremos abiertos correspondientes del forro, vi) medios para soportar cada terminal en una porción correspondiente de la pared del reactor, cada uno de los medios de soporte tiene una porción de acoplamiento de lámpara que recorre el forro de extremo abierto en una forma que proporciona comunicación aérea con el interior del forro;vii) medios para dirigir aire de enfriamiento sobre cada una de las porciones terminales primera y segunda, para enfriar las porciones terminales y de esta manera evitar el deterioro de las porciones terminales de lámpara debido a calentamiento excesivo, el forro tiene un diámetro interno mayor que un diámetro externo de la lámpara, los medios para dirigir el aire de enfriamiento sobre las terminales se adaptan para desarrollar un valor de presión de aire en un primer extremo correspondiente del forro mayor que un valor de presión de aire en un segundo extremo correspondiente del forro, con lo cual se asegura una corriente constante de aire de enfriamiento a través del forro y sobre la lámpara, en virtud del primer y segundo extremos de forro abiertos hacia fuera de la pared del reactor, este flujo constante de aire de enfriamiento se controla para permitir que la lámpara funcione a temperaturas operativasóptimas, viii) la mejora que comprende:un sistema de descarga para los medios, para dirigir el aire enfriamiento, el sistema de descarga para los medios, para dirigir el aire enfriamiento, el sistema de descarga comprende un ventilador de descarga y ductos adaptados para llevar aire de enfriamiento sobre la primera porción terminal a través del forro y sobre la lámpara hacia la segunda porción terminal y para llevar aire de enfriamiento sobre la segunda porción terminal, el ventilador de descarga, desahoga el aire de enfriamiento reunido del forro y de la segunda porción terminal, los ductos proporcionan una entrada de aire para suplementar aire de enfriamiento llevado sobre la segunda porción terminal.

Description

MEJORADO ENFRI MXEH O DE LAMPARA PASA UN MONTAJE CAMPO DE LA INVENCIÓN Esta invención se relaciona a un sistema de enfriamiento mejorado para un reactor que tiene lámparas ultravioleta (UV), la radiación de lae cuales trata un medio fluido por feíemplo, agua, aire o solvente. Más particularmente, el sistema de reactor se adapta para tratar contaminante--, en los fluidos por uso de las lámparas emisoras de UV que operan a altas temperaturas normalmente en exceso de 300UC. Awvwrn:n?-ift?fi r>? IA T-WF-N-f-TOK Radiación u I t**avio1 p-tn «s un caballo de trabaio importante «n 1 « pr-munidad ir- u-stria-l para promover reaocionc-t. química---, ipi iar reaccionas químicae , deqradar molécula--, orgánicas id inorgánica--., inducir p-utacionoa en siate-nas biolóqicos, actuar como un agente anti-viral y bactericida y sßMßjantßß. Normalmente, la fuente de radiación ultravioleta eß omite cicadc una ld pura de deacarga eléctrica que Llene diversos tipoe de qaßße, que cuando se «x iLan por lu üescarqa eléctrica emiten radiación tív. Estas lámparas en qeneral se cftteqorizan cou-o l?iup-uais Ue intenaidad baja o media/aita. Pueden operar ? presiones altas o baj para los qases dentro de las lamperas. Normalmente, las lamparas son de un material ae cuarzo que es transparente a la radiación IJV emitida. Las lámparas pueden operar a temperaturas bajas o altas en la g?ma dv aproximadamente 30"C hasta llOQ'C. La aiimenta-r-ión de energía de estas lámparas puede estar en la gama dn menos 40 watts a en exceso de 60,000 watts de radiación UV. La© lámparas incluso pueden ajustarse a la medida en la medida que una cierta porción del efecto de UV »• omite o mejora en vez de toda la porción del efecto de UV, Una fuerza excitad-ira para ßeta variedad de lámparas UV. es que cada una de la* aplicaciones industriales anteriores requiere lámparas- que tienen diferentes intensidades de UV, diferentes longitud de onda de amisión, presión y temperatura operativas y requerimiento-? de *3n*?-<jía> Normalmente las lámparas , cunto se emplean en los sistemar, reactores, particularmente sistemas reactores que contienen ßdioe acuosos, tienen una variedad de forros p-roteetoreo transparente-» a UV, dentro de los cuales se colocan las lámparas, de manera tal que las lámparas no entran en contacto con el watex ial que se trata por la radiación UV. Esta técnica protege el cuarzo de la lámpara UV y las conexiones eléctricas a los electrodos de lámpara. También facilita el reemplazo de lámpara sin tener que desarmar el reactor. Dos ejemplo de este tipo de sisteman de tratamiento de aqua se describen en las Patentes de los E.U.?. NOS. 3,462,497 y 3,562/520. Se definen una cámara anular entre la pared cilindrica exterior del aparato de tratamiento de agua y el forro interior del aparato que proteqe la lámpara emisora de radiación UV de los fluidos que se pasan a través de la cámara anular en el aparato para tratamiento de fluidos. Ambos sistemas se diseñan para circunscribir los extremos de lámparas 5 conforme la lámpara se coloca centralmente al aparato y circunscriben por el forro protector. El forro es de cuarzo u otro material transparente a UV. Se describen en estos montajes mecanismos de lim ieza de forros especiales. T.as. desventajas de estos sistemas -=-« dißr-t-han e detalle en las 1fi Patentes de los E.U.A. Nos. 5,133,945 y 5,266,280 del solicitante. Los sistemaß de ßetae-j do» patento--- do los E.U.A. prßviae son adecuado© para utiliaar como un aqente anti-viral o anti bacterial para tratar agua potable. Loa lámparas de baja temperatura se •--?r.ple&i- de acuéido c n las, lécuic-ii.. estándar para exponer aqua a radleu;ion. Las lámparas se circunscriben totalmente. Como se demuestra en ambas patentes de ios E.U.A., loa extremos de lámparas se circunsciben co-upletameu --- y sellan separados ¿-entro del torro. Esto permite el reemplazo de aire dentro dei espacio anular definido entre la lámpara y el forro protector con gases inertes que no ee oxidan por ia radiación UV. Esto evita la formación de ozono que se considera muy nocivo para los componentes empleados en los sistemas de tratamiento de UV. Lámparas ;¿b totalmente circunscritas pueden ser aceptables para sistemas qu« utilizan Lámparas que operan a inores temperatura-, dentro de la qama de 40 a 150*C. ütro enfoque general para exponer fluidoc a .radiación UV para iniciar o scß.f-rar una reacción química deseada dentro ae ios fluidos, r-ansiste en colocar una pluralidad de lámparas UV alrededor de un recipiente de reacción que tiene una pared de recipiente transparente a la radiación UV. Esto permite que la radiación emitida por las lampaxas pase a través de la» paredes da recipiente y ee absorba por los fluíaos dentro del recipiente de reacción para iniciar o acelerar la reacción ?