LT4713B - Elektrai laidžių dangų ant dielektriko paviršiaus gavimo būdas - Google Patents
Elektrai laidžių dangų ant dielektriko paviršiaus gavimo būdas Download PDFInfo
- Publication number
- LT4713B LT4713B LT98-161A LT98161A LT4713B LT 4713 B LT4713 B LT 4713B LT 98161 A LT98161 A LT 98161A LT 4713 B LT4713 B LT 4713B
- Authority
- LT
- Lithuania
- Prior art keywords
- solution
- dielectric
- products
- distilled water
- treated
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 24
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 22
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 34
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 claims abstract description 4
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 claims description 9
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 8
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract description 37
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 abstract 2
- 150000001868 cobalt Chemical class 0.000 abstract 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 abstract 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 abstract 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 21
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 8
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 5
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 5
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- CBHOOMGKXCMKIR-UHFFFAOYSA-N azane;methanol Chemical compound N.OC CBHOOMGKXCMKIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 2
- BWFPGXWASODCHM-UHFFFAOYSA-N copper monosulfide Chemical compound [Cu]=S BWFPGXWASODCHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004254 Ammonium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229920006051 Capron® Polymers 0.000 description 1
- 241000080590 Niso Species 0.000 description 1
- 239000004159 Potassium persulphate Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZFNGPAYDKGCRB-XCPIVNJJSA-M [(1s,2s)-2-amino-1,2-diphenylethyl]-(4-methylphenyl)sulfonylazanide;chlororuthenium(1+);1-methyl-4-propan-2-ylbenzene Chemical compound [Ru+]Cl.CC(C)C1=CC=C(C)C=C1.C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)[N-][C@@H](C=1C=CC=CC=1)[C@@H](N)C1=CC=CC=C1 AZFNGPAYDKGCRB-XCPIVNJJSA-M 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910000148 ammonium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019289 ammonium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKSIFUGZHOUETI-UHFFFAOYSA-N copper;azane Chemical compound N.N.N.N.[Cu+2] QKSIFUGZHOUETI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 235000013675 iodine Nutrition 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 1
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000010289 potassium nitrite Nutrition 0.000 description 1
- 239000004304 potassium nitrite Substances 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019394 potassium persulphate Nutrition 0.000 description 1
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K potassium phosphate Substances [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000160 potassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011009 potassium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910052979 sodium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N sodium sulfide (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[S-2] GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000005987 sulfurization reaction Methods 0.000 description 1
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- SOBHUZYZLFQYFK-UHFFFAOYSA-K trisodium;hydroxy-[[phosphonatomethyl(phosphonomethyl)amino]methyl]phosphinate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].OP(O)(=O)CN(CP(O)([O-])=O)CP([O-])([O-])=O SOBHUZYZLFQYFK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000012224 working solution Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
Išradimo objektas yra skirtas dielektrikų paviršių savybėms modifikuoti, t.y., šio išradimo dėka dielektrikų paviršius tampa laidus elektros srovei.
Išradimas gali būti panaudotas įvairiose pramonės srityse paruošti dielektrikų paviršius galvaninei metalizacijai, ypač nikeliavimui.
Yra žinomas elektrai laidžių dangų ant dielektrikų - plastmasių gavimo būdas (I. Stavnicer ir kt. Kaprono gaminių galvaninė metalizacija “Gamybos technologija ir organizacija”, Kijevas, 1978, Nr. 1, 56-57 psl.), kai dielektriko paviršių apdoroja vario druskos tirpalu, plauna karštu vandeniu, po to apdoroja natrio sulfido tirpalu.
Šiuo metodu kokybiškas elektrai laidžias dangas galima gauti kartojant aukščiau nurodytas operacijas kelis kartus. Tačiau netgi pakartojus operacijas tris kartus, reikia pajungti daug elektrai laidžių kontaktų, kai metalizuojami dideli paviršiai. Kitas šio būdo trūkumas yra tai, kad plovimui naudojamas karštas vanduo.
