MXPA05006402A - Componente de valvula con multiples capas superficiales. - Google Patents
Componente de valvula con multiples capas superficiales.Info
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- 239000002344 surface layer Substances 0.000 title claims description 9
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims abstract description 101
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims abstract description 101
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 84
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 213
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 claims description 57
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 54
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 40
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 22
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 22
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 claims description 20
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 13
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 11
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 11
- JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N oxalonitrile Chemical compound N#CC#N JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 9
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 9
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 9
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 8
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N azanylidynechromium Chemical compound [Cr]#N CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 7
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 claims description 5
- UJXVAJQDLVNWPS-UHFFFAOYSA-N [Al].[Al].[Al].[Fe] Chemical compound [Al].[Al].[Al].[Fe] UJXVAJQDLVNWPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 4
- 229910021326 iron aluminide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 3
- 239000010951 brass Substances 0.000 claims description 3
- 230000013011 mating Effects 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 claims description 2
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 claims 2
- SJKRCWUQJZIWQB-UHFFFAOYSA-N azane;chromium Chemical compound N.[Cr] SJKRCWUQJZIWQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 claims 1
- 239000011195 cermet Substances 0.000 claims 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 42
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 42
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 24
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 15
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 11
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 10
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 9
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- -1 without limitation Substances 0.000 description 6
- 238000013461 design Methods 0.000 description 5
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 3
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 2
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 2
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 2
- 229910021397 glassy carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 2
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N zirconium nitride Chemical compound [Zr]#N ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021555 Chromium Chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 241000282941 Rangifer tarandus Species 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUHFWCGCSVTMPG-UHFFFAOYSA-N [C].[C] Chemical class [C].[C] IUHFWCGCSVTMPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNSCNRPNOIPTTP-UHFFFAOYSA-N [N+](=O)[O-].[Cr] Chemical group [N+](=O)[O-].[Cr] HNSCNRPNOIPTTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNXNYEBMOSARMM-UHFFFAOYSA-N alumane;zirconium Chemical compound [AlH3].[Zr] DNXNYEBMOSARMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910021386 carbon form Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K chromium(3+) trichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cr+3] QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000007739 conversion coating Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000002052 molecular layer Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- VYQNWZOUAUKGHI-UHFFFAOYSA-N monobenzone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1OCC1=CC=CC=C1 VYQNWZOUAUKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007745 plasma electrolytic oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 235000020681 well water Nutrition 0.000 description 1
- 239000002349 well water Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K25/00—Details relating to contact between valve members and seats
- F16K25/005—Particular materials for seats or closure elements
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K11/00—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves
- F16K11/02—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit
- F16K11/06—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit comprising only sliding valves, i.e. sliding closure elements
- F16K11/065—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit comprising only sliding valves, i.e. sliding closure elements with linearly sliding closure members
- F16K11/0655—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit comprising only sliding valves, i.e. sliding closure elements with linearly sliding closure members with flat slides
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K11/00—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves
- F16K11/02—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit
- F16K11/06—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit comprising only sliding valves, i.e. sliding closure elements
- F16K11/078—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit comprising only sliding valves, i.e. sliding closure elements with pivoted and linearly movable closure members
- F16K11/0782—Single-lever operated mixing valves with closure members having flat sealing faces
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K3/00—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing
- F16K3/02—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor
- F16K3/0227—Packings
- F16K3/0236—Packings the packing being of a non-resilient material, e.g. ceramic, metal
-
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Abstract
Un componente deslizante, particularmente una placa de valvula de disco. El componente deslizante incluye una estructura superficial de multiples capas que comprende una capa de refuerzo mas dura que el material de substrato, y una capa superior de diamante amorfo.
Description
COMPONENTE DE VÁLVULA CON MULTIPLES CAPAS SUPERFICIALES CAMPO DE LA INVENCIÓN Esta invención se relaciona generalmente con revestimientos superficiales de múltiples capas para uso con artículos de fabricación y productos que requieren baja fricción bajo desgaste,. y superficies exteriores protectoras, Más particularmente, la invención se relaciona con artículos que tienen componentes mutuamente desligantes tales como componentes, de i?álvula para válvulas mezcladoras de agua, que tienen capas protectoras superficiales que comprenden una capa de refuerzo y un revestimiento de diamante amorfo externa ANTECEDENTES DE LA INVENCIÓN En ciertas aplicaciones, tales como por ejemplo, placas de válvula para válvulas de control de fluido,-existe la necesidad de que las superficies mutuamente deslizantes sean resistentes al desgaste, los elementos de un tipo de válvula de control para meaclar corrientes de agua caliente y fría comprenden típicamente un disco estacionario y un disco deslizante movible,, aún cuando los elementos de placa pueden ser de cualquier forma o geometría teniendo una superficie de sello? incluyendo, v.gr., superficies planas, esféricas y cilindricas. El término "disco" en la. presente, por lo tanto, se refiere a placas de válvula de cualquier forma .y geometría que tienen superficies coincidentes que se acoplan y deslizan una contra otra para formar un sello hermético al fluido. El disco estacionarlo típicamente tiene una entrada de agua caliente7 una entrada de agua fríar y una salida de descarga de agua mezclada,, mientras que el disco movible contiene particularidades similares y una cámara mezcladora. Se debe entender que la cámara mezcladora no necesita estar en el disco pero podria partir de una estructura adyacente ÷ El disco movible traslapa el disco estacionario y se puede deslizar y/o girar en el disco estacionario de manera que el agua mezclada a una temperatura deseada y régimen de flujo se obtenga en la cámara mezcladora regulando el régimen de flujo y proporciones de agua caliente y agua fría admitidas de la entrada de agua caliente y la entrada de agua fria y descargada a través de la salida de descarga de agua mezclada , Las superficies de sello coincidentes de discos se deben fabrican con precisión suficiente para permitir que las dos superficies de sello coincidan juntas y formen un sello hermético al fluido (es decir, deben estar suficientemente conformadas y suaves para impedir que el fluido pase entre las superficies de sello) , El grado de piano (para una forma de placa plana), o conformidad {para superficies no planas) y unifonrtidad requeridos depende algo de la construcción de válvula y fluidos involucrados, y son generalmente bien conocidos en la industria, Otros tipos de válvulas de disco, mientras que todavía usan superficies de sello coincideates ea contacto deslizante entre síT pueden controlar solamente una corriente de fluido o pueden proporcionar mezclado por medio de una estructura diferente o configuración, de portillo El disco estacionario,- por ejemplo? puede ser una parte integral del cuerpo de válvula. La experiencia previa con este tipo de válvula de control lia demostrado que existe ixn problema de desgaste de las superficies coincidentes de los discos debido al hecho de que las discos estacionarios y movibles están en contacto y se deslizan uno contra otro (ver por ejemplo Patentes de E.U.A. Nos. 4?935,313 y 4,966,789). ? fin de reducir al mínimo el problema de desgaste* estos discos de válvula se hacen usualmente de una cerámica sinterizada tal como alúmina {óxido de aluminio) . Mientras que los discos de alúmina tienen buena resistencia al desgast F tienen características fricciónales indeseables en que la fuerza de operación aumenta, y tienden a hacerse '"pegajosos después de que la grasa lubricante o iginalmente aplicada a los discos se desgasta y elimina. La resistencia a la raspadura y abrasión de placas de alúmina a partículas grandes y pequeñas (respectivamente) en la corriente de agua es buena; sin embargo, todavía son susceptibles a daño de las corrientes de agua contaminadas que contienen partlCulaS ablaSÍ'vaS tales COJnO 3 €?3? Í3 IUSJOIQ 3 ste respecto serla benéfica. ikilcloaalmente, la naturaleza porosa de loe discos de cerámica sinterizada los hace ropensos 3 " Süj¾CZOü' ura te eXiOdOS olo gados de O uso, debido a los minerales disueltos en el suministro de agua que se precipitan y cristalizan entre poros coincidentes en las superficies coincidentes. TJn objetivo de la- presente invención es proporcionar discos que tienen desgaste reducidor resistencia mejorada al rayado y abrasión y características fricciónales reducidas. Otro objetivo es proporcionar discos de válvula no porosos o de porosidad reducida que reducen el número de ubicaciones en donde cristales precipitados se pueden formar entre las superficies coincidentes . Las cerámicas sinterizadas- en particular,, son relativamente difíciles y costosas (debido a su dureza) de moler y pulir a un grado de co-conforraldad. y trniformidad adecuado para sellado. Seria ventajoso usar un material para los discos, tal como metal, que es menos costoso, más fácil de rectificar y pulir y que no es poroso. Sin embargo, la resistencia al desgaste y comportamiento friccional de discos metálicos desnudos generalmente no es aceptable para aplicaciones de sello deslizante. Un objetivo adicional de la presente invención es proporcionar discos hechos de metal un material de base que tiene resistencia mejorada al desgaste, rayado y abrasión y características fricciónales mejoradas en comparación con los discos de cerámica no revestidos. Se describe en el ramo anterior (v.gr., E.U.A. 5,707,-384- y E.U.A. 4,734,333, que se incorporan en la presente por referencia) que revestimientos de diamante policristalino depositado mediante deposición de vapor químico (CVD) a temperaturas de substrato de alrededor de 8Q0-1000°C se pueden usar en combinación con capas de adhesión de diversos materiales a fin de proporcionar componentes resistentes al rayado y desgaste. Las películas de diamante policristalino, sin embargo, se sabe que tienen superficies ásperas debido a las facetas de cristal de los granos de diamante individuales, como es aparente en las fotografías de las Figuras 2 y 3 en la patente ,384. Se sabe en el ramo pulir dichas superficies a fin de reducir al mínimo el coeficiente de fricción en aplicaciones deslizantes, o aún depositar el diamante policristalino sobre un substrato uniforme y luego remover la película del substrato y usar el lado uniforme de la película (que estaba previamente contra el substrato) en lugar de la superficie original como la superficie de apoyo. La presente invención supera los problemas del ramo anterior proporcionando un número de particularidades ventajosasr incluyendo sin limitación proporcionar una superficie uniforme y muy dura para aplicaciones de deslizamiento, mientras que se evita procesamiento posterior difícil y costoso de una capa de superficie de diamante policristaliño. La metodología también emplea ventajosamente materiales de substrato (tales como, metales apropiados, vidrios, y materiales compuestos y orgánicos) que no se pueden procesar a las temperaturas elevadas para deposición de CVD de diamante policristaliño. También se describe en el ramo anterior (v.gr., E.ü.A. 6,165,616, que se incorpora en la presente por referencia) que capas de interfaz hechas especialmente se pueden emplear para liberar el esfuerzo inducido "térmicamente en una capa de diamante policristalino. Estos esfuerzos térmicamente inducidos se presentan durante el enfriamiento del substrato después de deposición de revestimiento a temperaturas relativamente elevadas, y se deben a la diferencia en coeficiente de expansión térmica entre el substrato y el revestimiento de diamante. Se especifican cálculos de ingeniería más bien complicados en "'¦olS para predeterminar la composición de capa de interfaz y espesor deseados» El espesor de capa de interfaz descrito en ^616 para reducir al mínimo el esfuerzo térmicamente inducido en la capa de diamante son del orden de 20 a 25 micrones de conformidad con las Figuras 1 a 3.