üBt-ada. Mor-nalman-ü, las lámparas a medida que circundan ol recipiente de reacción están circunscri as. El recinto puede tener superficies reflejantes de UV para dirigir radiación emitida por las lámparas en una dirección lejoe del reactor para reflejar esta radiación de regreso ai reactor. con la condición de tener varia» lámparas dentro del recinto el sobre calentamiento de las lámpara-s circunscritas, puede volverse un problema. Un ejemplo de este tipo de reactor se discute en la patente de los E.U.A. No. 4/üu--,yi8. En la patente de los E.U.A. No. 4,897,246 y »« solicitud divisional de afut. loe B.l-.A. «o. 4,983, 376, se caribe un sistema de tratamiento de UV para decontaminar di ßrsa* formas de aquas v aquas de e echo. Las aguaß do desecho «« introducen en un extremo del sis e a reactor y por UB? d* d.*l.ctnr.«, las aquas se diriqen en un flujo de patrón 2Í0 2ag cobre lámparas dentro de ia cámara del reactor. La cámara de reactor es rectapqular con un I lu o continuo d« fluidos a través de la cañara del reactor. Lae Támpara--- empleadae en el sistema son de potencia siqni finativamente 5 uperior que latí lámparas empleadas R? los --.is-temau de tratamiento de agua anteriormente mencionados de lae Patento» de los -i.U.A. NOH. "i , A6? , 97 y 3,562, -420. Do acuerdo con técnicas standard, latí lámpara--- ßmißoroa de radiación UV tm aislan de loa fluidos que se tratan por forroe protectores O conveniente-;. También de acuerdo con la práctica standard, loe pxt emos de las lámparas Be sellan pata definir un espacio anular -sellado ontre la l mp ra y el forro protector. Fn ßst-e montaje, la forma preterida de -.ampara empleada es una lámpara de mercurio de presión superior, en ocasiones- rpferida como 5 lámpara de presión jut-dla. Estas lamparas «e han denominado tanto lámpara---, de prslún m.edia c nn de alta presión en la literatura. Las características operativas para octas lámparas- pueden variar en mucho. Lámpara--, que referiremos como lámparas da pL•--•-*ion media son lámpara» de mercurio oon presiones de 1 a 0 10 atmósferas, con temperatura--! de bulbo mayores -» 300'c, y densidades de energía e alimentación des 40 a loo watts/cm da longitud- de hulbo. E-stac ldmparao operan a temperaturas considerabízmente ßupßrioroa que las lámparas uv de baja presión. Lámparas do presión «edi« operan a temperatura--. --S usual -w- fc? en excooo de 300*c. Una ventaja de utilizar las lámparas de presión media de temperatura superior es que son menos susceptibles a cambios en la temperatura de fluido. Por otro lado, con lámparas UV de baja temperatura, baja presión, cualquier cambio siqnificante en la temperatura del aqua puede afectar apreciabiemente la temperatura operativa de la lámpara de baja presión y por lo tanto afectar su desempeño total. Lámparas de superior i tensidad, tales como lamparan de -nE-r.-Mi.-io fi pt-ARirtn me i y por lo tanto »e prefieren en ARt-.a ?R ftptn, nomo se discute en la Patente de los E.U.A- No. 4,952,376. Sin embargo, en ?ista de que las lámparas ee sellan dentro del forro protector del reactor, pueden enoontrarco dificultades en -sobre calentar las lámparas y deterioro posible conforme GO incrementa la densidad de la lámparo. Aparte de enfriar loa lámparaß cono s« proporciona por el fluido que fluye aobre los forros» protectores, las porciones de exLrem? Ue lámparas sensibles a temperatura que incluyen las terminales eléctricas no se enfrian adecuadamente y de tiempo en tiempo pueden sobre calentarse resultando en falla de lámpara. Este problema de sobre calentamiento con las lámparas de presión media y temperatura superior por lo tanto a disuadido su uso en sistemas a© tratamiento con ÜV. Como resultado, lámparas empleadas en sistemas de la Patente de los E.U.A. No. 4,952,376 operan en el extremo inferior de la escala de temperatura para lámparas de presión media y por lo tanto tienen menos rendimiento en comparación con lámparas que operan en ßl extremo superior de la escala de temperatura. Muchos sistemas comercialmente disponibles funcionan con el uso de lámparas de mercurio de baja presión, baja 5 temperatura, que tienen baja alimentación de energía ußualmente en la gama de 40 a 140 watts de enerqia UV por cada lámpara individual. Esta alimentación de enerqla usualmente eß iqual a aproximadamente 0.4 a 0.8 watts/c de longitud de arco de lámpara v temperaturas operativas inferiores a 10o*c. Un u?o comercial de lámparas de baja energía para exterminar organismos en aquaß pofcnhlns , se describe en la Patente de loe E.U.A. No. 4,170,616. Lámparas ultravioleta C-37-T6 convencionales «« emplean que tienen una (salida operativa en la gama de r.7 watts, una temperatura operativa bien por debajo de i9- 60°C. El uso primario del sistema de Coviello y colaboradores, consiste en producir cantidades óptimas de ?£uno al pasar aire a travée dol sistema a un gasto de flujo muy bajo. El ozono producido luego ee transfiere en uu tanque de tratamiento para ?cterilisar adicionalmente t»l agua potable. Coviello y colaboradores, contemplan el paso de aire sobre los extremos de lámpara tal como se describe con referencia a las Figuras 3 y 5- El aire se introduce bajo presión y circula a alta velocidad solo sobre los extremos de las lámparas. El sistema de la Figura 4 de covieilo contempla el paso de aire a un bajo 5 gasto de flujo sobre la lámpara para optimizar la generación de ? ozono mientras que aparentemente en laß porciones de extremo de l mpava, el e-»pacio e& relativamente restringido de Ji--u?e--a Lol que --»<-- log a un superior gasto da flujo t-o ii. lu» extremos de lampar-» para efectuar su enfriamiento. Aunque estos enfoques a enfri ianto de extremo de lámpara pueden ser adecuados para lámparas de baja presión que operan a temperaturas relativamente bajas normalmente inferiores a 100wc, estos sistemas de enfriamiento son totalmente insatisfactorios para lámparas de presión media y alta que operan a temperaturas que exceden 300 *C. Hay varias otras desventajas e inconvenientes a los sistemas anteriores para tratamiento de fluidos contaminados. Lámpara de baja presión tienen buena eficiencia (30%) que se refieren al porciento de rendimiento de uv entre 200 nm y 300 nm, que es la región de UV importante para