Dar yra žinomas elektrai laidžių dangų gavimo būdas (TSRS a.l. Nr. 1343616, kl. B 05 D 5/12,1/38, 1985), kai dielektriko paviršių apdoroja tirpale, kuriame yra 0,4 M CuSCU 0,8 M NH3 ir 0,1 M hidrochinono, po to apdoroja fosforo rūgšties druskos - 0,002 - 0,05 M mono, di arba tri natrio, kalio arba amonio fosfato vandeniniam tirpale, plauna vandeniu ir dar apdoroja 0,005 M natrio polisulfido vandeniniame tirpale.
Šio techninio sprendimo trūkumas yra per ilga proceso trukmė. Ant šiuo būdu gautos vario sulfido dangos galvaninę dangą galima nusodinti tik tuo atveju, kai minėto proceso operacijos kartojamos ne mažiau kaip tris kartus. Tai prailgina proceso trukmę, padidina neproduktyvų tirpalų išnešimą dengiamuoju paviršiumi ir darbinių tirpalų atskiedimą vandeniu; šio proceso negalima naudoti tipinėse automatinio režimo galvaninėse linijose.
Dar yra žinomas elektrai laidžių vario sulfido dangų gavimo būdas (SU a.l. No.1762425, kl. H 05 K 3/42,3/18,1991), kai gaminius iš dielektriko merkia į vienvalenčio vario druskos tirpalą, po to į - 0,0025-0,025 M kalio persuifato arba jodo, arba kalio nitrito tirpalą, plauna vandeniu, po to merkia į šarminio metalo polisulfidų tirpalą.
Procesą atlieka kambario temperatūroje ir visas operacijas kartoja du kartus.
Būdo trūkumas - per ilga kokybiškos sulfidinės dangos gavimo trukmė. Be to, šio būdo negalima naudoti tipinėse automatinio režimo galvaninėse linijose.
Artimiausias techninis sprendimas pagal esmę yra elektrai laidžių dangų gavimo būdas (TSRS a.l. Nr.980858, kl. B 05 D 5/12,1982), kai dielektriką apdoroja vario amoniakatiniame tirpale, merkia į vandenį, po to į sulfidinimo tirpalą ir nuplauna vandeniu.
Šio techninio sprendimo trūkumas: daugkartinis operacijų kartojimas - ne mažiau tris kartus, dėl ko pailgėja proceso trukmė ir sumažėja proceso panaudojimo galimybės.
Išradimo uždavinys - pagerinti proceso technologiškumą ir gauti kokybiškas elektrai laidžias metalo sulfidines dangas ant dielektrikų paviršiaus per palyginti trumpą laiką, t.y., tik vieną kartą apdorojant gaminius metalo amoniakato ir sulfidinimo tirpale, kas leistų elektrochemiškai metalizuoti dielektrikus tipinėse automatinio režimo galvaninėse linijose.
Išradimo esmė yra ta, kad gaminius iš dielektriko nuosekliai apdoroja metalo amoniakato tirpale, kuriame yra 0,1-1,0 M CoSO4 ir amonio hidroksido - NH4OH iki pH 9-12, merkia į vandenį, po to apdoroja sulfidinimo tirpale.
Siūlomas būdas, palyginus su žinomais techniniais sprendimais yra technologiškesnis, nes kokybiškos elektrai laidžios dangos susiformuoja nekartojant operacijų kelis kartus, esant kambario temperatūrai. Be to, siūlomą būdą galima naudoti tipinėse automatinio režimo galvaninėse linijose ir standartiniuose įrengimuose.
Šiuo būdu gautas metalo sulfidines dangas toliau elektrochemiškai metalizuojant ištisinė galvaninė danga gaunama per palyginus trumpą laiką ir mažesnėmis darbo sąnaudomis.
Tirpalus pagal siūlomą būdą ruošia distiliuotame vandenyje ištirpinant išradimo esmėje nurodytas medžiagas.