Estas capas de interfaz gruesas son costosas de depositar, debido al tiempo necesario para depositarlas y el costo elevado del equipo requerido. La presente invención también incluye venta osamente, sin limitación, reducir al mínimo el costo de revestimiento pero que todavía alcanza los resultados deseados empleando capas de interfaz mucho más delgadas que aquellas enseñadas por ^616, y evitar crear los esfuerzos térmicamente inducidos que necesitan estos cálculos de ingeniería complicados depositando una capa superficial dura a una temperatura relativamente baja comparada con el ramo anterior, tal como la patente *616. Se describe además en el ramo anterior [v.gr., E.U.A. 4, 935, 313 y E.U.A. 4,966,789, que se incorporan en la presente por referencia) que carbono de látice cristalográfico cúbico (diamante policristalino) y otros materiales duros se pueden usar como revestimientos superficiales en discos de válvula, y que pares de discos de válvulas mutuamente deslizantes que difieren entre sí en cualquier composición superficial o acabado superficial son preferibles a aquellas son las mismas en estas características,. con respecto a reducir al mínimo la fricción entre las placas. La presente invención proporciona superficies de disco de válvula coincidentes que tienen un coeficiente de fricción inferior que los materiales descritos en aplicaciones superficiales lubricadas con agua o humedecidas con fluido tales como válvulas de agua, y permiten procesamiento idéntico de ambas superficies coincidentes a fin de evitar la necesidad de comprar y operar diferentes tipos de equipo de procesamiento. La presente invención proporciona además, sin limitación, superficies de disco de válvula coincidente que tienen un coeficiente de fricción inferior a los materiales descritos en aplicaciones superficiales lubricadas con agua o humedecidas con fluido tales como válvulas de agua. Además, ambas superficies deslizantes coincididas de los discos pueden ser duras y tener una resistencia a la abrasión a corrientes de agua contaminada y permitir procesamiento idéntico a ambas superficies coincidentes a fin de evitar la necesidad de comprar y operar diferentes tipos de equipo de procesamiento. COMPENDIO DE LA INVENCIÓN La presente invención está dirigida a un componente que tiene una superficie resistente al desgaste, resistencia al rayador resistente a la abrasión y baja fricción. Más particularmente, está dirigida a componentes que tienen una estructura de múltiples capas que comprende una capa de refuerzo delgada que tiene dureza superior que el material de substrato, y una capa de diamante amorfo delgada resistente al delgado y reductora de fricción depositada sobre la capa de refuerzo. La capa de diamante amorfo proporciona una superficie de sello de baja fricción, resistente al desgaste y abrasión con -ventajas particular en aplicaciones lubricadas con agua o humedecidas con fluido. La incorporación de una capa de refuerzo para soportar la capa de diamante amorfo superior, proporciona mejor resistencia al rayado y abrasión que una capa de diamante amorfo sola, y permite que se use una capa de diamante amorfa más delgada. La capa de refuerzo es particularmente útil para evitar problemas con partículas grandes atrapadas entre las superficies coincidentes, que pueden romper a través de revestimiento de diamante delgado debido a la deformación plástica del substrato más suave debajo. BREVE DESCRIPCIÓN DE LOS DIBUJOS La Figura 1 es una forma de válvula que incorpora una estructura de múltiples capas con una capa de diamante amorfo quedando sobre un substrato; La Figura 2 es un detallé de una forma de estructura de múltiples capas de la invención; La Figura 3 ilustra todavía otra estructura de múltiples capas con una capa de promoción de adhesión adicional añadida; La Figura 4 es una forma adicional de estructura de múltiples capas de la Figura 2, en donde una capa de refuerzo incluye dos capas de diferentes materiales? y La Figura 5 es una fotomicrografía de la apariencia superficial de una capa de diamante amorfo exterior sobre un substrato o capa subyacente. DESCRIPCIÓN DE LAS MODALIDADES PREFERIDAS Las -modalidades de la invención se ilustran generalmente en las figuras,- en donde la Figura 1 muestra una forma de la válvula 10 con manija 12 que incorpora la invención. En particular, las Figuras 2-4 ilustran una porción de una válvula 10 que tiene un substrato 18 para un componente 20 deslizante y/o un componente 22 fijo de la válvula 10 que puede comprender un material de base en donde el material de base puede ser igual o diferente en el componente 20 deslizante y el componente 22 fi o. En otras modalidades, uno de los componentes 20, 22 puede ser fijo. De preferencia el material de base es una cerámica sinterizada o un metal. Los materiales de base también pueden comprender vidrios o materiales vitreos, cerametales, materiales poliméricos, materiales compuestos, compuestos intermetálicos tales como aluminuro de hierro, y otros materiales mecánicamente apropiados para la aplicación. Los metales pueden incluir, por ejemplo, cualquier metal convencional, incluyendo sin limitación, acero inoxidable, latón, zirconio, titanio, aluminio, y aleaciones de los últimos tres materiales. El acero inoxidable, titanio, y zirconio, y aluminio son los metales más preferidos? con el término acero inoxidable haciendo referencia a cualquier tipo tal como 304, 316, etc., y variaciones hechas de los mismos y con los términos titanio, zirconio- y aluminio entendidas que incluyen aleaciones comprendidas en su mayor parte de esos metales. El acero inoxidable sinterizado (pulverizado) es un material de substrato preferido debido a que se puede moldear económicamente en formas complejas apropiadas para discos y se pueden moler y pulir económicamente para lograr-una superficie de sello uniforme coincidente. En el caso de acero inoxidable sinterizadof substratos "totalmente densos" y substratos moldeados por inyección de metal se prefieren. El titanio y zirconio son materiales de base preferidos debido a que se pueden oxidar o anodizar fácilmente para formar una capa superficial dura. Las cerámicas pueden ser cualquier material de cerámica convencional, incluyendo sin limitación, por ejemplo, alúmina süterizada (óxido de aluminio) y carburo de silicio? con alúmina siendo un material preferido. Los materiales compuestos pueden incluir, por ejemplo, cualesquiera cerametales convencionales, epoxis reforzados con fibra y poliamidas, y compuestos de carbóno-carbó o. El vidrio y materiales vitreos pueden incluir por ejemplo vidrio de borosilicato tal corno Pyrex6®-, y materiales tales como vidrio laminado endurecido y vidrio-cerámica. El vidrio, materiales vitreos y cerametales son substratos preferidos debido a que se pueden moldear económicamente hacia formas complejas apropiadas para discos y se pueden moler y pulir económicamente a una superficie plana y uniforme . El aluminuro de hierro se entiende que es un material que consiste principalmente de ese hierro y aluminio pero también puede contener cantidades pequeñas de dichos otros elementos tales como molibdeno, zirconio, y boro . Como se muestra en la Figura 2, una capa 23 de refuerzo también se puede colocar directamente sobre la superficie 18 de substrato. Esta- capa 23 puede comprender un material que tiene dureza superior que el substrato 18. Los materiales apropiados para la capa 23 de refuerzo pueden incluir compuestos de cr, TI, ¾, zr y cualesquiera otros metales convencionalmente conocidos para uso en revestimientos duros. Los compuestos incluyen sin limitación nitruros, carburos, óxidos, carbo-nitruroa, y otros materiales de fase mixta que incorporan nitrógeno,, oxígeno,, y carbono. Un material altamente preferido para la capá 23 dé refuerzo es nitruío dé cromó. El nitrüro de cromo en la presente solicitud se refiere más preferentemente a un compuesto de fase única o mixta de Cromo y nitrógeno qué tiene con eñido dé nitrógeno en la escala de aproximadamente 10 a aproximadamente 50 por ciento atómico El término nitruro de cromo también se refiere a un material que contiene elementos de aleación o adulteración tales como itrio, escandio y 1antaño, además de cromo y nitrógeno. Otro material apropiado para la capa 23 de refuerzo es DLC {Carbono Semejante a Diamante) convencional, que es una forma de carbono no cristalino bien conocido en el ramo y distinto al diamante amorfo. Los revestimientos de DLC se describen, por ejemplo en la patente de E.Ü.A. 6,-165,616 (en la que se llaman revestimientos (a-C) } . DLC se puede depositar mediante chisporroteo o mediante- CVD convencional. DLC es un material amorfo que en su mayox"ia enlace de sp2 caxbono y poco del enlace sp3 tetrahidrico que caracteriza al diamante amorfo. La dureza de DLC es substancialmente inferior a aquella del diamante amorfo y es más similar a la dureza de materiales de revestimiento duros convencionales tales como nitruro de titanio y nitruro de cromo. Los esfuerzos internos en revestimientos de DLC también son inferiores a aquellos en revestimientos de diamante amorfo, permitiendo que el Dlc se deposite en capas más gruesas que el diamante amorfo sin pérdida de adhesión. El término DLC como se usa en la presente incluye formas hidrogenadas del material . La capa 23 de refuerzo funciona principalmente para mejorar la resistencia al rayado y abrasión del revestimiento de múltiples capas . La dureza de la capa 23 de refuerzo debe ser cuando menos mayor que aquella del substrato 18 a fin de realizar su función pretendida de mejorar la resistencia al rayado del disco revestido. El espesor de la capa 23 de refuerzo es cuando menos un espesor suficiente para mejo a la resistencia al rayado del substrato 18. Para materiales típicamente usados como revestimientos duros, como aquellos arriba descritos, este espesor es generalmente de alrededor de 500 nm a alrededor de 10 mícrones, y de preferencia de aproximadamente 2000 nm a aproximadamente 5000 nm. La probar válvulas de agua de-grifo se ha encontrado que xma capa de refuerzo de nitruro de cromo que tiene un espesor de aproximadamente 5 mícrones proporciona resistencia adecuada al rayado y __abrasión (en conjunción con una capa superior de diamante amorfo delgada) para tipos y tamaños de contaminantes considerados como típicos en fuentes de agua municipales y de pozo. En algunas modalidades de la presente invención como se muestra en la Figura 3 y para el componente 22 de la Figura 4, una capa 21 de promoción de adhesión delgada se puede depositar sobre el substrato 18 y luego la capa 23 de refuerzo sobre la capa 21. Esta capa 21 funciona para raejorar la adhesión de la capa 23 de refuerzo sobreyacente al substrato 18. Los materiales apropiados para la capa 21 de promoción de adhesión incluyen de preferencia cromo y también pueden incluir titanio, tungsteno, otros metales refractarios, silicio, y otros materiales conocidos en el ramo como apropiados como capas de promoción de adhesión. La capa 21 se puede hacer convenientemente usando el mismo material elemental seleccionado para la capa 23 de refuerzo. La capa 21 tiene un espesor que es cuando menos adecuado para promover o mejorar la adhesión de la capa 23 al substrato 18. Este espesor es generalmente de alrededor de 5 nm a alrededor de 200 nmr y más preferentemente de aproximadamente 30 nm a aproximadamente 60 nm. La capa 21 de promoción de adhesión se puede depositar por técnicas de deposición de vapor convencionales, incluyendo de preferencia deposición de vapor física ( PVD } y también se puede hacer mediante deposición de vapor químico {CVD) . Los proceso de PVD son bien conocidos y convencionales e incluyen evaporación de arco catódico (CAE), chisporroteo, y otros procesos de deposición convencionales. Los procesos de CVD pueden incluir deposición de vapor químico de baja presión (LPCVD) , deposición de vapor químico mejorado con plasma (PECVD), y métodos de descomposición térmica. Las técnicas y equipo de PVD y CVD se describen, entre otros, en J, Voseen y . Kern "Thin Film Processes II", Academia press, 1991; R. Boxman y col., ^Hand ook of Vacuum Are Science and Technology", Noyes- 1995; y Patentes de E.U,A. Nos. 4,162,954 y 4,591,418, con las patentes incorporadas en la presente por referencia. En el caso de materiales de cerámica sinterizada, aún cuando los gránulos individuales que forman el material sinterizado pueden tener dureza elevada, la resistencia al rayado de la estructura sinterizada total como se mide mediante prueba de rayada es muy inferior a aquella del material que forma los gránulos {v.gr., alúmina). Esto se debe al hecho de que los materiales usados típicamente para sinterizar o ligar los gránulos de alúmina juntos, silicatos típicamente, no son tan duros como los propios gránulos» La dureza de la capa 23 de refuerzo puede ser similar a o aún menor que la dureza de los gránulos individuales que comprenden el disco de cerámica, y todavía siendo más duros que la estructura de cerámica sinterizada total. Se ha encontrado mediante experimento, por e emplo, que la profundidad del rayado ocasionado por un estilete (radio = 100 micrones) deslizándose bajo una carga de 30 Newto s es aproximadamente 4-6 micrones sobre un substrato de. alúmina sinterizado no revestido, mientras que la profundidad de rayado sobre un substrato idéntico revestido con una capa de refuerzo de nitruro de cromo de 3 micrones de grueso es solamente 2—3 micrones. la capa 23 de refuerzo se puede formar por técnicas convencionales de deposición de vapor incluyendo, pero no limitado a chisporroteo,- evaporación de arco catódico {C¾£j, y CVD. Los métodos más preferidos son chisporroteor CAE, y otros medios que se pueden llevar a cabo a una temperatura relativamente baja, reduciendo al mínimo de esta manera los esfuerzos térmicamente inducidos en la pila de revestimiento durante el enfriamiento. Si la capa 23 de refuerzo se deposita por CAE, también es deseable utilizar filtración de macropartícula a fin de controlar y conservar la uniformidad de la superficie del substrato 18. La capa 23 de refuerzo también se puede formar por otros métodos bien conocidos para formar revestimientos duros tales como pirólisis de rociadura, técnicas de sol-gel, inmersión en líquido con tratamiento térmico subsecuente, métodos de nano-fabrieación, métodos de deposición de capa atómicos, y métodos de deposición de capa molecular. La capa 23 de refuerzo alternativamente se puede formar mediante un proceso que produce una capa superficial endurecida sobre el material de base de substrato. Dichos procesos incluyen, por ejemplo, oxidación térmica, nitruración con plasma, implantación de ion, tratamientos superficiales químicos y electroquímicos tales como revestimientos de conversión química, anodización incluyendo anodización dura y tratamientos posteriores convencionalesF oxidación de micro arco y endurecimiento de caja. La capa 23 de refuerzo también puede