descontaminar fluidos. Sin embargo, lámparas de baja presión tienen una desventaja principal ya que son de tan bajas energías de alimentación (40 a 120 watts típicamente, que se requiere un número de lámparas subßtanoialmente grande para el tratamiento de fluidos a gastos de flujo elevado. Esto se vuelve impráctico ya que muchas lámparas y cámaras reactores tienen que construirse y mantenerse. Lámparas de presión media convencionales son de baja eficiencia, > 20%, tal que de nuevo también se requieren demasiadas lámparas y el consumo eléctrico es elevado. De esta manera hay necesidad por una lámpara eme opera a alta energía con buena eficiencia. Ahora hay lámparas disponibles para elevadas alimentaciones de energía y eficiencia de alrededor de 30 %. Estas lámparas tienen superior alimentación por lonqitud unitaria de arco que las lámparas de presión media standard (100-300 watts/cía en comparación con > 100 watts/c ) . Las lámparas también operan en caliente con temperaturas de bulbo en la qama de 600* C -1000ßC. Estos factores resultan en mucho más calor generado en las superficies de cuarzo del manquito y conducen a problemas con enfriamiento de las lámparas y los materiales dn construcción circundantes, En las Patentes de los E.U.A. del solicitante anteriormente mencionadas? Nos. --.,.-.66,280 y 5,133,945, ee describe un s-i Rte-na ri« enfriamiento para las lámparas do alta presión q e opnrnn a temperaturas norpua-lipante en oxoooo de -.OO'C. Ventiladores de enfriamiento individuales se proporcionan en cada extremo del sistema reactor para diiiqir aire en enfriamiento sobre ßl montaje cerámico por cada ?xtremo de lámpara. Cada ventilador de enfriamiento tiene un ducto para dirigir el aire de enfriamiento en el montaje cerámico, para asegurar que loa electrodos sellado» en los extremos de lámpara no ee degradan debido a la» altas temperaturas en el cuarzo de la lámpara. Aire que se dirige en la porción inferior de l» lámpara puede entrar ai espacio anular entre el forro protac or y la superficie üe lámpara de cuarzo. Este ínirß de circulación ae permite que ¡»alq& en la parte b µ-ui?i del e«a tor paia mejorar adicionaltue L--. el enfriamiento en &i--.temas. Aun ue t-n-.lt. si¡-¡Lema es adecuado para enfriar las lamparas de alta presión, se ha encontrado que la operación de lámparas no siempre es consistente y por lo tanto se ha mejorado por el sistema de enfriamiento descrito en la Patente de los l-.U.A. No. 5,372,781 del solicitante. La presente invención proporciona un sistema de descarga para enl-tia-uit-pUí ue l mparas que no solo meiora el enfriamiento de lámparas, sino meiora por igual la operación de la lámpara y al mismo tiempo continúa proporcionan protección para los materiales circundantes que soportan la lám ara n el reactor . OMPEH?TO m¡. TA THvaiicinM De acuerdo ron un aspecto de la invención, un ciotc a de enfriamiento mejorado para lámparas do UV a alta temperatura e>n un montaje de reactor, se proporciona. De acuerdo con esto, en un montaje de reactor para destruir contaminantes incluidos por la aplicación do radiación UV paro promovt-x esta destrucción, cl montaje reactor comprende: i) una columna de reautoi con una entrada en un extremo pera introducir fluidos al reactor y una salida t-n ßl otro extremo para retirar fluidos tratados del reactor, ii) una lámpara de emisión de radiación de uv que opera a temperaturas que exceden 3?o'c y colocada en la columna de reactor, ü) un forro protector cilindrioo tranaparente de radiación UV para la lámpara, e? f0rro es concéntrico non la lámpara y aí&ia a ?ámpara del interlnr del reactor, la columna del reactor tiene un* are que defi».« un espacio del reactor a tr*vóß del cual fluidos a tratarse circulan doede la entrada del reactor a través hasta de la salida del reactor, con lo que el flujo del fluido sobre ßl forio efectúa enfriamiento del forro debido al calentamiento de la lámpara, v) cada extremo del forro que se proyecta a través de la pared de la columna del reactor y medios para sellar cada extremo de forro a la pared del reactor con lo que cada extremo del forro se abre hacia afuera del reactor, los medios de sello retienen de esta manera fluidos en el aspar:.o del rear-torj* v) la lámpara tiene una primer porción terminal y una segunda porción terminal, la lámpara ee de longitud suficiente para extender lae porciones terminales rada allá de exLrem?a abierLüto correspondientes del forro, vi) Medios para soportar cada terminal en una porción correspondiente de la pared ael reactor, cada uno de los medios de soporte tiene una porción de acoplamiento de lámpara que recorre el forro de extremo abierto en una forma que proporciona comunicación de aire con el interior del forro. vii) medios para diriqir aire de enfriamiento sobre cada una de las porciones terminales primera y Rßqunda, para enfriar las porciones terminaloe y de eßta manera evitar deterioro de laß porciones termínale» de lámpara debido a calentamiento excecivo, cl forro tiene un diámetro interno mayor que el diámetro exLe*no para lu lámpara, los medios para diriqir aire de enfriamiento sobre la primer terminal se adaptan para desarrollar un valor de presión de aire en un primer extremo correspondiente del forro mayor que un valor de presión de aire en un segundo extremo correspondiente del forro, con lo que el flujo constante del aire de enfriamiento se aeequra a través del forro y sobre la lámpara, en virtud de los primeros y segundo» extremos de orro abiertos hacia afuera de la pared del reactor, este flujo de aire de enfriamiento se controla para permitir que la lámpara tuncione a temperaturas operativas óptimas. viii la mejora comprende, un sistema de deßcarqa para los medios, para diriqir aire de enfriamiento, el sistema de descarga comprende un ventilador de descarga y ductos adaptados para diriqir aire de enfriamiento sobre la primer porción terminal a través del forro y sobre la lámpara hacia la segunda porción terminal y para dirigir aire de enfriamiento sobre la segunda porción terminal, el ventilador de descarga, desahoga el aire de enfriamiento reunido del forro y desde la segunda porción terminal, los ductoß proporciona una entrada de aire para suplementar aire de enfriamiento dirigido sobre la segunda porción terminal . Adiciónale© ventajas y características de la invención serán aparentes a aquellos con destreza en la especialidad a partir de la siguiente descripción detallada de la misma se toma en conjunto con los dibujos acompañantes.