Sulfidinimo tirpalu gali būti natrio, kalio arba amonio mono, di, tri arba tetra sulfidų tirpalai.
Gaminius iš dielektriko - ABS plastmasės 1-5 min. ėsdina tirpale, kuriame yra 3,5-4 M H2SO4 ir 3,5-4 M CrO3, esant 60-70 °C temperatūrai ir nuplauna distiliuotu vandeniu.
Gaminius iš dielektriko - smūgiams atsparaus polistireno (SAPS) ėsdina tirpale, kuriame yra 13-15 M H2SO4 ir 0,075-0,1 M CrO3, esant 20-25 °C temperatūrai, nuplauna distiliuotu vandeniu ir dar 20-30 s ėsdina emulsijoje iš ksilolo (0,15-0,2 g/1) ir sintanolo (0,15-0,2 g/1), esant 20-25 °C temperatūrai.
Gaminius po ėsdinimo 20-30 s apdoroja tirpale, kuriame yra 0,1-1,0 M CoSO4 ir amonio hidroksido iki pH 9-12, esant 20-25 °C temperatūrai. Po to gaminius 20-30 s merkia į distiliuotą vandenį ir dar 20-30 s apdoroja tirpale, kuriame yra 0,01-0,1 M natrio, kalio arba amonio mono, di, tri arba tetra sulfidų, esant 20-25 °C temperatūrai.
Procesui pasibaigus, gaminius, plauna distiliuotu vandeniu ir 10-15 min. elektrochemiškai nikeliuoja Uotso elektrolite, kuriame yra 1-1,2 M NiSO4 7H2O; 0,15-0,2 M NiCl2 6H2O ir0,4-0,5 M H3BO3; pradinis srovės tankis 0,3 A/dm , kuris sklindant nikelio dangai nuo kontakto didėja iki 3 A/dm2, esant 30-40 °C elektrolito temperatūrai.
Elektrai laidžios sulfidinės dangos lygumą vertina iš karto po dangos nusodinimo vizualiai plika akimi dienos šviesoje dviem parametrais: lygi, nelygi.
Dangos laidumą elektrai vertina pagal elektrochemiškai nusodinamos nikelio dangos sklidimo greitį nuo kontakto cm/min. Be to, dangos laidumas vertinamas pagal tai, ar po elektrocheminio nikeliavimo dielektriko paviršius pasidengė nikeliu pilnai (+) ar nepilnai (-).
Siūlomo būdo efektyvumui įvertinti buvo paruošti 6 pavyzdžiai, iš kurių 1 ir 2 yra kontroliniai, o 3-6 paruošti pagal siūlomą būdą su skirtinga tirpalo komponentų koncentracija ir skirtingais technologiniais režimais.
1,3 ir 5 pavyzdžiuose apdorojimui naudojamos plokštelės iš ABS plastmasės, kurių paviršiaus plotas 50 cm , o 2,4 ir 6 pavyzdžiuose profiliuoti gaminiai iš smūgiams atsparaus polistireno (SAPS), kurių paviršiaus plotas 70 cm.
PAVYZDYS
Plokšteles iš ABS plastmasės, kurių paviršiaus plotas 50 cm’ 3 min. ėsdina tirpale, kuriame yra 4 M H2SO4 ir 3,5 M CrO3, esant 70 °C temperatūrai.
Po ėsdinimo plokšteles nuplauna vandeniu ir 30 s apdoroja tirpale, kuriame yra 0,5 M CUSO4 5Η?Ο ir NH4OH iki pH 9,5, esant 20 °C temperatūrai. Po to, gaminius merkia 20 s į distiliuotą vandenį ir dar 30 s apdoroja sulfidinimo tirpale, kuriame yra 0,01 M Na2S2, esant 20 °C temperatūrai.
Po apdorojimo gaminius plauna šaltu vandeniu ir 15 min. elektrochemiškai nikeliuoja Uotso elektrolite, kuriame yra (M): NiSOf · 7H2O - 1,2; NiCl? ' 6H2O - 0,2 ir H3BO3 - 0,5; pradinis srovės tankis 0,3 A/dm2, temperatūra 40 °C.