incluir múltiples capas 24 y 25 como se muestra en la Figura 4, en donde las capas 24 y 25 juntas forman la capa 23 de refuerzo. Por ejemplo, la capa 24 puede ser un óxido térmicamente desarrollado sobre el material de base de substrato mientras que la capa 25 es un material depositado tal como CrN. La capa 23 de refuerzo también puede incluir más de dos capas, y de preferencia puede comprender por ejemplo un tipo de superlátice de revestimiento con un número grande de capas, alternas muy delgadas. Esta forma de múltiples capas o de superlátice de la capa 23 de refuerzo también puede incluir una o múltiples capas de diamante amorfo. En la estructura de múltiples capas de las Figuras 1-4f la capa 30 de diamante amorfo se deposita sobre la capa 23 de refuerzo para formar una capa superficial exterior. El propósito de la capa 30 de diamante amorfo es proporcionar una superficie superior muy dura resistente al desgaste abrasión y lubricada sobre los componentes deslizantes. El diamante amorfo es una forma de carbono no cristalino que es bien conocido en el ramo, y en ocasiones se refiere como carbono amorfo tetra idricamente ligado (taC) . Se puede caracterizar como teniendo cuando menos 40 por ciento de enlace de carbono sp3, una dureza de por lo menos 45 gigaPascales y un módulo elástico de cuando menos 400 gigaPascales, Los materiales de diamante amorfo se describen en las patentes de E.U.A. Nos» 5 799,-549 y 5f 992,268, ambas de las cuales se incorporan en la presente por referencia. La capa 30 de material de diamante amorfo se puede aplicar por procesos que incluyen, por ejemplo, evaporación de arco catódico filtrado convencional y ablación láser. El termino diamante amorfo como se utiliza en la presente incluye todas las formas de carbono tipo taC y también puede contener elementos de adulteración o aleación tales como nitrógeno y metales, y también incluye materiales nano-estructurados que contienen diamante amorfo. Los materiales nano-estructurados significan en la presente materiales que tienen particularidades estructurales en la escala de nanómetros o decenas de nanómetros, incluyendo pero no limitado a superlatlces» El espesor- de la capa 30 de diamante amorfo es cuando menos un valor efectivo para proporcionar resistencia mejorada al desgaste y abrasión del componente deslizante. Este espesor es generalmente cuando renos alrededor de 100 nm, de preferencia por lo menos alrededor de 200 nm, y más preferentemente cuando menos alrededor de 300 nm. La escala de espesor superior de la capa 30 se determina por características de material, consideraciones económicas y la necesidad de reducir al mínimo los esfuerzos intrínsecos dependientes de espesor en la capa 30 como se discute abajo. También la capa 30 de diamante amorfo exhibe ventajosamente una topología superficial extremadamente uniforme como se puede ver haciendo referencia a la foto de la Figura 5,. principalmente debido a que no hay granos de diamante individuales en un revestimiento amorfo. Además, la topografía superficial de la capa 30 de diamante amorfo delgada esencialmente copia aquella de la subsuperficie sobre la que se deposita y, por lo tanto, la capa 30 de diamante amorfo tiene substancialmente la misma dureza superficial promedio que aquella de la subsuperficie. Las inclusiones grafiticas, visibles como puntos de luz en la Figura 5, no contribuyen a la dureza superficial,, como se usa el término en la presente, debido a que son muy suaves y se reducen a un polvo lubricante cuando las superficies deslizantes se ponen en contacto. El diamante amorfo tiene la venta a adicional de que se puede depositar a temperaturas muy inferiores (generalmente inferiores a aproximadamente 250°C) que el diamante polieristalino, eliminando de esta manera la necesidad de las capas de interfaz calculadas, gruesas descritas en el ramo anterior (ver, v.gr., E.ü.A. 6,165,618} para liberar el esfuerzo térmicamente inducido en la capa de diamante. Estos esfuerzos térmicamente inducidos se suscitan durante el enfriamiento después de la deposición a las temperaturas elevadas características de CVD, y se deben, a la diferencia en coeficiente de expansión térmica entre el substrato y el revestimiento de diamante. Se ha encontrado que el tipo de cálculos descritos en la patente "616 para determinar el espesor de su capa de interfaz de liberación de esfuerzo térmicamente inducido no son necesarios para películas de diamante amorfo debido a la baja temperatura de deposición. Una característica de diamante amorfo es que desarrolla esfuerzos internos {no térmicamente inducidos) intrínsecos elevados, que aumentan, a medida que aumenta el espesor de revestimiento y que están relacionados principalmente con distorsiones de enlace atómico y no con la expansión/contracción térmica. Mientras que este esfuerzo intrínseco se cree que construye a la dureza elevada del material, también limita el espesor de revestimiento puesto que las fuerzas inducidas por esfuerzo tienden a ocasiona deslaminación del revestimiento a partir del substrato 18 {o la capa 23 de refuerzo} por encima de un cierto espesor. Aún cuando el diamante amorfo se puede depositar directamente sobre un metalr vidrio o disco de alumínuro de hierro (opcíonalmente con una capa de adhesión.) , es difícil depositar una capa suficientemente gruesa para proporcionar resistencia al raspado adecuada para aplicaciones de válvula de agua. La resistencia al rayado o raspado es importante debido a que los suministros de agua en ocasiones contienen contaminantes abrasivos debido a roturas de linea de tuheríaf construcción,- etc. La capa 23 de refuerzo adicional de la presente invención proporciona mejor soporte de la capa 30 de diamante amorfo que el material de substrato más suave, venta osamente permitiendo que se use una capa más delgada de diamante amorfo, mientras que todavía se obtiene resistencia mejorada al rayado y abrasión. La capa 23 de refuerzo también se puede seleccionar para ser un material que tiene un mayor régimen de deposición y/o es menos costosos de depositar que la capa 30 de diamante amorfo, a fin de reducir al mínimo el costo de revestimiento total mientras que se mantiene el funcionamiento» En la modalidad más prefexpida, un limite de espesor superior para la capa 30 de diamante amorfo de alrededor de 1-2 micrones se puede usar para evitar deslaminación inducida por esfuerzo, mientras que un espesor superior de alrededor de 800 nmf y más preferentemente alrededor de 300-500 nmr puede ser deseable debido a razones económicas mientras que todavía se logran las características de funcionamiento deseadas. El diamante amorfo es bien apropiado para aplicaciones deslizantes en húmedo en aplicaciones de válvula de agua. En particular, se lia mostrado que tener un coeficiente muy bajo de fricción y también desgaste a la abrasión extremadamente bajo en pruebas deslizantes lubricadas con agua en las que ambas superficies deslizantes están revestidas con diamante amorfo. En contraste, los revestimientos de DLC se sabe que tienen coeficientes de fricción más elevados,- regímenes de desgaste superiores, y también deterioran el funcionamiento de fricción con humedad aumentando. Una ventaja adicional de diamante amorfo es que la temperatura de deposición relativamente baja permite una selección más aplica de los materiales de substrato y reduce al mínimo o elimina la distorsión permanente térmicamente inducida del substrato. Respecto al coeficiente de fricción bajo reportado para revestimientos de diamante amorfo en pruebas deslizantes lubricadas con agua, se piensa que este se puede deber cuando menos en parte a inclusiones grafiticas {comúnmente llamadas macropartículas) que se incorporan en revestimientos de diamante amorfo hechos por algunos métodos» Estas inclusiones grafiticas pueden ser numerosas en revestimientos de carbono depositados por evaporación de arco catódico, dependiendo de los materiales de meta de selección y uso de medios de filtración de macroparticula como se discute abajo. Estas inclusiones grafiticas no degradan el funcionamiento del revestimiento de diamante amorfo debido a su suavidad y la pequeña fracción del área superficial total que ocupan, Más bienr se cree que pueden mejorar el funcionamiento aumentando la retención de lubricante entre las placas deslizantes . Se describe en E.U.A. 5. 01,543 (incorporada en la presente por referencia} que los revestimientos de diamante amorfo que están esencialmente libres de macroparticulas se pueden depositar mediante evaporación de arco catódico de un carbono vitreo o cátodo de grafito pirolitico. La densidad máxima de macroparticulas
(inclusiones grafiticas} en dichos revestimientos, como se calcula de las dimensiones de área de las figuras fotográficas y las cuentas de marcropartxcula descritas, es alrededor de 200 macroparticulas por milímetro cuadrado. Estos revestimientos de diamante amorfo libres de macroparticulas se pueden usar como capa 30 en la presente invención, pero son menos preferidos que aquellos depositados de un cátodo de grafito ordinario y que contienen números substanciales de inclusiones grafiticas, tales como por ejemplo,- cuando menos aproximadamente 500 por milímetro cuadrado. También son menos preferidos debido a que el carbono vitreo o cátodos de grafito pirolitico requeridos son muy costosos comparados con la grafito ordinario. El número de inclusiones 40 grafiticas incorporadas en los revestimientos (ver la Figura 4 que los muestra esquemáticamente) depositado mediante evaporación de arco filtrado de un cátodo de grafito ordinario se puede controlar de conformidad con la presente invención seleccionando el diseño de filtro y parámetros de operación de manera de permitir que el número deseado de macroparticulas se transmita a través de la fuente. Los factores que influencian la transmisión de macroparticulas a través de un filtro se discuten,- v. gr . , en E . ü .A. 5,840,163, incorporada en la presente por referencia. Los diseños de filtro y parámetros de operación se seleccionan convencionalmente para reducir ai mínimo el número de macroparticulas transmitidas a través de la fuente, sin embargo esta selección también reduce generalmente la salida (deseada] de iones de carbono y, por lo tanto, reduce el régimen de deposición. Contrario a esta práctica usualf encontramos que es preferible para los propósitos de reducir al mínimo el costo de revestimiento,- seleccionar el diseño de filtro y parámetros de operación de manera de llevar al máximo la salida de ion de carbono ole la fuente (es decir, el régimen de deposición), sin exceder el número máximo tolerable de inclusiones grafiticas incorporadas en el revestimient » El número máximo tolerable de inclusiones es aquel numero por encima del cual el funcionamiento de las partes re\Testidas se deteriora inaceptablemente de do a la fracción incrementante del área superficial ocupada por las inclusiones. Los factores de funcionamiento críticos pueden incluir ninguna fuga del fluido de trabajo, coeficiente de fricción deslizante, resistencia al rayado y abrasión y vida de desgaste. Se ha encontrado que las densidades de superficie de inclusión grafitica substaneialmente superiores a 500/imfr son tolerables, y pueden ser benéficas como se describe arriba. La adhesión de la capa 30 de diamante amorfo de una forma de nitruro de la capa 23 de refuerzo en algunos casos se puede rae orar mediante la introducción de un gas que contiene carbono, tal como metano, durante un período corto al final de la deposición de la capa 23 de refuerzo. Esto resulta en una zona de transición delgada de carbo-nitruro y/o material de carburo entre la capa 23 de refuerzo y la capa 30 de diamante amorfo. En otros casos, la adhesión se puede mejorar interrumpiendo todos los gases reactivos durante un período corto al final de la deposición de la capa 23 de refuerzo. Esto resulta en una capa de metal delgada entre la capa 23 de refuerzo y la capa 30 de diamante amorfo. También se ha observado que la introducción de metano durante la deposición de arco filtrado de la capa 30 de diamante amorfo aumenta el régimen de deposición de revestimiento, y también puede rae rar la dureza de revestimiento y resistencia al rayado. En todavía otros casos, por ejemplo el caso en el que la capa 30 de diamante amorfo se va a depositar sobxe una superficie de metal térmicamente oxidada, puede ser deseable depositar la capa 21 de promoción de adhesión separada entre la capa 23 de refuerzo y la capa 30 de diamante amorfo. Los materiales apropiados para la capa 21 de adhesión pueden incluir, por ejemplo, metales de formación de carburo refractario, tales como Ti y W, y varios metales de transición tales como Cr, y también pueden incluir carburos de esos metales. A fin de que la invención se pueda entender más fácilmente,- se proporcionan los siguientes ejemplos . Los ejemplos son ilustrativos y no limitan la invención a los aspectos particulares descritos. EJEMPLO 1 Discos de válvula de acero inoxidable limpios se colocan en una cámara de deposición al vacio que incorpora un cátodo de evaporación de arco y un cátodo de chisporroteo. La fuente de arco se ajusta con medios de filtración para reducir la incorporación de macroparticulas en el revestimiento,- como se describe por ejemplo en E.U.A. 5,480,-527 y 5,840,163, incorporadas en la presente por referencia, Las fuentes de argón y nitrógeno se conectan a la cámara a través de un distribuidor con válvulas a ustables para controlar el régimen de flujo de cada gas hacia la cámara. El cátodo de chisporroteo se conecta a la salida negativa de un suministro de energía de CD. El lado positivo del suministro de energía se conecta a la pared de cámara. El material de cátodo es cromo. Los discos de válvula se disponen en frente del cátodo, y se pueden girar o mover de otra manera durante la deposición para asegurar espesor uniforme de revestimiento. Los discos se aislan eléctricamente de la cámara y se conectan a través de su cremallera de montaje a la salida negativa de un suministro de energía de manera que un voltaje de derivación se pueda aplicar a los substratos durante el revestimiento. Antes de la deposición,- la cámara de vacío se evalúa a una presión de 2xl0e-5 Torr o menos. Luego se introduce gas de argón a un régimen suficiente para mantener una presión de aproximadamente 25 milíTorr . Los discos de válvula luego se someten a limpieza de plasma de descarga luminiscente en la que un voltaje de derivación negativo de aproximadamente 500 voltios se aplica a la cremallera y discos de válvula. La duración de la limpieza es aproximadamente 5 minutos. üna capa de cromo que tiene un espesor de alrededor de 20 nm se deposita luego sobre los discos de válvula mediante chisporroteo. Después de que se deposita la capa de adhesión ele cromo,, una capa de refuerzo de ni ruro de cromo que tiene un espesor de alrededor de 3 micrones se deposita mediante chisporroteo reactivo.