BRgYg µ?¿sra?rc?pff DB LOS DIBUJOS Modalidades preferidas de la invención se ilustran en los dibujos en donde: La Figura 1 es una vista en perspectiva superior de un sistema reactor UV que tiene un sistema de descarga mejorado para enfriamiento de lámpara. La Figura 2 es una vista en «Acción transversal on elevación del método de la Figura 1. La Figura 3 es una perspectiva esquemático de una modalidad alterna para «1 -sistema reactor, en donde una pluralidad de lámparas ße proporcionan en una sola columna de reactor que pueden estar ya sea orientadas vertical u horizontalmente. La Fiqura A ee una sección detallada que ilustra el sello del forro de lámpara en la pared de reactor de la Figura :- o en el extremo reactor de la Figura 2 , BBgBIPC-tQW DBT?TJ-MW- DE T-?-S OllAl-IOADKfi P-ftEPgBTnA-^ El enfriamiento µara lámpara de montaje de reactor de esta invención se adapta particularmente para utilizar con lámparas UV de presión media y alta. Como será aparente en 1. siguiente discusión de las modalidades preferidas, eo han realizado disposiciones especiales en el montaje reactor para proporcionar tratamientos de fluido mientras que utilizan lámparas UV de alta intensidad que operan a temperaturas muy elevadas. En la industria de lámparas de uv, generalmente se entiende que las lámpara» caen en tres cateyuííus- du lámpara» dts baja presión, presión media y presión alta. La presión se refiere a la acumulación de presión de vapor dentro de la lámpara durante operación. La acumulación de presión normalmente se debe a la evaporación de mercurio dentro de la lámpara, usuaimente gases de excitación están contenidos en la lámpara que inician la descarga de arco y a través de la descarqa de arco se calienta el mercurio a la temperatura de evaporación para producir una vapor en la lámpara que a su vedurante ciclos de excitación emiten la radiasión UV de la intensidad de lonqitud de onda deseada. Las lámparas de presión baja tienen potencia de lámpara de aproximadamente o.01 watte/cms y operan a temperaturas inferiores a loo'c. Como se define en la literatura (L.R. Kohier "Ultraviolet Radiation" (Radiación ultravioleta) y John Wiley & Sons Inc. New York 1965 y J. y. Waymouth "Electric Discharge lamps" (Lámparas de Descarqa Eléctrica) The MIT Press, Cambridge 1978 y R. Phillips en "Sources and Applications of Ultraviolet Radiation" (fuentes y aplicaciones de radiación ultravioleta) Aoade ic Press, toronto 19T3) lámparas de presión media tienen potencias de lámparas de aproximadamente 0.1 a 1.0/cma y normalmente operan a temperaturas de aproximadamente 300 a 400"C. Como ya se discutió, las modalidades de esta invención se diriqen al uso de lámparas de presión media a alta que operan a altas temperaturas, normalmente que exceden 300"C y usualmente que exceden 700"c hasta 1000*C o incluso superiores probablemente I-asta íi??' . A estas elevadas temperaturas de operación, varios aspectos durante su operación se vuelven un problema que se ha resuelto por el sistema de enfriamiento descrito en la Patente de los E.U.A. No. 5,372,781 del solicitante y ahora se mejoran adicionalmente. La lámpara preferida para utili-ar en el sistema ilustrado en los dibujos es aquella vendida por el ssol .citante. Estas lámparas de UV son lámparas de vapor de mercurio, de alta intensidad y alta prefl.rtn non aproximadamente 30 % de la ealida de la radiación l.V por debajo de 300 nm. La mayoría do los procesos de denpontaminación dw agua llevados a cabo en este reart-or son de acuerdo con procedimientos de propiedad del solicitante tal como oa describe en las Patentes de lo» E.U.A. Noe. 4,956,o-8, 5,043,079 y 5,043,080. Entre mayor sea la salida por debajo de 300 nm, más efecLivo serd el tratamiento de descontaminación química. varios detalles uperacionales y estructurales del paßaie reactor, deflectores internos y sistema de limpieza de lámpara se describen en las Patentes de los E.U.A. Nos. 5,133,945 y 5,266,_ítíu y ?, 372,781 previamente mencionadas del solimitante, la materia objeto de las cuales aqui se incorpora or referencia. con base en la descripción detallada proporcionada en aquellas patentes y solicitudes de patente* previas, ia operación de los sistemas reactores de ln? dibujos deberá ser fáciliiiepLe aparente para aquellos con destreza en la especialidad, sin embargo, para facilitar esta comprensión y µara propósitos de comprender la operación dei sistema de enfriamiento mejorado de acuerdo con esta invención, aqui se proporciona una breve descripción de ciertos aspectos del reactor. El sistema de enfriamiento de lámpara mejorado de esta invención extrae aire de dos fuentes, para asegurar enfriamiento de las puntas de la lámpara UV al igual adecuado enfriamiento del cuerpo de lámparas sobre su longitud- Pueden colocarse lámparas en cualquier orientación en el reactor o ol reactor mismo puede ?olftRar?e en cualquier orientación deseada entre la horizontal y la vertical. En virtud de la orientación flexible de lámpara, eß posible el proporcionar una columna de rtsactor en donde ce proporcionan varias lámparas de alta presión. Por ejemplo, para tratar grandes gastos de flujo de aqua, un solo reactor que aloja una multitud de lámparas, puede ser utilizado. Este banco de lámparas además mejora los parámetroE operativo» del sistema reactor para tratar mayores gaetoa de flujo del aqua que puede tratarse con un reactor que tiene un solo sistema de lámparas. Ei sistema para deecarqa de aire de eiifria iento de lámparas al extraer de dos fuentes asegura la cantidad correcta de aire de enfriamiento sobre la lámpara, mientras que al mismo tiempo proporciona aire de enri. iamiento suficiente para ambas puntas de lámparas. Rl aire *> «.rri-.l.rrto ,,--, ntra ,? .«nos u„- d- lM fußll LBii „. ^ P-e-e *!,« par. ase,_r opßrao .4n ^^^^ ^^^^ de? •?«« d- „fp„?mto dß 1 ?p.„.. Adam?iß j J a coloco(;lt.n ^ 5-s--na -e .ß(icar?,a an un _Ht_oMo ^ ^ ?anpsra faci?ita c-pfinado d- una wl„ dßl rMc?ür< paM forMr ß] ban8 deseado de lámparas de uv . Con referencia o la Friiaguurr-a-- ., - e-ol m-_on.t..a-j-e reactor 10 «»W«*. „„„ Mvm? rMctüra ^ qw ^ Brßferß?w ^ 0 ciUnaric. Sß apr<:ci. 6in eM)argo quß el reactor ^ ^ Una Va iedad de Otras formas para optimizar requerimientos de espacio y semejantes. El reactor cilindrico preterido tiene una pared de reactor constituida por una pared lateral de columna 14 y una porción de pared de extremo 16 de la placa de 15 extremo 18 y la porción de pared 20 de la placa del extremo 22. La columna del reactor tiene una entrada 24 de un extremo para introducir fluidos- al rßac-tor y un» R?! \ ?H h PI. el otro extremo para retirar fluidos tratados del reactor. Las lámparas e-insorfift e r»? \ anión UV media/alta 28 se proporcionan «n la nolumna del reactor. Un forro protector cilindrico -10 que *»* transparente a radiación UV E?C proporciona para la 1 «rapara. El forro eß -onc-Sntrico con la lámpara y aisla la á a a del interior del reactor que es un espacio anular generalmente designad 32. La pared de columna de reactor ? H constituida por las porciones 14, 16 y 20 define el espacio 10 anular de reactor ,¿ tt través dei cual loa fluidos introducido* or la entrada 24 se tratan conforme circulan d««le un extremo del reactor al otro. Este fluio de f-uidn sobre el forro erectua enfriamiento como Se causa por i. iáínpara de alta temperatura. Los extremos del forro qeneral-pento dßai^os 34 y 36 se proyectan a través de ?„ porciones do pared de columna 20 y 16, respectivamente. q* proporciona un medio inveniente para sellar los extremo»*, de forro 34 v ,-- . rro J4 y 36 ß íaa porciones de pared de columna, stallee daee lrooae c---u---a*l!-e--.s-- H.* describirán con respecto a ia P.a Juraa 4i.. ccoomm-o- r---e-.s«.u.líít-a--.d.o o estos dispositivos de sello en sitio, cada extremo d«l forro luego se abre hacia afuera ,«! reacto o mo ae ilustra m e claramente en la Fi ura 2.