PAVYZDYS
Profiliuotus gaminius iš smūgiams atsparaus polistireno (SAPS), kurių paviršiaus plotas 70 cm , 30 s ėsdina tirpale, kuriame yra 15 M H2SO4 ir 0,1 M CrCb, esant 20 °C temperatūrai, nuplauna vandeniu ir dar 30 s ėsdina emulsijoje iš ksilolo (0,2 g/1) ir sintanolo (0,2 g/1), esant 20 °C temperatūrai.
Po ėsdinimo gaminius nuplauna distiliuotu vandeniu ir 30 s apdoroja metalo amoniakatiniame tirpale, kuriame yra 0,5 M CuSO4 4 5H2O ir NH4OH iki pH 9,8, esant 20 °C temperatūrai. Po to gaminius 20 s merkia į distiliuotą vandenį ir dar 30 s apdoroja sulfidinimo tirpale, kuriame yra 0,1 M Na2S, esant 20 °C temperatūrai.
Po apdorojimo gaminius plauna distiliuotu vandeniu ir elektrochemiškai nikeliuoja Uotso elektrolite, kaip aprašyta 1 pavyzdyje.
PAVYZDYS
Gaminių iš ABS plastmasės paviršių ėsdina 1 pavyzdyje aprašytu būdu.
Po ėsdinimo gaminius nuplauna distiliuotu vandeniu ir 30 s apdoroja metalo amoniakatiniame tirpale, kuriame yra 0,1 M CoSO4 ir NH4OH iki pH 10,0, esant 20 °C temperatūrai. Po to gaminius 30 s merkia į distiliuotą vandenį ir dar 30 s apdoroja sulfidinimo tirpale, kuriame yra 0,01 M Na2S2Po apdorojimo gaminius plauna distiliuotu vandeniu ir 15 min. elektrochemiškai nikeliuoja Uotso elektrolite, kaip aprašyta 1 pavyzdyje.
PAVYZDYS
Gaminių iš smūgiams atsparaus polistireno (SAPS) paviršių ėsdina 2 pavyzdyje aprašytu būdu.
Po ėsdinimo gaminius nuplauna distiliuotu vandeniu ir 30 s apdoroja metalo amoniakatiniame tirpale, kuriame yra 1,0 M CoSO4 ir NH4OH iki pH 10,5, esant 20 °C temperatūrai. Po to gaminius 20 s merkia į distiliuotą vandenį ir dar 30 s apdoroja sulfidinimo tirpale, kuriame yra 0,05 M K2S4.
Po apdorojimo gaminius plauna distiliuotu vandeniu ir 15 min. elektrochemiškai nikeliuoja Uotso elektrolite, kaip aprašyta 1 pavyzdyje.
PAVYZDYS
Gaminių iš ABS plastmasės paviršių ėsdina 1 pavyzdyje aprašytu būdu.
Po ėsdinimo gaminius nuplauna distiliuotu vandeniu ir 30 s apdoroja metalo amoniakatiniame tirpale, kuriame yra 0,25 M CoSO4 ir NH4OH iki pH 9,0, esant 20 °C temperatūrai. Po to gaminius 30 s merkia į distiliuotą vandenį ir 30 s apdoroja sulfidinimo tirpale, kuriame yra 0,02 M K2S3.
Po apdorojimo gaminius plauna distiliuotu vandeniu ir 15 min. elektrochemiškai nikeliuoja Uotso elektrolite, kaip aprašyta 1 pavyzdyje.
PAVYZDYS
Gaminių iš smūgiams atsparaus polistireno (SAPS) paviršių ėsdina 2 pavyzdyje aprašytu būdu.
Po ėsdinimo gaminius nuplauna distiliuotu vandeniu ir 30 s apdoroja metalo amoniakatiniame tirpale, kuriame yra 0,25 M CoSO4 ir NH4OH iki pH 12,0, esant 20 °C temperatūrai.