Después de que se deposita la capa de nitruro de cromo, los discos de válvula se disponen orientados a la fuente de arco, y una capa de diamante amorfo superior que tiene un espesor de alrededor de 300 nm se deposita golpeando un arco en el electrodo de carbono y exponiendo los substratos al píasiria de carbono que sale de la salida de fuente» Una derivación de CD negativa de aproximadamente 500 voltios se aplica iniciaimente a los substratos para proporcionar bombardeo de ion de energía elevada parta limpieza de superficie y raejora de enlace. Después de aproximadamente 5 minutos a voltaje de derivación elevado, el voltaje de derivación se reduce a aproximadamente 50 voltios por el resto del proceso de deposición. Una presión de argón de alrededor de 0.5 miliTorr se mantiene en la cámara durante la deposición. Voltajes pulsados o de derivación de CA se pueden emplear alternativamente, y un argón superior o inferior también se puede mantener a fin de estabilizar la operación de fuente de arco y optimizar las propiedades de revestimiento. Se ha encontrado mediante experimento que los diseos de válvula hechos de acero inoxidable y revestidos de conformidad con el ejemplo anterior fueron capaces de soportar más de 15,000 ciclos de prueba al circular agua que lleva arena de sílice de 20 miorones, mientras que los discos de válvula de alúmina no revestidos convencionales fallaron bajo las mismas condiciones en menos de 2500 ciclos . EJEMPLO 2 Discos de válvula de zix~conio limpios se colocan en un horno de aire, calentado a una temperatura de 560°C, mañ énidós* a esta temperatura durante aproximadamente 6 horas, y se enfriaron. Una capa de refuerzo de óxido de zirconio se forma de esta manera sobre la superficie de substrato, que tiene un espeso de 5—10 micrones. Los discos luego se colocan en una cámara de deposición al vacio que incorpora un cátodo de evaporación de arco filtrado y un cátodo de chisporroteo. Una capa de adhesión de cromo que tiene un espesor de alrededor de 20 nm se deposita sobre los discos de válvula mediante chisporroteo coiftG Sé escribe en el ejemplo 1. Después se deposita la capa de adhesión de cromo, una capa de diamante amorfo se deposita como se describe en el Ejemplo 1. Los discos* de válvula hechos de zirconio y tratados como se describe para formar una estructura de múltiples capas sobre sus superficies se probaron para resistencia al rayado, utilisando un probador de raspado con carga variable. Las profundidades de rayado generadas en los discos de Zr tratados por una punta de estilete que tiene radio de 100 mic-rones bajo una carga de 3 Newtoíis fueron alrededor de 4.7 mlcroRes de pro undidad, mientras que aquellos en discos de Zr no tratados fueron de aproximadamente 9.5 micrones o más del doble de profundo. El funcionamiento de prueba de raspado se cree que es un predictor relevante de resistencia al rayado y abrasión en las aplicaciones de campo. EJEMPLO 3 Discos de válvula de vidrio moldeado limpios se colocan en una cámara de deposición al vacio que incorpora una fuente de ablación láser, una fuente de PECVD, y un cátodo de chisporroteo- ios discos de válvula se someten a una limpieza de plasma de descarga de RF (radio frecuencia) por medios conocidos. Una capa de adhesión de titanio que tiene un espesor de alr-ededoz" de 20 imt se deposita luego sobre los discos de válvula mediante chisporroteo. Una capa de refuerzo de DLC que tiene espesor de aproximadamente 3 micrones se deposita luego sobre la capa de adhesión mediante PECVD utilizando parámetros de deposición conocidos, Una capa de diamante amorfo que tiene espesor de alrededor de 300 nm se deposita luego sobre la capa de DLC mediante ablación láser usando parámetros de deposición típicos, EJEMPLO 4 Discos de válvula de acero inoxidable limpios se colocan en una cámara de vacio que contiene una fuente de evaporación de arco filtrado y un cátodo de chisporroteo.
La cámara se evacúa, se introduce gas de nitrógeno, una descarga de plasma se establece entre los discos y las paredes de cámara, y la superficie de disco se nitrura con plasma de conformidad con parámetros conocidos. El nitrógeno se difunde hacia los substratos inoxidables para formar una capa superficial más dura que el substrato en volume r y el proceso se continua durante un periodo de tiempo suficiente para que la profundidad de capa alcance aproximadamente 2 miorones. Un superlátice que consiste de múltiples capas alternas de nitruro de carbono y nitruro de zirconio se deposita luego sobre la superficie de acero inoxidable nitrurada mediante evaporación de arco filtrado y chisporroteo,, respectivamente. Xas C3.ps.s individuales alternas son de alrededor de 10 nm de grueso , y aproximadamente 100 capas de cada material se deposita para un espesor de superlátice total de alrededor de 2 micrones. La relación de nitrógeno a carbono en las capas de nitruro de carbono es de preferencia alrededor de 1.3, puesto que los superiátices de nitruro de carbono + nitruro de zirconio que tienen esta relación de N:C han mostrado tener principalmente carbono sp3-enlazado y dureza en la escala de 50 gigaPascales . El nitruro de carbono como se utiliza en la presente se refiere a un material que tiene una relación de HíC entre aproximadamente 0.1 y 1.5. El úmero grande de capas delgadas puede depositarse convenientemente montando ei substrato sobre un cilindro giratorio de modo que los substratos pasen primero en frente de una fuente de deposición y luego la otra, de modo que un par de capas se deposita durante cada revolución del cilindro. El espesor total de capa de refuerzo es aproximadamente 4 miorones incluyendo la capa de acero inoxidable nitrurada con plasma. Una capa de diamante amorfo que tiene espesor de aproximadamente 200 nm luego se deposita sobre la capa de superlátice mediante evaporación de arco filtrada como se describe en el Ejemplo 1. La construcción y disposición de los elementos mostrados en las modalidades preferidas y otras de ejemplo es ilustrativamente solamente. Aún cuando solamente unas pocas modalidades se lian descrito en detalle en esta exposiciónf aquellos expertos en el ramo que revisen esta exposición apreciarán fácilmente que son posibles muchas modificaciones (v.gr-, variaciones en tamaños, dimensiones, estructuras? formas y proporciones de los diversos elementos, valores de parámetros, uso de materiales, etc.), sin abandonar materialmente las enseñanzas novedosas y ventajas del asunto materia mencionado en la presente. El orden o secuencia de cualesquiera pasos de proceso o método se puede variar o hacer en nueva secuencia de conformidad con modalidades alter ativas. Otras substituciones, modificacionesr cambios y omisiones se pueden hacer en el diseño, condiciones de operación y disposición de las modalidades preferidas y otras de ejemplo sin abandonar el alcance de la presente invención.
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Claims (1)
- 35 REIVINDICACIONES 1.- Un primer componente de una válvula de disco,- el primer componente teniendo una superficie de sello en contacto deslizante con un segundo componente de la válvula que también tiene una superficie de sello, la superficie de sello del primer componente teniendo una superficie de sello de conformación suficientemente uniforme para prevenir substancialmente la transmisión de un fluido entre cada una de las superficies de sello, caracterizado en que el primer componente comprende: un material de base; una capa de refuerzo que comprende un material más duro que el material de base, la capa de refuerzo teniendo un espesor menor de aproximadamente 10 miorones; y una capa de diamante amorfo dispuesta en la capa de refuerzo, la capa de diamante amorfo formando la superficie de sello, y la capa de diamante amorfo teniendo un espesor de cuando menos un valor suficiente para mejorar la resistencia al desgaste del primer componente. 2.- El componente de conformidad con la reivindicación 1, en donde el material de base se selecciona a partir del grupo que consiste en un vidrio, vidrio-cerámica, un material vitreo, y un material polimérico . 3. - El componente de conformidad con la 36 reivindicación 1, en donde el material de base comprende aluminuro de hierro . 4.- El componente de conformidad con la reivindicación 1, en donde la capa de refuerzo comprende DLC (carbono como diamante) . 5.- El componente de conformidad con la reivindicación 1, en donde la capa de refuerzo comprende una estructura de súper reticulado. 6.- El componente de conformidad con la reivindicación 1, en donde la capa de refuerzo comprende nitruro de cromo. 7.- El componente de conformidad con la reivindicación 1, en donde la capa de diamante amorfo incluye inclusiones grafiticas. 8.- El componente de conformidad con la reivindicación 7, en donde las inclusiones grafiticas tienen una densidad superficial de cuando menos aproximadamente 500/mm2. 9. - El componente de conformidad con la reivindicación 1, en donde el material de base se selecciona a partir del grupo que consiste en acero inoxidable, aluminio/ latón, titanio, zirconio, un cerametal y una cerámica. 10.- El componente de conformidad con la reivindicación 1, en donde la capa de refuerzo comprende un 37 material seleccionado a partir del grupo que consiste en una capa de óxido, una capa de carburo, una capa de carbo-nitruro, y una capa de nitruro . 11. - El componente de conformidad con la reivindicación 1, en donde el espesor de la capa de refuerzo es alrededor de 50Q nm a alrededor de 6 roderones. 12. - El componente de conformidad con la reivindicación 1, en donde el espesor de la capa de diamante amorfo es aproximadamente 10 a aproximadamente 50Q nm. 13. - El componente de conformidad con la reivindicación 11f en donde el material de base comprende acero inoxidable, la capa de refuerzo comprende nitruro de cromo, y el espesor de la capa de diamante amorfo es alrededor de 100 a alrededor de 500 nm. 14. - El componente de conformidad con la reivindicación 1, en donde la capa de diamante amorfo incluye además una dureza superficial promedio que no es substancialmente superior a aquella de la capa de refuerzo, la capa de diamante amorfo incluyendo inclusiones grafiticas presentes en la superficie. 15. - El componente de conformidad con la reivindicación 1, en donde la capa de refuerzo tiene un espesor de cuando menos un valor suficiente para mejorar las resistencia al rayado del primero y segundo 38 componentes . 16.- Un método para formar un componente deslizante de una válvula de disco, que tiene un material de base, los pasos de método caracterizados por: depositar una capa de refuerzo sobre el material de base; y depositar mediante deposición de vapor físico una capa de diamante amorfo uniforme sobre la capa de refuerzo. 17.- El método de conformidad coa la reivindicación 16, en donde la temperatura durante la deposición de la capa de refuerzo y la capa amorfa es menos de alrededor de 200°C-30Q°C? evitando de esta manera cualquier necesidad de calcular propiedades mecánicas y térmicas predeterminadas del material de base, la capa de refuerzo y la capa de diamante amorfo. 18.