La lempira de uV tiene una primer porción terminal ,ß y una secund pgrcion terminal 0, en onde l íonqitud de ?a lá ara es s-uficiente para extender I?M porcionea terraintileu» mátJ allá úe extremo--- --.biettoe correspondiente;» ..- y 36 del iorro protector 30. Abrazaderas 42 y 44 actúan como medios para soportar cada terminal en una porción correspondiente ae la pared del reactor, como se describirá con respecto a ia Fiqura 2. Cada abrazadera de soporte tiene una porción de acoplamiento de lámpara que recorre el forro de extremo abierto en una forma que proporciona comunicación de aire con el interior de forro.

Un sistema de lim ie--:a de lámpara 46 ?omprende un dispositivo de cepillo 4ß que se reciproca sobre el forro --? por pistón reciprocante oü para efectuar limpieza deseada del torro debido a incrustación por fluidos que pasan a travos de la cámara del reactor anular 32. Aire de enfriamiento se dirige cobre cada uno de primeras y sequndas porciones terminales 3d y 40 de la lámpara, por un dispositivo de enfriamiento designado generalmente 52. El dispositivo 52 extrae aire a través de la porción terminal inferior 38 en la dirección de las flechas 54. El aire pasa hacia arriba del forro sobre la lámpara 28 y hacia afuera sobre la porción terminal 40. El forro tiene un diámetro interno mayor quß el diámetro externo de la lámpara, para permitir que aire de enfriamiento pase a través del espacio anular 56 en donde se estimula que recorrerá el enfriamiento a través de este espacio al desarrollar un valor de presión de aire en el primer extremo terminal 38 que es mayor el valor de presión de aire en el segundo extremo terminal 40. Como resultado de esta diferencia de presión de aire, un flujo constante de aire de enfriamiento se asequra a través del forro y sobre la lámpara, en virtud de que los primeros y segundos extremos en forro estén abiertos hacia afuera de la pared del reactor. El flujo constante de aire de enfriamiento se controla para permitir que la lámpara funcione a temperaturas operativas óptimas.

La mejora con respecto ai dispositivo de aire de enfriamiento <----- el proporcionar un -¿sistema de deacarqa 52 que oon- rende un ventilador de descarqa 58 y ductos complementarios 60. El ventilador de descarqa 58 tiene una reqión de entrada 62. El aire de descarga que ee extrae a través de la entrad» se descarga mediante ia salida 64 en la dirección de la flecha fob. El qasto de flujo a través del ventilador d« descarga 58 es suficiente para desarrollar una presión menor en la reqión de la terminal 40 que en la reqión de ln terminal 38. por lo tanto, el diferencial de presión deseado ee outablece qu provoca que circule aire «obre la terminal 38 en la dirección de ia flecha 54 y a través del espacio anular 50 entre el forro y la lámpara. Los dur.toß 60 también incluyen una abertura bb que proporciona «iré de enfriamiento auple ---ntarlo para extraerse sohr.fi la segunda porción terminal 40 en la dirección de la» flachas 7o. Una entrada de" «iré 73 por debajo del «f ector 72 ee define por el ee-pßcio en sección transversal en loe ducto-s quo ae bloquea put ßl deflector. La entrada de aire 73 ae dise a para asegurar adecuados gastos de flujo de aire de enfriamiento a través del espacio anular 56 para Optimizar temperatura de lámpara y por lo tanto alimentación de radiación UV a fluidos que circundan a travo* del espacio del reactor 32. El deflector 72 puede fij^ e para -definir un área «„ HnoulOn transversal deseada para la entrada 73 para ol airo de enfriamiento ßuplementario. En forma alterna, el deflector 72 puede pi otarse alrededor de la varilla 74 de manera tal que oscila hacia arriba en la dirección de la flecha 76. Este pivoteo del detector 76 permite variaciones en la velocidad del ventilador de descarqa que pueden deberse a picos de enerqia, cambios de temperatura ambiente y semejantes. Un detector 76 puede conectarse externamente a la varilla 74 para detectar la rotación de la varilla 74. El detector 76 se conecta eléctricamente al generador de señal 78 por el alambre 80. La señal «enerada por el dispositivo 78 puede transmitirse por alambre o de otra forma a un sistema de verificación que puede comprobar la eficiencia del ven i ladr-r de dftfir-arga 58 y en virtud del qrado de inclinación o pivoteo del deflector 72. Además, el dispositivo 78 puede indioar una falla dol ventilador 58 en caso de que opera a efioißnoiae tan bajas que ßl deflector 72 no se pivoto lo -suficiente o no se pivote de eeho, dobido a muy bajo movimiento de aire o carencia de movimiento de aire en la dirección de la flecha 70. En el caso de que el deflector 72 se fija y no se deje que pivote, la operación del ventilador también puede efectuarse por un detector de flujo de aire ß2 que se conecta a un qenerador de señal conveniente no mostrado, para transmitir una sertal a un verificador que determina la ausencia o presencia del flujo de aire a través de ios ductos sobre el extremo de lámpara 40.