- El método de conformidad con la reivindicación 16, en donde el paso de depositar incluye formar una fase de grafito dentro de la capa de diamante amorfo. 19.- El método de conformidad con la reivindicación 16, en donde el paso de depositar una capa de diamante amorfo uniforme comprende formar una estructura de súper reticulado comprendida de una pluralidad de capas de diamante amorfo. 20. - El método de conformidad con la 39 reivindicación 16, en donde el paso de depositar una pluralidad de capas de diamante amorfo comprende formar capas múltiples de súper reticulado coa cuando meaos una capa de diamante amorfo y otra capa de diferente fase de diamante . 21»- El método de conformidad con la reivindicación 19, en donde el paso de formar un súper reticulado incluye formar múltiples capas de cuando menos una capa de diamante amorfo y otra capa de diferente fase de diamante. 22. - El método de conformidad con la reivindicación 19, en donde el paso de depositar una capa de refuerzo comprende formar una capa de espesor menor de aproximadamente 5000 nanometros. 23.- Un método para formar un componente deslizante para una válvula de disco que comprende los pasos de: proporcionar un material de base, formar sobre el material de base una capa de refuerzo que comprende un material más duro que el material de base, el espesor de la capa de refuerzo siendo cuando menos de un valor suficiente para mejorar la resistencia al rayado del componente; y formar sobre la capa de refuerzo una capa de diamante amorfo mediante un proceso que incluye formar 40 inclusiones grafiticas en la capa de diamante amorfo y que se conduce a temperatura suficientemente baja de modo que la capa de diamante amorfo no se hace deslaminar de la capa de refuerzo por esfuerzos térmicamente inducidos durante el enfriamie to, la capa de diamante amorfo teniendo un espesor cuando menos suficiente para mejorar la resistencia al desgaste del componente y teniendo una dureza superficial promedio que no es substancialmente superior a aquella de la capa de refuerzo. 2 . - El método de conformidad con la reivindicación 23, en el que la capa de refuerzo comprende nitruro de cromo» 25. - El método de conformidad con la reivindicación 23, en donde el espesor de la capa de refuerzo es menos de alrededor de 10 micrones* 26.- Un método para formar una válvula de disco para control de flujo de fluido, la válvula de disco teniendo dos placas con superficies coincidentes que se deslizan una contra la otra, las superficies coincidentes teniendo cada una, una dureza superficial promedio y las durezas superficiales siendo ambas suficientemente bajas para prevenir substancialmente la transmisión de un fluido entre las superficies coincidentes, el método comprendiendo los pasos de: proporcionar una capa de base; 41 depositar sobre la capa de base una capa de refuerzo que comprende un material más duro que el material de base; y depositar con vapor una capa de diamante amorfo sobre la capa de refuerzo, la capa de diamante amorfo teniendo un espesor de cuando menos un valor suficiente para mejorar la resistencia al desgaste de la placa y teniendo una dureza superficial promedio que no es substancraíme te superior a aquella de la capa de refuerzo. 27.- El método de conformidad con la reivindicación 26, en donde la capa de refuerzo se forma depositando una pluralidad de capas de super reticulado de nitruro de carbono y un nitruro de metal . 28-- El método de conformidad con la reivindicación 27, en donde el paso de depositar comprende depositar en forma alterna una capa del nitruro de carbono y una capa del nitruro de metal. 29.- El método de conformidad con la reivindicación 26, en donde el paso de depositar una capa de refuerzo se selecciona del grupo de un depósito de una capa nitrada de plasma y depositar una capa implantada con ion . 30-- Un método para formar un componente resistente al desgaste, que comprende los pasos dei proporcionar un material de base; 42 depositar una capa de refuerzo sobre el material de base; y depositar con vapor una capa de diamante amorfo sobre la capa de refuerzo. 31.- El método de conformidad con la reivindicación 30,« en donde el paso de depositar una capa de refuerzo comprende depositar una pluralidad de capas de súper reticulado. 32»- El método de conformidad con la reivindicación 31, en donde el paso de depositar una capa de refuerzo comprende depositar alternadamente un primer compuesto químico y luego y segundo compuesto químico» 33.- El método de conformidad con la reivindicación 32, en donde el primer compuesto químico comprende un nitruro de carbono y el segundo componente químico comprende un nitruro de metal . 34. - El método de conformidad- con la reivindicación 3Q que incluye además el paso de codepositar una fase grafitica con la capa de diamante amorfo. 35»- El método de conformidad con la reivindicación 30, en donde la capa de diamante amorfo tiene un espesor menor de aproximadamente 10 micrones. 36»- El método de conformidad con la reivindicación 30, en donde la capa de refuerzo comprende 43 cuando menos una capa de nitruro de cromo. 37.- El método de conformidad con la reivindicación 36, en donde el material de base comprende un metal . 38.- El método de conformidad con la reivindicación 37 , en donde el metal se selecciona a partir del grupo que consiste en acero inoxidable, aluminio, latón, titanio y zirconio. 39. - El método de conformidad con la reivindicación 30, en donde la capa de refuerzo comprende un material seleccionado del grupo que consiste en una capa de óxido, una capa de carburo, una capa de carbo-nitruro y una capa de nitruro. 40. - El método de conformidad con la reivindicación 30, en donde el espesor de la capa de refuerzo es aproximadamente 500 nm a 6 micrones. 41. - El método de conformidad con la reivindicación 30, en donde la capa de diamante amorfo tiene una dureza superficial promedio no substancialmente mayor que la capa de refuerzo. 42.- El método de conformidad con la reivindicación 30, que incluye además el paso de formar dos de los componentes resistentes al desgaste para construir un componente de válvula mediante el que cada uno de los dos componentes forma una superficie de sello al otro. 44 43. - El método de conformidad con la reivindicación 30, en donde el paso de depositar una capa de refuerzo comprende cuando menos uno de formar una capa nitrada de plasma y formar una capa implantada por ion. 44.- el método de conformidad con la reivindicación 30,- en donde el material de base se selecciona a partir del grupo que consiste en un vidrio, un cemento, un material que contiene vidrio, un material polimérico y un material compuesto, 45. - El método de conformidad con la reivindicación 30, en donde el paso de depositar una capa de refuerzo comprende oxidar una capa superficial del material de base. 46. - El método de conformidad con la reivindicación 30, en donde la capa de diamante amorfo incluye una pluralidad de capas ultra delgadas de diferentes fases de diamante, cuando menos una de las cuales es diamante amorfo.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/322,871 US6904935B2 (en) | 2002-12-18 | 2002-12-18 | Valve component with multiple surface layers |
PCT/US2003/040681 WO2005015065A2 (en) | 2002-12-18 | 2003-12-18 | Valve component with multiple surface layers |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
MXPA05006402A true MXPA05006402A (es) | 2005-11-17 |
Family
ID=32593052
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
MXPA05006402A MXPA05006402A (es) | 2002-12-18 | 2003-12-18 | Componente de valvula con multiples capas superficiales. |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (4) | US6904935B2 (es) |
EP (2) | EP2275725B1 (es) |
CN (3) | CN101144553B (es) |
AT (1) | ATE542076T1 (es) |
AU (1) | AU2003304402A1 (es) |
CA (1) | CA2510168C (es) |
ES (2) | ES2897428T3 (es) |
MX (1) | MXPA05006402A (es) |
RU (1) | RU2295084C2 (es) |
WO (1) | WO2005015065A2 (es) |
Families Citing this family (96)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004016973A1 (ja) * | 2002-08-19 | 2004-02-26 | Toto Ltd. | ディスク式バルブ |
US8220489B2 (en) | 2002-12-18 | 2012-07-17 | Vapor Technologies Inc. | Faucet with wear-resistant valve component |
US7866342B2 (en) | 2002-12-18 | 2011-01-11 | Vapor Technologies, Inc. | Valve component for faucet |
US8555921B2 (en) | 2002-12-18 | 2013-10-15 | Vapor Technologies Inc. | Faucet component with coating |
US7866343B2 (en) * | 2002-12-18 | 2011-01-11 | Masco Corporation Of Indiana | Faucet |
DE10259174B4 (de) * | 2002-12-18 | 2006-10-12 | Robert Bosch Gmbh | Verwendung eines tribologisch beanspruchten Bauelements |
JP4085012B2 (ja) * | 2003-02-13 | 2008-04-30 | 忠弘 大見 | 真空排気系用バルブ |
DE20302520U1 (de) * | 2003-02-17 | 2004-06-24 | Arvin Technologies Inc., Columbus | Ventil für eine Abgasleitung |
JP4119275B2 (ja) * | 2003-02-18 | 2008-07-16 | 忠弘 大見 | 真空排気系用のダイヤフラム弁 |
CN101580928B (zh) * | 2003-02-26 | 2012-07-18 | 住友电气工业株式会社 | 无定形碳膜及其制备方法以及无定形碳膜涂敷的材料 |
JP4823488B2 (ja) * | 2003-04-30 | 2011-11-24 | 昭和電工株式会社 | 高純度アンモニアガスの供給機器および供給方法 |
US7060322B2 (en) * | 2003-09-02 | 2006-06-13 | Guardian Industries Corp. | Method of making heat treatable coated article with diamond-like carbon (DLC) coating |
US7195817B2 (en) * | 2003-09-29 | 2007-03-27 | General Motors Corporation | Diamond coated article and method of its production |
GB2439157B (en) * | 2004-03-05 | 2008-09-17 | Waters Investments Ltd | Valve With Low Friction Coating |
US20050255329A1 (en) * | 2004-05-12 | 2005-11-17 | General Electric Company | Superalloy article having corrosion resistant coating thereon |
US7108012B2 (en) * | 2004-07-22 | 2006-09-19 | Masco Corporation Of Indiana | Fluid control valve |
GB2431709B (en) * | 2004-08-27 | 2009-06-17 | Vetco Gray Inc | Low friction coatings for load bearing surfaces |
US8146889B2 (en) * | 2004-08-27 | 2012-04-03 | Vetco Gray Inc. | Low friction coatings for dynamically engaging load bearing surfaces |
DE102004043550B4 (de) * | 2004-09-09 | 2012-02-16 | Schaeffler Technologies Gmbh & Co. Kg | Verschleißfeste Beschichtung, ihre Verwendung und Verfahren zur Herstellung derselben |
JP2006138404A (ja) * | 2004-11-12 | 2006-06-01 | Kobe Steel Ltd | 水系環境下での耐摩耗性に優れた摺動部材 |
US20090060408A1 (en) * | 2005-03-02 | 2009-03-05 | Ebara Corporation | Diamond-coated bearing or seal structure and fluid machine comprising the same |
DE102006004750A1 (de) * | 2005-04-11 | 2006-10-12 | Schaeffler Kg | Schaltbares Ventiltriebbauteil |
EP1891359B1 (en) * | 2005-06-06 | 2009-01-21 | I.D.E. Technologies Ltd. | Piston for a linear spool valve |
US20070026205A1 (en) | 2005-08-01 | 2007-02-01 | Vapor Technologies Inc. | Article having patterned decorative coating |
JP5503145B2 (ja) * | 2005-08-18 | 2014-05-28 | スルザー メタプラス ゲーエムベーハー | 四面体炭素層および軟質外層を備える層状構造によって被覆された基板 |
JP2007205216A (ja) * | 2006-02-01 | 2007-08-16 | Nikki Co Ltd | 気体燃料用インジェクタにおけるインジェクタ弁 |
US20070224242A1 (en) * | 2006-03-21 | 2007-09-27 | Jet Engineering, Inc. | Tetrahedral Amorphous Carbon Coated Medical Devices |
WO2007121230A2 (en) * | 2006-04-12 | 2007-10-25 | Waters Investments Limited | Active valve and methods of operation thereof |
WO2007150000A2 (en) * | 2006-06-21 | 2007-12-27 | Caldera Engineering, Lc | Wear-resistant plug head |