El sistema reactor alterno 84 se ilustra en la Figura 3, en donde un banco de lámparas 86 se proporciona en la columna del reactor 88. La columna del reactor 88 tiene una entrada y una salida 92 de manera tal que fluidos ? tratarse a circulan a través del espacio reactor definido dentro de la pared lateral de columna 94 y porcioner* de extremo de columna 96 y 98. La naturaleza compacta de cada lámpara con ¡su sistema de enfriamiento de lám a correspondíonto generalmente desiqnado 100, 102, 104 y 106 facilita colocación relativamente 0 cercana de las lámparas ein quo loe dispositivo--- de enfriamiento de lámpara ce interfieran entre si. Las lámparas pueden nnlocarse en la ooluíana de reactor 88 en forma cruzada i Ti.« ada en la Figura 3 o en vista del sistema de enfriamiento para las lámpara--- que permiten cualquier orientación para las 5 lámparas, pueden colocarse en una variedad de otras configuraciones dentro de la columna del reactor 88. Coda unidad de lámpara 102, 104 y 106 comprende los miamos componentes» descritos con respecto a la Fiqura 1, es decir una lámpara co o un forro protector y dispositivos de 0 atontaje para los extremos terminales de lámpara. Algunos dispositivos de montaje se ilustran en la Fiqura 3 e ¡(ten í-tCan or IOS f-ÚHerOS 108 llO. Cilindros neumático-s correspondientes para reciprocar los dlepositivoa de limpieza ae forro se identifican en 112, 114, 116 y nß. Los sistemas 2* de r-tescar a de enfriamiento de aire generalmente se t?esiqnan 120, 122, 124 y 126. Los sistemas de descarqa son los mismos en construcción que aquellos descritos con respecto a la Fiqura 1 y operan en la misma forma para asegurar flujo adecuado del aire de enfriamiento sobre las puntas de lámparas v sobre el cuerpo de lámparas. En virtud de que los sistemas de descarga operan independientemente por cada lámpara y que están colocados solamente en un extremo de 1» lámpara, el montaje compacto previamente mencionado de cualquier orientación de lae lámparas podrá lograrse. Habrá de notarse sin embargo que en lf-ft ductos. de cada sistema de enfriamiento, cl deflector tal como se discuto, con respecto a la Figura 1 e identifica en 72, si ße va a pivotar, tendrá que suspenderse sobre un eje horisontal oon cada ducto respectivo para los disµouitivoB 120, 122, 124 y 126. Con respecto o la modalidad de la Fiqura 3, en donde las lámparas se colocan hu izontalmente, por lo tanto se aprecia que la varilla 74 respecto a la cual se pivoteará cada deflector 72 también se extiende dentro de los ductos en una dirección horizontal. Detalles en la tor a en la cual el forro se sella en la pared del reactor que puede ser una porción de extremo o pared lateral de las confiquraciones del reactor de las Fiquras l y 3 se ilustra en la Figura 4. El forro protector 30 tiene su porción de extremo 34 que se extiende a través de la pared del reactor 12 que como ya se notó puede eer la pared lateral 88 del reactor 84 en la Fiqura 3, o una pared de extremo 16 o 20 del reactot 10 de la Figura 1. Se proporciona ur» orificio 129 vn 1<? ated del reactvt y que U-en? «un Uiáw v iíí -sii t mayor que el diámetro exterior del forro 30. Esto permite Ja colocación al igual quß expansión del forro durante operación del sistema. A fin de sellar el extremo de forro 34 respecto a la pared del reactor 12, un sello de anillo tórico 13o se proporciona respecto al perímetro de la porción de extremo 34. A fin de comprimir el sello de anillo tórico 130 respecto al perímetro de la porción de extremo 34 y por igual contra la pared del reactor 12, un anillo de abrazadera 132 se emperna a la pared del reactor por pernos 134. El anillo tórico 130 lueqo se comprime entre caras convergentes opuestas 136 y -38, para asegurar un sello en lae interfases de anillo tórico 140 y 142. De preferencia, el anillo tórico 130 se elabora de un material resistente a temperatura, radiación UV y osono, tal como el que se vende bajo la marca VITON"*. Para asequrar vida prolongada para el anillo tórico, particularmente si se elabora a partir de material que puede no ser resistente, se coloca un collar cerámico 144 dentro del extremo 34 del forro 30. El collar cerámico bloquea la radiación UV y por igual aisla el anillo tórico de la lámpara de alta temperatura 28. En cuanto a la lámpara 28, tiene ßl cuerpo de lámpara de cuarzo usual 146 que está presionado cerrado en 148 por el extremo terminal 38. Se proporciona un electrodo 150 dentro del extremo de lámpara ai cual se conecta una articulación en la forma de una cinta de metal ¡->2. La articulación 152 se conecta por «1 alambre 154 que pasa a través del extremo de lámpara cerámica 156 a una fuente de propiedad de energía eléctrica. La articulación de metal 152 se deteriora cuando su temperatura excede a aproximadamente 350"C. Por lo tanto es conveniente asequrar que el sistema de enfriamiento de lámpara proporciona suficiente enfriamiento de lámpara de manera tal que la temperatura de extremo de lámpara no exceda 350°c. Son necesarias varias consideraciones al proporcionar enfriamiento de los extremos de lámpara al iqual que el cuerpo de lámpara alojado dentro del forro protector 30. Al enfriar los extremos de lámpara es importante no sobre enfriar el cuerpo de lámpara como se aloja dentro del forro 30. El sobre enfriamiento del cuerpo de lámpara resulta en desempeño disminuido de lámpara y puede incluso resultar en extinguir la lámpara. La extinción de la operación de la lámpara usualmente resulta cuando se enfria el cuerpo de lámpara en la proporción de que el vapor que se forma por la descarga eléctrica se haca que condense inmediatamente de manera tal que la lámpara nunca pasa más allá de la fase de arranque o durante operación se enfria en la proporción de que el vapor de mercurio se condensa dentro de la lámpara. También es importante el asequrar que cualesquiera porciones insensibles a temperatura del cuerpo de] reactor sean diseñadas en una forma tal que no se afecten por la operación a alta temperatura de la lámpara o que las porciones del montaje reactor expuestas a radiación uv sean de materiales convenientes o estén protegidas contra deterioro UV. otro factor que entra en las consideraciones de diseño es proteqer a los usuarios contra exposición a radiación UV durante operación de la lámpara. Esto requiere circunscribir tanto las porciones inferior como superior del reactor, de manera tal que los operadores no puedan ver directamente la radiación UV emitida por la lámpara. Se aprecia por supuesto aue pueden elaborarse componentes --el reactor a partir de aterialefi que» nn reflejen radiación UV, de manera tal que aolr- 1 ? exposición de radiación directa puede provopar un problema con los operadores- Cada extremo del re?r.tor puede ser circunscrito en una base de -soporte o blindado. La base de soporte puede eer un acceco de puerta para propóeitoe do --servicio al cilindro neumático y al iqual facilita el reemplazo de lámpara. Se proporcionan interacerroja ientoß convenientes tales que cuando se abi-e la puerta a la base de soporte, la lámpara se apaqa para evita-exposición a radiación ÜV y posible choque eléctrico. Similarmente, el extremo 18 del reactor tiene que circunscribirse por un recinto conveniente conectado a ios ductos de salida 60 del sistema de descarga 52. Los ductos 60 evitan que los operadoras tenqan acceso directo a los ojos a la radiación emitida por la lampara 28.