US7654085B2 (en) * | 2006-08-28 | 2010-02-02 | Elijah Dumas | System of an induced flow machine |
GB2445218B (en) * | 2006-09-21 | 2011-05-25 | Smith International | Atomic layer deposition nanocoating on cutting tool powder materials |
US20080078453A1 (en) * | 2006-09-29 | 2008-04-03 | Nanogate Ag | Metallic Valve |
JP2008163430A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Jtekt Corp | 高耐食性部材およびその製造方法 |
CA2675429C (en) * | 2007-01-31 | 2016-01-12 | Moen Incorporated | Valve cartridge insensitive to installation load |
US8449943B2 (en) | 2007-02-20 | 2013-05-28 | Tech M3, Inc. | Composite brake disks and methods for coating |
US20080236535A1 (en) * | 2007-04-02 | 2008-10-02 | Van Driessche Marc Gilbert Ivan | Rotary valve for an internal combustion engine |
US20090004530A1 (en) * | 2007-06-28 | 2009-01-01 | Christian Koenig | Control valve with enhanced inner surface |
DE102007040495A1 (de) * | 2007-08-21 | 2009-02-26 | Hansgrohe Ag | Sanitärarmatur |
US20110048871A1 (en) * | 2007-08-22 | 2011-03-03 | Meckel Nathan K | Brake rotors, disk assemblies, and other components |
JP5020334B2 (ja) * | 2007-11-29 | 2012-09-05 | 京セラ株式会社 | 摺動部材、メカニカルシールリング、メカニカルシールおよびフォーセットバルブ |
US9574155B2 (en) * | 2008-07-02 | 2017-02-21 | Nanotech Lubricants, LLC | Lubricant with nanodiamonds and method of making the same |
US9347542B2 (en) * | 2008-09-30 | 2016-05-24 | American Axle & Manufacturing, Inc. | Parallel-axis helical differential assembly |
US9315881B2 (en) | 2008-10-03 | 2016-04-19 | Us Synthetic Corporation | Polycrystalline diamond, polycrystalline diamond compacts, methods of making same, and applications |
US7866418B2 (en) * | 2008-10-03 | 2011-01-11 | Us Synthetic Corporation | Rotary drill bit including polycrystalline diamond cutting elements |
US8297382B2 (en) | 2008-10-03 | 2012-10-30 | Us Synthetic Corporation | Polycrystalline diamond compacts, method of fabricating same, and various applications |
EP2375111B1 (en) * | 2008-12-25 | 2015-10-21 | Kyocera Corporation | Sliding component and mechanical seal, faucet valve, and rolling support device equipped with same |
CH700412B1 (de) * | 2009-02-05 | 2018-02-28 | Sistag Ag | Plattenschieber, insbesondere zum Absperren einer Medien führenden Leitung. |
JP2010271029A (ja) * | 2009-04-23 | 2010-12-02 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 蓄冷式冷凍機、蓄冷式冷凍機用ロータリバルブの製造方法、および蓄冷式冷凍機の製造方法 |
US8142861B2 (en) | 2009-05-11 | 2012-03-27 | King Fahd University Of Petroleum & Minerals | Method of carbo-nitriding alumina surfaces |
US8147926B2 (en) * | 2009-05-18 | 2012-04-03 | King Fahd University Of Petroleum & Minerals | Laser gas assisted nitriding of alumina surfaces |
CH701449A2 (de) * | 2009-07-02 | 2011-01-14 | Sistag Absperrtechnik | Plattenschieber, insbesondere zum Absperren einer Medien führenden Leitung. |
JP5666583B2 (ja) | 2009-07-29 | 2015-02-12 | ウオーターズ・テクノロジーズ・コーポレイシヨン | 被覆されたステータ表面を有する回転シアーインジェクタ弁 |
CA2769585C (en) * | 2009-07-30 | 2017-12-19 | Twister B.V. | Tapered throttling valve |
JP2011084721A (ja) * | 2009-09-15 | 2011-04-28 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 摺動機構 |
US8967301B2 (en) | 2010-02-03 | 2015-03-03 | Baker Hughes Incorporated | Composite metallic elastomeric sealing components for roller cone drill bits |
US8833382B2 (en) * | 2010-11-11 | 2014-09-16 | Hamilton Sundstrand Corporation | Article having good wear resistance |
CN102534528A (zh) * | 2010-12-31 | 2012-07-04 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 镀膜件及其制备方法 |
DE102011003254A1 (de) * | 2011-01-27 | 2012-08-02 | Federal-Mogul Burscheid Gmbh | Gleitelement, insbesondere Kolbenring, mit einer Beschichtung sowie Verfahren zur Herstellung eines Gleitelements |
CN102691080B (zh) * | 2011-03-24 | 2016-08-03 | 广东广云新材料科技股份有限公司 | 铝制品 |
US9206910B2 (en) * | 2011-04-12 | 2015-12-08 | Vetco Gray Inc. | Gate valve having low-friction coating over substrate and method for making same |
US8727046B2 (en) | 2011-04-15 | 2014-05-20 | Us Synthetic Corporation | Polycrystalline diamond compacts including at least one transition layer and methods for stress management in polycrsystalline diamond compacts |
US10428967B2 (en) | 2011-04-25 | 2019-10-01 | Waters Technologies Corporation | Valves having protective coatings |
EP2628817B1 (en) * | 2012-02-15 | 2016-11-02 | IHI Hauzer Techno Coating B.V. | A coated article of martensitic steel and a method of forming a coated article of steel |
PL2628822T3 (pl) * | 2012-02-15 | 2016-04-29 | Picosun Oy | Elementy łożysk i łożyska izolowane elektrycznie |
GB2514305B (en) * | 2012-02-28 | 2017-10-11 | Aker Solutions As | DLC-coated gate valve in petroleum production or water injection |
US20150044079A1 (en) * | 2012-03-30 | 2015-02-12 | Kayaba Industry Co., Ltd. | Sliding members and piston pump/motor |
CN102661402B (zh) * | 2012-04-23 | 2015-06-10 | 宁波灏钻科技有限公司 | 水过滤器用陶瓷阀芯 |
DE102012013576A1 (de) * | 2012-07-11 | 2014-01-16 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | DLC Beschichtungen mit erhöhter Korrosionsbeständigkeit |
WO2014036388A1 (en) * | 2012-08-31 | 2014-03-06 | Robert Bosch Gmbh | Directional control valve |
CN103921498B (zh) * | 2013-01-15 | 2017-08-29 | 深圳富泰宏精密工业有限公司 | 具有硬质膜层的不锈钢制品及其制备方法 |
DE102013200846A1 (de) * | 2013-01-21 | 2014-07-24 | Federal-Mogul Burscheid Gmbh | Gleitelement, insbesondere Kolbenring, mit einer Beschichtung |
WO2014145231A2 (en) | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Tech M3, Inc. | Braking systems incorporating wear and corrosion resistant rotors |
WO2014145227A1 (en) | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Tech M3, Inc. | Wear resistant braking systems |
CA2991032A1 (en) * | 2014-06-30 | 2016-01-07 | Ranjit K. Singh | Gap-sub and measurement while drilling assemblies using kerros ringed gasket spacers |
US10364892B2 (en) * | 2014-06-30 | 2019-07-30 | AOI (Advanced Oilfield Innovations, Inc.) | Kerros or layered non-conductive ringed sealing pancake gasket assembly |
CN105989517B (zh) * | 2015-02-12 | 2018-03-02 | 广东欧珀移动通信有限公司 | 一种信息提示方法及终端 |
CN104988459A (zh) * | 2015-07-27 | 2015-10-21 | 武汉苏泊尔炊具有限公司 | 带有镀膜的刀具及其制作方法 |
CN105805395A (zh) * | 2016-05-31 | 2016-07-27 | 宁波福特恩净水设备有限公司 | 一种能快速通断的压力控制阀 |
WO2017218197A1 (en) | 2016-06-15 | 2017-12-21 | Eastman Chemical Company | Physical vapor deposited biosensor components |
DE102016111755B4 (de) * | 2016-06-27 | 2018-05-24 | Federal-Mogul Valvetrain Gmbh | Verfahren zur Beschichtung eines Ventilkopfes eines Ein- oder Auslass-Ventils sowie ein solches Ein- oder Auslassventil |
WO2018052711A1 (en) | 2016-09-16 | 2018-03-22 | Eastman Chemical Company | Biosensor electrodes prepared by physical vapor deposition |
WO2018052713A1 (en) | 2016-09-16 | 2018-03-22 | Eastman Chemical Company | Biosensor electrodes prepared by physical vapor deposition |
US10697552B2 (en) * | 2017-01-26 | 2020-06-30 | Toto Ltd. | Faucet valve |
US11881549B2 (en) | 2017-06-22 | 2024-01-23 | Eastman Chemical Company | Physical vapor deposited electrode for electrochemical sensors |
US11499643B2 (en) | 2017-08-04 | 2022-11-15 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon | Coated valve components with corrosion resistant sliding surfaces |
CN111108271B (zh) * | 2017-08-29 | 2022-02-01 | 皮尔伯格泵技术有限责任公司 | 用于内燃机的冷却剂泵 |
US10995871B2 (en) | 2018-11-07 | 2021-05-04 | Cameron International Corporation | Hard and lubricious valve surfaces, material compositions and sequences of manufacturing |
JP2022514822A (ja) | 2018-12-19 | 2022-02-16 | エリコン メテコ(ユーエス)インコーポレイテッド | 仕切弁、ボール弁、弁棒、及び弁座用の高温低摩擦でコバルトを含まないコーティング・システム |
EP3670696A1 (en) | 2018-12-21 | 2020-06-24 | Nanofilm Technologies International Pte Ltd | Corrosion resistant carbon coatings |
RU190691U1 (ru) * | 2019-01-10 | 2019-07-09 | Акционерное общество "Инжиниринговая компания "АЭМ-технологии" (АО "АЭМ-технологии") | Клапан регулирующий осесимметричный |
RU190562U1 (ru) * | 2019-01-10 | 2019-07-03 | Акционерное общество "Инжиниринговая компания "АЭМ-технологии" (АО "АЭМ-технологии") | Клапан осесимметричный осевого потока |
RU190564U1 (ru) * | 2019-01-10 | 2019-07-03 | Акционерное общество "Инжиниринговая компания "АЭМ-технологии" (АО "АЭМ-технологии") | Клапан регулирующий осевого потока |
BR102019004737A2 (pt) | 2019-03-11 | 2020-10-06 | Fmc Technologies Do Brasil Ltda | Material compósito com camada difundida revestida |
US11499644B2 (en) | 2020-08-25 | 2022-11-15 | Emerson Automation Solutions Final Control US LP | Sealing assembly for a knife gate valve |
US11300213B1 (en) | 2021-02-19 | 2022-04-12 | Emerson Automation Solutions Final Control US LP | Floating yoke connection |
WO2024084960A1 (ja) * | 2022-10-17 | 2024-04-25 | 愛三工業株式会社 | 流路切替装置 |
Family Cites Families (182)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2020286A (en) | 1932-10-05 | 1935-11-12 | Keith D Bittle | Fluid valve |
US2411867A (en) | 1942-12-19 | 1946-12-03 | Brenner Bert | Industrial diamond tool and method of producing same |
US2639116A (en) | 1949-04-26 | 1953-05-19 | William P Green | Valve structure |
DE903017C (de) | 1951-01-31 | 1954-02-01 | Sueddeutsche Lab G M B H | Herstellung kleiner Kugeln aus hochschmelzbaren Materialien |
US2861166A (en) | 1955-03-14 | 1958-11-18 | Jr William W Cargill | Method and apparatus for hot machining |
US2968723A (en) | 1957-04-11 | 1961-01-17 | Zeiss Carl | Means for controlling crystal structure of materials |
US4385880A (en) * | 1957-06-27 | 1983-05-31 | Lemelson Jerome H | Shock wave processing apparatus |
US4702808A (en) | 1957-06-27 | 1987-10-27 | Lemelson Jerome H | Chemical reaction apparatus and method |
US2947610A (en) | 1958-01-06 | 1960-08-02 | Gen Electric | Method of making diamonds |
US5552675A (en) * | 1959-04-08 | 1996-09-03 | Lemelson; Jerome H. | High temperature reaction apparatus |
US3207582A (en) | 1960-03-12 | 1965-09-21 | Inoue Kiyoshi | Method of synthesizing diamond particles by utilizing electric discharge |
US3141746A (en) | 1960-10-03 | 1964-07-21 | Gen Electric | Diamond compact abrasive |
DE1212229B (de) | 1963-11-28 | 1966-03-10 | Schmidt Paul | Verfahren zum Behandeln von in den inneren Bereich eines Stosswellenraums eingefuehrtem Stoff, insbesondere zum UEberfuehren des Stoffes in den Plasmazustand |
US3384119A (en) * | 1966-03-16 | 1968-05-21 | Masco Corp | Mixing valve |
USRE32106E (en) * | 1967-05-04 | 1986-04-08 | Toy track and vehicle therefor | |
US3607061A (en) | 1968-06-26 | 1971-09-21 | Univ Case Western Reserve | Manufacture of synthetic diamonds |
US3630678A (en) | 1968-06-26 | 1971-12-28 | Univ Case Western Reserve | Diamond growth process |
US3630679A (en) | 1968-06-26 | 1971-12-28 | Univ Case Western Reserve | Diamond growth process |
US3615208A (en) | 1969-02-06 | 1971-10-26 | John W Byron | Diamond growth process |
US3702573A (en) | 1969-03-19 | 1972-11-14 | Kennametal Inc | Cermet product and method and apparatus for the manufacture thereof |
US3929432A (en) | 1970-05-29 | 1975-12-30 | De Beers Ind Diamond | Diamond particle having a composite coating of titanium and a metal layer |
US3667503A (en) | 1970-06-05 | 1972-06-06 | Elkay Mfg Co | Single-handle mixing and proportioning valve |
US3794026A (en) * | 1970-07-29 | 1974-02-26 | H Jacobs | Ventilating apparatus embodying selective volume or pressure operation and catheter means for use therewith |
US3766914A (en) | 1970-07-29 | 1973-10-23 | H Jacobs | High pressure resuscitating and ventilating system incorporating humidifying means for the breathing mixture |
US4367130A (en) * | 1970-11-30 | 1983-01-04 | Lemelson Jerome H | Chemical reaction |
US3913280A (en) | 1971-01-29 | 1975-10-21 | Megadiamond Corp | Polycrystalline diamond composites |
US3714332A (en) * | 1971-04-21 | 1973-01-30 | Nasa | Process for making diamonds |
US3879175A (en) * | 1971-06-24 | 1975-04-22 | De Beers Ind Diamond | Bearing bodies and methods of forming bearing surfaces |
BE787422A (fr) | 1971-08-25 | 1973-02-12 | Masco Corp | Robinet melangeur |
SU411037A1 (ru) | 1971-10-28 | 1974-08-05 | В. М. Гол ЯНОВ , А. П. Демидов | Способ получения искусственных алмазов |
US3813296A (en) * | 1971-11-23 | 1974-05-28 | Mc Graw Edison Co | Insulating coating for electrical devices |
US3953178A (en) * | 1972-08-09 | 1976-04-27 | Engel Niels N | Coated metal product |
US3941903A (en) * | 1972-11-17 | 1976-03-02 | Union Carbide Corporation | Wear-resistant bearing material and a process for making it |
FR2208499A5 (es) | 1972-11-29 | 1974-06-21 | Morisseau Bernard | |
US3854493A (en) | 1972-12-11 | 1974-12-17 | Elkay Mfg Co | Valve cartridge |
US4054426A (en) | 1972-12-20 | 1977-10-18 | White Gerald W | Thin film treated drilling bit cones |
US3912500A (en) | 1972-12-27 | 1975-10-14 | Leonid Fedorovich Vereschagin | Process for producing diamond-metallic materials |
US4029368A (en) | 1973-08-15 | 1977-06-14 | Smith International, Inc. | Radial bearings |
US3916506A (en) | 1973-10-18 | 1975-11-04 | Mallory Composites | Method of conforming a flexible self-supporting means to the surface contour of a substrate |
US3959557A (en) * | 1974-11-04 | 1976-05-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Wear-resistant, nonabrading tic article and process for making |
CH589240A5 (es) | 1975-02-10 | 1977-06-30 | Straumann Inst Ag | |
US4104441A (en) | 1975-07-29 | 1978-08-01 | Institut Sverkhtverdykh Materialov Ssr | Polycrystalline diamond member and method of preparing same |
US4084942A (en) * | 1975-08-27 | 1978-04-18 | Villalobos Humberto Fernandez | Ultrasharp diamond edges and points and method of making |
US4006540A (en) * | 1975-09-19 | 1977-02-08 | Lemelson Jerome H | Filament winding craft |
CH611341A5 (es) | 1976-09-09 | 1979-05-31 | Balzers Hochvakuum | |
DE2658022C3 (de) * | 1976-12-22 | 1979-07-05 | Friedrich Grohe Armaturenfabrik Gmbh & Co, 5870 Hemer | Mischbatterie für das Sanitärfach |
SE7701680L (sv) * | 1977-02-16 | 1978-08-17 | Skf Ab | Axiallager for en rulle i en rullborrkrona sw 77 004 sw |
FR2433130A1 (fr) | 1978-08-11 | 1980-03-07 | Petroles Cie Francaise | Dispositif antifriction, notamment pour turbine, et procede de realisation |
US4162954A (en) | 1978-08-21 | 1979-07-31 | Vac-Tec Systems, Inc. | Planar magnetron sputtering device |
US4241135A (en) | 1979-02-09 | 1980-12-23 | General Electric Company | Polycrystalline diamond body/silicon carbide substrate composite |
EP0019952B1 (en) * | 1979-05-04 | 1984-07-18 | Masco Corporation Of Indiana | Single-control mixing cock with plates made of hard material |
IT1207922B (it) * | 1979-07-16 | 1989-06-01 | Gevipi Ag | Coppia di piastrine in materiale duro per rubinetto miscelatore a monocomando |
US4228142A (en) | 1979-08-31 | 1980-10-14 | Holcombe Cressie E Jun | Process for producing diamond-like carbon |
US4260203A (en) * | 1979-09-10 | 1981-04-07 | Smith International, Inc. | Bearing structure for a rotary rock bit |
GB2069008B (en) | 1980-01-16 | 1984-09-12 | Secr Defence | Coating in a glow discharge |
JPS57106513A (en) | 1980-12-22 | 1982-07-02 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Formation of carbon film |
US4620601A (en) | 1981-09-28 | 1986-11-04 | Maurer Engineering Inc. | Well drilling tool with diamond thrust bearings |
US4468138A (en) | 1981-09-28 | 1984-08-28 | Maurer Engineering Inc. | Manufacture of diamond bearings |
US4532149A (en) | 1981-10-21 | 1985-07-30 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Method for producing hard-surfaced tools and machine components |
US4504519A (en) * | 1981-10-21 | 1985-03-12 | Rca Corporation | Diamond-like film and process for producing same |
US4378029A (en) * | 1981-11-02 | 1983-03-29 | American Standard Inc. | Single control faucet |
US4410054A (en) | 1981-12-03 | 1983-10-18 | Maurer Engineering Inc. | Well drilling tool with diamond radial/thrust bearings |
US4434188A (en) * | 1981-12-17 | 1984-02-28 | National Institute For Researches In Inorganic Materials | Method for synthesizing diamond |
US4524106A (en) | 1983-06-23 | 1985-06-18 | Energy Conversion Devices, Inc. | Decorative carbon coating and method |
US4594294A (en) | 1983-09-23 | 1986-06-10 | Energy Conversion Devices, Inc. | Multilayer coating including disordered, wear resistant boron carbon external coating |
DE3346190C1 (de) | 1983-12-21 | 1984-08-02 | Carl Hurth Maschinen- und Zahnradfabrik GmbH & Co, 8000 München | Zahnrad- oder zahnstangenfoermiges Werkzeug zum Feinbearbeiten der Zahnflanken von insbesondere gehaerteten Zahnraedern |
US4554208A (en) | 1983-12-27 | 1985-11-19 | General Motors Corporation | Metal bearing surface having an adherent score-resistant coating |
US4618505A (en) | 1983-12-27 | 1986-10-21 | General Motors Corporation | Method of making adherent score-resistant coating for metals |
US4540636A (en) | 1983-12-27 | 1985-09-10 | General Motors Corporation | Metal bearing element with a score-resistant coating |
US4717660A (en) * | 1984-01-26 | 1988-01-05 | Becton, Dickinson And Company | Detection of bacteria by fluorescent staining in an expanded buffy coat |
CA1232228A (en) | 1984-03-13 | 1988-02-02 | Tatsuro Miyasato | Coating film and method and apparatus for producing the same |
JPS60195094A (ja) | 1984-03-15 | 1985-10-03 | Agency Of Ind Science & Technol | ダイヤモンド薄膜の製造方法 |
US4698256A (en) | 1984-04-02 | 1987-10-06 | American Cyanamid Company | Articles coated with adherent diamondlike carbon films |
US4525178A (en) * | 1984-04-16 | 1985-06-25 | Megadiamond Industries, Inc. | Composite polycrystalline diamond |
SE442305B (sv) | 1984-06-27 | 1985-12-16 | Santrade Ltd | Forfarande for kemisk gasutfellning (cvd) for framstellning av en diamantbelagd sammansatt kropp samt anvendning av kroppen |
SE453474B (sv) * | 1984-06-27 | 1988-02-08 | Santrade Ltd | Kompoundkropp belagd med skikt av polykristallin diamant |
US4490229A (en) | 1984-07-09 | 1984-12-25 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Deposition of diamondlike carbon films |
US4663183A (en) * | 1984-09-10 | 1987-05-05 | Energy Conversion Devices, Inc. | Glow discharge method of applying a carbon coating onto a substrate |
US4591418A (en) | 1984-10-26 | 1986-05-27 | The Parker Pen Company | Microlaminated coating |
JPS61106494A (ja) | 1984-10-29 | 1986-05-24 | Kyocera Corp | ダイヤモンド被膜部材及びその製法 |
JPS61111966A (ja) * | 1984-11-07 | 1986-05-30 | 工業技術院長 | 黒鉛−金属ホウ化物系摺動部材 |
US4621031A (en) | 1984-11-16 | 1986-11-04 | Dresser Industries, Inc. | Composite material bonded by an amorphous metal, and preparation thereof |
US4755237A (en) | 1984-11-26 | 1988-07-05 | Lemelson Jerome H | Methods for making cutting tools |
US4732364A (en) * | 1984-12-17 | 1988-03-22 | Ameron Iron Works USA, Inc. | Wear resistant diamond cladding |
GB2170279B (en) * | 1985-01-30 | 1988-10-19 | Ampep Plc | Self-lubricating bearings |
US4935313A (en) | 1985-02-12 | 1990-06-19 | Masco Corporation Of Indiana | Process of manufacturing seal members having a low friction coefficient |
IT1182433B (it) | 1985-02-12 | 1987-10-05 | Gevipi Ag | Organi di tenuta in materiale duro aventi basso coefficiente di attrito |
US4725345A (en) * | 1985-04-22 | 1988-02-16 | Kabushiki Kaisha Kenwood | Method for forming a hard carbon thin film on article and applications thereof |
US4708888A (en) | 1985-05-07 | 1987-11-24 | Eltech Systems Corporation | Coating metal mesh |
EP0221531A3 (en) | 1985-11-06 | 1992-02-19 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | High heat conductive insulated substrate and method of manufacturing the same |
WO1987003307A1 (en) * | 1985-11-25 | 1987-06-04 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Process for synthesizing diamond |
US4714660A (en) | 1985-12-23 | 1987-12-22 | Fansteel Inc. | Hard coatings with multiphase microstructures |
US4661213A (en) * | 1986-02-13 | 1987-04-28 | Dorsett Terry E | Electroplate to moving metal |
US4761217A (en) | 1986-02-13 | 1988-08-02 | Dorsett Terry E | Electroplate to moving metal |
US4708496A (en) | 1986-05-20 | 1987-11-24 | Smith International, Inc. | Diamond bearing and manufacture thereof |
US4900628A (en) * | 1986-07-23 | 1990-02-13 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Gaseous phase synthesized diamond and method for synthesizing same |
IN167706B (es) * | 1986-08-21 | 1990-12-08 | Sree Chitra Tirunal Inst For M | |
US4732491A (en) * | 1986-08-27 | 1988-03-22 | Smith International, Inc. | Downhole motor bearing assembly |
US4720199A (en) * | 1986-09-03 | 1988-01-19 | Smith International, Inc. | Bearing structure for downhole motors |
AU601491B2 (en) * | 1986-09-27 | 1990-09-13 | Nissan Chemical Industries Ltd. | Process for manufacturing fine zirconium oxide powder |
US4824262A (en) * | 1986-09-27 | 1989-04-25 | Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho | Unlubricated sliding member |
JPS6388314A (ja) * | 1986-09-30 | 1988-04-19 | Toshiba Corp | 動圧空気軸受 |
JPS63107898A (ja) | 1986-10-23 | 1988-05-12 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | プラズマを用いるダイヤモンドの合成法 |
NL8703024A (nl) * | 1986-12-18 | 1988-07-18 | De Beers Ind Diamond | Werkwijze voor het bepalen van een stralingsdosis alsmede inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze. |
FR2612106B1 (fr) * | 1987-03-09 | 1989-05-19 | Alsthom | Procede de pose d'un revetement protecteur sur une aube en alliage de titane et aube ainsi revetue |
DE3709836C1 (de) * | 1987-03-25 | 1988-09-29 | Eastman Christensen Co | Gleitlager fuer Tiefbohrwerkzeuge |
US5067826A (en) * | 1987-03-31 | 1991-11-26 | Lemelson Jerome H | Ball and roller bearings and bearing components |
US5096352A (en) * | 1987-03-31 | 1992-03-17 | Lemelson Jerome H | Diamond coated fasteners |
US5288556A (en) * | 1987-03-31 | 1994-02-22 | Lemelson Jerome H | Gears and gear assemblies |
EP0286306B1 (en) * | 1987-04-03 | 1993-10-06 | Fujitsu Limited | Method and apparatus for vapor deposition of diamond |
US4764036A (en) | 1987-05-14 | 1988-08-16 | Smith International, Inc. | PCD enhanced radial bearing |
US4764434A (en) | 1987-06-26 | 1988-08-16 | Sandvik Aktiebolag | Diamond tools for rock drilling and machining |
US4756631A (en) | 1987-07-24 | 1988-07-12 | Smith International, Inc. | Diamond bearing for high-speed drag bits |
US4816291A (en) * | 1987-08-19 | 1989-03-28 | The Regents Of The University Of California | Process for making diamond, doped diamond, diamond-cubic boron nitride composite films |
DE3728946A1 (de) | 1987-08-29 | 1989-03-09 | Bran & Luebbe | Homogenisiervorrichtung |