La operación del sistema de enfriamiento de lámpara mejorado se describe en detalle con respecto a la Fiqura 2. El reactor 10 puede colocarse vertical u ho ií-ontaimente u orientarse en cualquier ánqulo intermedio. Las entradas 24 y 26 se proporcionan en la pared lateral del reactor 14. El espacio del reactor 32 se sella en los extremos de reactor por porciones de pared de placa de extremo 16 y 20. El espacio anular 32 se define entre la circunferencia exterior del forro protector 30 y el interior de las paredes 14, 16 y 20. Fin. rio* que circulan a través del enpar-i del r.Hc.t r 12 tienden incrustar la superficie exterior del forro. Un sistema de cepillos 160 se conecta al carro 162 del sistema de li-rapicz? 48 como se describe con res-peeto a lac Patentes de loa E.U.A. Nos. 5,133,945 y 5,266,380 del coliaitante. El sis ema de limpie--» funciona en una forma para mantener la superficie exterior del forro limpia, de manera tal que la efectividad con?leta de la radiación UV generada por la lámpara 28 se reciba por el fluido que circula a través del espacio de reactor -.2. Como se describe son respecto a las Hquras 2 y 4, los extieious de forro 34 y 36 están abiertos al exterior del jteacLor. Esto permite que circule libremente aire de enfriamiento a través dei espacio anular 56 entre la lámpara 28 y el torro 30. Este flujo de aire de enfriamiento a través del espacio anular se representa por las flechas 164. El ventilador 58 como se desplaza por el motor 166 tiene su entrada 168 en un extremo 62 de los d elos 60. El ventilador 58 düss tti- a aire desde su salida 64 en la dirección de la flecha 66 a un gasto de flujo suficiente para desarrollar como se describid previamente, una caida ae presión siqnificante sobre la longitud de la lámpara entre os extremos 34 y 36 del torro. La baja presión desarrollada por el ventilador on el extremo 36 extrae aire al extremo abierto del forro y hacia el pasaje anular 56 mediante el aire externo que entra en la dirección de la flecha 64. La abrazadera 42 para el extremo de lámpara tiene forma de u, de manera tal que no impide flujo de aire al extremo abierto del forro, de manera tal ue o. «ir« puede recorrer libremente sohrß el pana je anular 56. Lo-* d?ctoK 60 i nluyen una entrada de aire suplementaria 68, e.l flujo a través del cual se controla por ßl deflector 72. Airo ue entra en la dirección de la flecha 70 --.iraula por debajo del deflector 72, y sobre la terminal 40 do la lámpara. La terminal 38 se enfría por cl aire que circula en l? dirección de la flecha 54 y hacia el espacio anular. El cuerpo de lámpara se enfría por este aire que circula sobie «1 espacio anular y luego la terminal 40 se enfría µti ordialíñente por aire suplemental io quß circula por debajo del deflector 72 y a través de la terminal 44. El aire que circula fuera del espacio anular 56 a través del extremo abierto 36 también puede afectar el enfriamiento de ia terminal de lámpara. La abrazadera 44 se orienta en una dirección de manera tal que el flujo de aire por debajo del deflector 72 circula directamente sobre la terminal 40. La entrada de aire para el ventilador 58 extrae aire no solo del espacio anular entre el forro y la lampera sino al iqual de la abertura fifi y a través de la entrada de aire suplementaria 73. La proporción a la cual extrae aire el ventilador de la entrada de aire suplementaria se controla por la colocación del deflector 72. La posición fija para el detector eo ilustra en 72A, en donde su espacio sobre la base do los ductos se indica en 170. La colocación del extremo inferior 172 del dßflector puede determinarse µor prueba y error en donde se entiende que si «1 espauiamiento 70 es demasiado grande, el enfriamiento de lámpara puede lesionarse, mientras que si el espaclamieito 1/0 es demasiado pequeño, entonces el enfriamiento de lámpara puede ser muy grande. Por ejemplo, se ha encontrado que para un espacio anular que tiene un área en sección transversal de aproximadamente 27.4 cma ((4.25 in*) en la región 56, un gasto de flujo de ventilador de 1.16 litros seg (245 CFM) y ducto 60 que tiene un área en sección transversal en la reqión del deflector 72 de I7.7fi x 12.7 cm (7 x 5") y un tamaño de deflector de 17.78 Y S.OB oír. (7 x 2"), el espaoiamiento 170 está en la qama de B.oß a 7.62 c (2 a 3n). Esto proporciona aproxi adamente 30 a 7o % del aire dirigido al ventilador Rft. con el aire suplementario que constituye 30 * de! aire total descargado por el ventilador 58, se loqra un qasto de íLujo considerabJemente superior a través dei espacio anular 56 contra aire suplementario que constituye 70 % del aire descarqado, Esta qama toma en consideración las temperaturas operativas de la lámpara, la temperatura de fluido que se trata y la temperatura y presión ambientes en las que opera el sistema. También se aprecia que el de lector 72 pueda pívntar en la forma descrita oon enpeo n a la fiqura 1. Esta acción pí otal en lo riir«r.p.ión de la flecha 76 to a en consideración ri.vprsas condiciones ambiente. Puede haber picoe de «--nerqía que provocan que el motor 176 se aoelcre y por lo tanto descerque y considerablemente más aire. En eata situación, si el deflector 72A es ríqido, entonces se extraerá considerablemente más aire a través del espacio anular 56 por el extremo abierto de lorio 34. EsLu µuede resultar en enfi iamieii ? excesivo de la lámpara y disminución en la función. Sin embargo como se ilustra en la Fiqura ¿ , si el deflector r¿ se deja que pivotee en la dirección de la flecha 76, un pico de enerqia y aceleración del motor 166 puede acomodarse por el deflector móvil. Conforme el deflector oscila hacia arriba en La dirección de la flecha 76, el espacio 170 ee incrementa para permitir que entre más aire suplementario y reducir en cierta proporción el diferencial de presión a través del espacio anular 56. Este movimiento de esta manera arosrtiqua en cierto qrado un flujo ri*» aire Incrementado extenso a través del espacio anular í-6 que puede i?-iµactar en la eficienci de lámpara en virtud de enfriamiento excesivo. De manera correspondiente, en caso de que caiga la eficiencia del ventilador debido a pérdida de energía o dn?n físico ai ventilador, ßl qasto de flujo a través del ventilador disminuye. Esto permite que el deflector 2 pivote e una dirección opuesta a la flecha 76, para de esta manera di-sminuir ?l espacio 170 y como resultado disminuir el qasto de flujo de air--» suplementario que se lleva al ejiatoma, de muñera tal que el. aire que se diriqe a través del espacio anular 56 continua al gasto de flujo deseado, de manera tal que se evite el ---ubi e calentamiento do lámpara. Sin embargo el pivoteo en cualquier dirección dol deflector 72 también puede provocarse co o ya se mencionó por cambio en la presión ambiente, la temperatura ambiente u otras variables que pueden aíectar ei flujo de aire. Bl sistema de enfriamiento de lámpara mejorado de acuerdo cun esta invención mejora substancialmente el sistema de radiación uv para destruir contaminantes en fluidos. La lámpara puede colocarse en cualquier orientación deseada para permitir una amplia qama de colocaciones de reactor al .iqual que colocación de lámpara dentro de la configuración de reaptor deseada. Reactores deseados pueden tomar una variedad de formas para permitir peculiaridades físicas e planta ait-eño» de flujos tapón de reactor para llevar al máximo el volumen de reacción en un mínimo de espacio de reactor. Por uso del aire suplementario que *=.« extrae a teavé» del espacio anular entre la lámpara y el forro, se evita sobre enfriamiento de los extremos de lámpara y cuerpo de lámpara. variables en el ambiente también pueden ajustarse fácilmente por diseño del deflector dentro de los ductos. Al asegurar adecuado enfriamiento del cuerpo de lámpara, se lleva a un óptimo el desempeño de lámpara al evitar puntos calientes sobre la longitud del cuerpo de lámpara. Al tener el sistema de enfriamiento de ventilador en un extremo del montaje de lámpara, el mantenimiento del sistema reactor así co o el reemplazo de las lámparas de r-uars-n t-te far-í i t« . La colocación del ventilador de defir-arg» es opuesta a la entrada de aire -suplementario para asequrar que el aire de enfriamiento circula directamente sobre la segunda porción terminal de lámpara que se extiendo máe allá dol extremo abierto del forro protector. Aunque aquí se describen en detalle modalidades preferidas de la invención, se comprenderá por aquellos con destreza en la especialidad, que pueden practicarse variaciones a la misma sin apartarse del espíritu de la invención o el alcance de las reivindicaciones anexas.