US4778730A (en) | 1987-09-09 | 1988-10-18 | Remgrit Corporation | Method of applying non-slip coating to tools and resulting product |
US4776862A (en) | 1987-12-08 | 1988-10-11 | Wiand Ronald C | Brazing of diamond |
US5300942A (en) * | 1987-12-31 | 1994-04-05 | Projectavision Incorporated | High efficiency light valve projection system with decreased perception of spaces between pixels and/or hines |
US5900982A (en) * | 1987-12-31 | 1999-05-04 | Projectavision, Inc. | High efficiency light valve projection system |
US5602679A (en) * | 1987-12-31 | 1997-02-11 | Projectavision, Inc. | High efficiency light valve projection system |
US5190824A (en) * | 1988-03-07 | 1993-03-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Electrostatic-erasing abrasion-proof coating |
US5866195A (en) * | 1988-03-31 | 1999-02-02 | Lemelson; Jerome H. | Methods for forming diamond-coated superconductor wire |
US5411797A (en) * | 1988-04-18 | 1995-05-02 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Nanophase diamond films |
US5098737A (en) * | 1988-04-18 | 1992-03-24 | Board Of Regents The University Of Texas System | Amorphic diamond material produced by laser plasma deposition |
US5006203A (en) * | 1988-08-12 | 1991-04-09 | Texas Instruments Incorporated | Diamond growth method |
US4904542A (en) * | 1988-10-11 | 1990-02-27 | Midwest Research Technologies, Inc. | Multi-layer wear resistant coatings |
US5185179A (en) * | 1988-10-11 | 1993-02-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Plasma processing method and products thereof |
US4992298A (en) * | 1988-10-11 | 1991-02-12 | Beamalloy Corporation | Dual ion beam ballistic alloying process |
US5392982A (en) * | 1988-11-29 | 1995-02-28 | Li; Chou H. | Ceramic bonding method |
IL93399A (en) * | 1989-02-16 | 1994-06-24 | De Beers Ind Diamond | Epithelium of a diamond or a layer of diamond figures |
US5104634A (en) * | 1989-04-20 | 1992-04-14 | Hercules Incorporated | Process for forming diamond coating using a silent discharge plasma jet process |
GB8912498D0 (en) * | 1989-05-31 | 1989-07-19 | De Beers Ind Diamond | Diamond growth |
US4961958A (en) * | 1989-06-30 | 1990-10-09 | The Regents Of The Univ. Of Calif. | Process for making diamond, and doped diamond films at low temperature |
US5190823A (en) * | 1989-07-31 | 1993-03-02 | General Electric Company | Method for improving adhesion of synthetic diamond coatings to substrates |
JPH03223190A (ja) | 1989-10-05 | 1991-10-02 | Toto Ltd | セラミック製摺動部構造 |
US5082359A (en) * | 1989-11-28 | 1992-01-21 | Epion Corporation | Diamond films and method of growing diamond films on nondiamond substrates |
CN2062773U (zh) * | 1989-12-22 | 1990-09-26 | 邱秋 | 热水器专用阀 |
US5225366A (en) * | 1990-06-22 | 1993-07-06 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Apparatus for and a method of growing thin films of elemental semiconductors |
JPH04165170A (ja) | 1990-06-29 | 1992-06-10 | Tokyo Yogyo Co Ltd | 水栓バルブ部材 |
US5260106A (en) * | 1990-08-03 | 1993-11-09 | Fujitsu Limited | Method for forming diamond films by plasma jet CVD |
DE4029270C1 (es) * | 1990-09-14 | 1992-04-09 | Balzers Ag, Balzers, Li | |
EP0484699B1 (de) * | 1990-11-05 | 1993-08-18 | Detlev Dr. Repenning | Reibpaarung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
JPH04305096A (ja) * | 1991-04-01 | 1992-10-28 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 高品質気相合成ダイヤモンドの低温形成法 |
US5728465A (en) * | 1991-05-03 | 1998-03-17 | Advanced Refractory Technologies, Inc. | Diamond-like nanocomposite corrosion resistant coatings |
US5718976A (en) * | 1991-05-03 | 1998-02-17 | Advanced Refractory Technologies, Inc. | Erosion resistant diamond-like nanocomposite coatings for optical components |
US5411758A (en) * | 1991-10-09 | 1995-05-02 | Norton Company | Method of making synthetic diamond wear component |
ATE180411T1 (de) * | 1992-02-07 | 1999-06-15 | Smith & Nephew Inc | Oberflächengehärtetes bioverträgliches medizinisches metallimplantat |
US5437243A (en) * | 1992-07-01 | 1995-08-01 | Pike-Biegunski; Maciej J. | Process for fabricating diamond by supercritical electrical current |
US5314652A (en) * | 1992-11-10 | 1994-05-24 | Norton Company | Method for making free-standing diamond film |
US5395221A (en) * | 1993-03-18 | 1995-03-07 | Praxair S.T. Technology, Inc. | Carbide or boride coated rotor for a positive displacement motor or pump |
US5474816A (en) * | 1993-04-16 | 1995-12-12 | The Regents Of The University Of California | Fabrication of amorphous diamond films |
US5626963A (en) * | 1993-07-07 | 1997-05-06 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Hard-carbon-film-coated substrate and apparatus for forming the same |
US5405645A (en) * | 1993-07-28 | 1995-04-11 | Applied Science And Technology Inc. | High growth rate plasma diamond deposition process and method of controlling same |
US5388027A (en) * | 1993-07-29 | 1995-02-07 | Motorola, Inc. | Electronic circuit assembly with improved heatsinking |
CN2171741Y (zh) * | 1993-07-30 | 1994-07-13 | 杨宗诚 | 一种可手控和自动启闭的水龙头 |
US5740941A (en) * | 1993-08-16 | 1998-04-21 | Lemelson; Jerome | Sheet material with coating |
CN1134754A (zh) * | 1993-11-04 | 1996-10-30 | 微电子及计算机技术公司 | 制作平板显示系统和元件的方法 |
US5401543A (en) * | 1993-11-09 | 1995-03-28 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for forming macroparticle-free DLC films by cathodic arc discharge |
US5391407A (en) * | 1994-03-18 | 1995-02-21 | Southwest Research Institute | Process for forming protective diamond-like carbon coatings on metallic surfaces |
US5725573A (en) * | 1994-03-29 | 1998-03-10 | Southwest Research Institute | Medical implants made of metal alloys bearing cohesive diamond like carbon coatings |
WO1995027162A1 (fr) * | 1994-03-31 | 1995-10-12 | Ntn Corporation | Systeme de vanne |
JPH07315989A (ja) * | 1994-04-01 | 1995-12-05 | Ngk Spark Plug Co Ltd | ダイヤモンド被覆部材の製造方法 |
WO1995027806A1 (en) * | 1994-04-06 | 1995-10-19 | The Regents Of The University Of California | Process to produce diamond films |
CZ293994B6 (cs) | 1994-04-25 | 2004-09-15 | The Gillette Company | Holicí břit, způsob jeho výroby, a holicí jednotka |
US5480527A (en) | 1994-04-25 | 1996-01-02 | Vapor Technologies, Inc. | Rectangular vacuum-arc plasma source |
US5814194A (en) * | 1994-10-20 | 1998-09-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd | Substrate surface treatment method |
DE4441134A1 (de) * | 1994-11-21 | 1996-05-23 | Grohe Armaturen Friedrich | Dichtungselement, insbesondere für Absperr- und Regelorgane und Verfahren zu seiner Herstellung |
US5763072A (en) * | 1994-12-23 | 1998-06-09 | Maruwa Ceramic Co., Ltd. | Ceramic sliding member having pyrolytic carbon film and process of fabricating the same |
US5593234A (en) * | 1995-05-16 | 1997-01-14 | Ntn Corporation | Bearing assembly with polycrystalline superlattice coating |
US5688557A (en) | 1995-06-07 | 1997-11-18 | Lemelson; Jerome H. | Method of depositing synthetic diamond coatings with intermediates bonding layers |
US5616372A (en) * | 1995-06-07 | 1997-04-01 | Syndia Corporation | Method of applying a wear-resistant diamond coating to a substrate |
US5714202A (en) * | 1995-06-07 | 1998-02-03 | Lemelson; Jerome H. | Synthetic diamond overlays for gas turbine engine parts having thermal barrier coatings |
US6204595B1 (en) * | 1995-07-10 | 2001-03-20 | The Regents Of The University Of California | Amorphous-diamond electron emitter |
US5871805A (en) * | 1996-04-08 | 1999-02-16 | Lemelson; Jerome | Computer controlled vapor deposition processes |
JP3217696B2 (ja) * | 1996-04-26 | 2001-10-09 | 京セラ株式会社 | ディスクバルブ |
JPH1089506A (ja) * | 1996-07-25 | 1998-04-10 | Citizen Watch Co Ltd | 混合水栓部材およびその混合水栓部材への被膜形成方法 |
US5902563A (en) * | 1997-10-30 | 1999-05-11 | Pl-Limited | RF/VHF plasma diamond growth method and apparatus and materials produced therein |
US6197438B1 (en) * | 1998-03-11 | 2001-03-06 | Roger Faulkner | Foodware with ceramic food contacting surface |
US6347905B1 (en) * | 1998-05-28 | 2002-02-19 | Elektroschmelzwerk Kempten Gmbh | Connecting element for the frictional connection of components |
AT408153B (de) * | 1998-09-02 | 2001-09-25 | Electrovac | Metall-matrix-composite- (mmc-) bauteil |
US6342755B1 (en) * | 1999-08-11 | 2002-01-29 | Sony Corporation | Field emission cathodes having an emitting layer comprised of electron emitting particles and insulating particles |
CN1138020C (zh) * | 1999-09-29 | 2004-02-11 | 永源科技股份有限公司 | 阴极电弧蒸镀方式淀积类金刚石碳膜的制备方法 |
-
2002
- 2002-12-18 US US10/322,871 patent/US6904935B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-12-18 EP EP10184285.4A patent/EP2275725B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-18 CN CN2007101537199A patent/CN101144553B/zh not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-18 RU RU2005122503A patent/RU2295084C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2003-12-18 CN CNB2003801066913A patent/CN100338380C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-18 CN CN200710153717XA patent/CN101140036B/zh not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-18 EP EP20030816756 patent/EP1581758B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-18 ES ES10184285T patent/ES2897428T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-18 ES ES03816756T patent/ES2380333T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-18 CA CA002510168A patent/CA2510168C/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-18 AT AT03816756T patent/ATE542076T1/de active
- 2003-12-18 MX MXPA05006402A patent/MXPA05006402A/es active IP Right Grant
- 2003-12-18 US US10/741,848 patent/US6935618B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-18 WO PCT/US2003/040681 patent/WO2005015065A2/en not_active Application Discontinuation
- 2003-12-18 AU AU2003304402A patent/AU2003304402A1/en not_active Abandoned
-
2005
- 2005-08-10 US US11/201,395 patent/US7216661B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2007
- 2007-04-05 US US11/732,948 patent/US7445026B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2005015065A2 (en) | 2005-02-17 |
US20070181843A1 (en) | 2007-08-09 |
RU2295084C2 (ru) | 2007-03-10 |
US20060038156A1 (en) | 2006-02-23 |
CN101144553A (zh) | 2008-03-19 |
US7216661B2 (en) | 2007-05-15 |
ES2380333T3 (es) | 2012-05-10 |
CN100338380C (zh) | 2007-09-19 |
WO2005015065B1 (en) | 2005-08-11 |
EP1581758B1 (en) | 2012-01-18 |
WO2005015065A3 (en) | 2005-04-14 |
US7445026B2 (en) | 2008-11-04 |
EP1581758A4 (en) | 2007-09-12 |
RU2005122503A (ru) | 2006-01-20 |
ES2897428T3 (es) | 2022-03-01 |
ATE542076T1 (de) | 2012-02-15 |
US20040118455A1 (en) | 2004-06-24 |
CN101140036A (zh) | 2008-03-12 |
AU2003304402A8 (en) | 2005-02-25 |
CN101144553B (zh) | 2010-12-22 |
EP2275725A2 (en) | 2011-01-19 |
US6904935B2 (en) | 2005-06-14 |
US6935618B2 (en) | 2005-08-30 |
EP1581758A2 (en) | 2005-10-05 |
CN1729368A (zh) | 2006-02-01 |
EP2275725B1 (en) | 2021-09-15 |
EP2275725A3 (en) | 2011-10-05 |
CN101140036B (zh) | 2012-01-11 |
CA2510168A1 (en) | 2005-02-17 |
AU2003304402A1 (en) | 2005-02-25 |
US20040129314A1 (en) | 2004-07-08 |
CA2510168C (en) | 2009-07-28 |
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Date | Code | Title | Description |
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