Claims

-K 1VI DIC?CIOMKS i.- En un montaje reactor para destruir contaminantes en tluidos por la aplicación de radiación uv para promover dicha descripción, el montaje reactor se caracteriza porque comprende: i) una columna de reactor con una entrada en un extremo para introducir fluidos al reactor y una salida en el otro extremo para retirar fluidos tratados del reactor, ii) un» lámpara de emisión de radiación de UV que opera a temperaturas que exceden 300"C y colocada en la columna de reactor, ii) un forro protector cilindrico transparente de radiación uv para la lámpara, el forro eß concéntrico oon la lámpara y aíßla la lámpara del interior del roactor, la columna del reactor tiene una pared que defino un espacio del reactor a través del cual fluidos a tratarse circulan desde la entrada del reactor a través hasta de la salida del reacto-- , con io que el flujo del fluido sobre el for-co efectúa enfriamiento del forro debido al calentamiento de la lámpara, iv) cada extremo del íorro que se proyecta a través de la pared de la columna del reactor y medios para sellar cada extremo de forro a la pared del reactor con lo que cada extremo del forro se abre hacia afuera del reactor, los medios de selle retienen de esta manera fluidos en el espacio del reactor; v) la lámpara tiene una primer porción terminal y una segunda porción terminal, la lámpara es de lonqitud suficiente para extender las porciones terminales más allá de extremos abiertos correspondientes del forro, vi ) medios para soportar cada terminal en una porción correspondiente de la pared del reactor, cada uno de ios medios de soporte tiene ?na porción de acoplamiento de lámpara que recorre ei forro de extremo abierto en una forma que proporciona comunicación de aire con el interior del forro, vii) medios para dirigir aire de enfriamiento sobre cada una e las porciones terminales primera v segunda, para enfriar las porciones terminales v de esta manera evitar deterioro de las porciones terminales de lámpara debido a ca ent«mi ni-f. excesivo, el forro tiene un diámetro interno mayo que ßl diámetro externo para la lámpara, los medios- para diriqir aire de enfriamiento sobre la primer terminal ee adaptan para desarrollar un valor de presión de aire en un primer extremo oorre?--pondientc dol forro mayor quß un valor de presión de aire on un oequndo extremo correspondiente del forro, con lo que el flujo constante del aire de enf iamiento e aßequca a través del forro y sobre la lámpara, en virtud de los primeros y segundo!-, extremos de forro abiertos nacía afuera de la pared del reactor, este flujo de aire de enJ-riamiento se controla para permitir que la lámpara funcione a temperaturas operativas óptimas, viii) la mejora que comprende: un sistema de descarga para los medios, para diriqir aire de enfriamiento, el sistema de descarga comprende un ventilador de descarqa y ductos adaptados para dirigir aire de enfriamiento sobre la primer porción terminal a través del forro y sobre la lámpara hacia la segunda porción terminal y para diriqir aire de enfriamiento sobre la segunda porción terminal, el ventilador de descarga, desahoqa el aire de enfriamiento reunido del forro y desde la segunda porción terminal, los ductoß proporciona una entrada da aire para suplementar aire de enfriamiento dirigí do s re la segunda porción terminal. 2.- Un montaje reactor de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque los ductos comprenden un deflector que determina área en eoooión transversal de la entrada de aire. 3.- Un montaje reactor de conformidad con la reivindicación 2, caracterizado porque el deflector se monta pivotal ente en los ductos, el deflector pivotea conforme se incrementa el flujo de aire a través de la entrada de aire, para agrandar de esta manera el área en sección transversal de la entrada de aire en relación a ia velosidad a la cual el ventilador de descarga extrae el aire. 4.- Un montaje reactor de conformidad con la reivindicación 3, caracterizado por un detector para la extensión de pivoteo de dßflector para verificar de esta manera la velocidad de aire extraído por el ventilador de descarga. 5.- Un montaje reactor de conformidad non cualquiera de las reivindicaciones 1, 2, 3 o 4, <?aract*ri2ado porque el ventilador de descarqa tiene una entrada lateralmente desplazada de la segunda porción terminal y opueota a la entrada de aire que está lateralmente desplazada de la sequnda porción terminal con lo que el aire de enfriamiento suplementario circula sobre la sequnda porción terminal. 6.- Un montaje reactor de conformidad con cualquiera de las reivindicaciones 1, 2, 3, 4 o 5, caracterizado porque la columna de reactor es cilindrica y coincidente con el forro protector, esos fluidos circulan sobre el forro entre la entrada y la salida. 7. - Un montaje reafitnr de conformidad con cualquiera de las rei indicaciones 1, 2, 3, 4, 5 o 6, caracterizado porque una pluralidad de forros protectores se extiende a travos de la columna de reactor y octán espaciados sobre la columna, un cisterna de descarga separado se proporciona en el segundo extremo do cada forro. 0. • Un montaje reactor de conformidad co la reivindicación 6, caracterizado porque una tapa de extremo se proporciona en cada extremo de la columna de reactor y constituye parte de la pared de reactor, el torro se extiende a través de cada tapa respectiva y medios de sello que obturan el forro a la porción de pared de ia tapa de extremo. 9.- Un montaje reactor de conformidad con la reivindicación 5, caracterizado porque los ductos son un alojamiento alargado con la entrada de aire que está en un lado del alojamiento y la entrada de aire del ventilador en el otro lado del al jamiento, el alojamiento protege la sequnda porción terminal . ii).- un montaje reactor de conformidad con cualquiera de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque las lámparas y forros se montan ya sea vertical u horizontalmente. RttSUMÜ-M Ul. IA J.WVI_HC OM Esta invención se relaciona a un sistema de enfriamiento mejorado para un reactor que tiene lamparas ultravioleta con el cual se trata un medio fluido por ejemplo agua, aire o solvente. Más particularmente el sistema reactor se adapta para tratar contaminantes en los fluidos por uso de lámparas emisoras de UV que operan a altas temperaturas, normalmente en exceso de 300*c.