Po to gaminius 20 s merkia į distiliuotą vandenį ir 30 s apdoroja sulfidinimo tirpale, kuriame yra 0,1 M Na2S.
Po apdorojimo gaminius plauna distiliuotu vandeniu ir 15 min. elektrochemiškai nikeliuoja Uotso elektrolite, kaip aprašyta 1 pavyzdyje.
Duomenys apie gautų dangų savybes pateikti lentelėje.
Claims (1)
- IŠRADIMO APIBRĖŽTISElektrai laidžių dangų ant dielektriko paviršiaus gavimo būdas, kai gaminius iš dielektriko po ėsdinimo nuosekliai apdoroja metalo amoniakatiniame tirpale, vandenyje ir sulfidinimo tirpale, besiskiriantis tuo, kad gaminius iš dielektriko apdoroja metalo amoniakatiniame tirpale, kuriame yra 0,1 - 1,0 M CoSCU ir amonio hidroksido iki pH 9-12.
Priority Applications (16)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| LT98-161A LT4713B (lt) | 1998-11-13 | 1998-11-13 | Elektrai laidžių dangų ant dielektriko paviršiaus gavimo būdas |
| EP99115967A EP1001052B1 (de) | 1998-11-13 | 1999-08-13 | Verfahren zur Metallisierung einer Kunststoffoberfläche |
| AT99115967T ATE266107T1 (de) | 1998-11-13 | 1999-08-13 | Verfahren zur metallisierung einer kunststoffoberfläche |
| DE59909392T DE59909392D1 (de) | 1998-11-13 | 1999-08-13 | Verfahren zur Metallisierung einer Kunststoffoberfläche |
| ES99115967T ES2224507T3 (es) | 1998-11-13 | 1999-08-13 | Procedimiento para la metalizacion de una superficie de plastico. |
| AU12433/00A AU1243300A (en) | 1998-11-13 | 1999-11-05 | Process for metallizing a plastic surface |
| BR9915280-0A BR9915280A (pt) | 1998-11-13 | 1999-11-05 | Processo para metalizar uma superfìcie plástica |
| MXPA01004811A MXPA01004811A (es) | 1998-11-13 | 1999-11-05 | Proceso para metalizar una superficie de plastico. |
| US09/831,008 US6712948B1 (en) | 1998-11-13 | 1999-11-05 | Process for metallizing a plastic surface |
| JP2000582621A JP2002530529A (ja) | 1998-11-13 | 1999-11-05 | プラスチック面の金属化処理プロセス |
| CA002350422A CA2350422A1 (en) | 1998-11-13 | 1999-11-05 | Process for metallizing a plastic surface |
| KR1020017006001A KR20010086023A (ko) | 1998-11-13 | 1999-11-05 | 플라스틱 표면을 금속 처리하는 방법 |
| PCT/US1999/026066 WO2000029646A1 (en) | 1998-11-13 | 1999-11-05 | Process for metallizing a plastic surface |
| CNB998154938A CN1184361C (zh) | 1998-11-13 | 1999-11-05 | 塑料表面敷镀金属的方法 |
| TW088119793A TWI221163B (en) | 1998-11-13 | 1999-11-11 | Process for metallizing a plastic surface |
| US10/703,057 US20040096584A1 (en) | 1998-11-13 | 2003-11-06 | Process for metallizing a plastic surface |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| LT98-161A LT4713B (lt) | 1998-11-13 | 1998-11-13 | Elektrai laidžių dangų ant dielektriko paviršiaus gavimo būdas |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| LT98161A LT98161A (lt) | 2000-05-25 |
| LT4713B true LT4713B (lt) | 2000-10-25 |
Family
ID=19722018
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| LT98-161A LT4713B (lt) | 1998-11-13 | 1998-11-13 | Elektrai laidžių dangų ant dielektriko paviršiaus gavimo būdas |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| LT (1) | LT4713B (lt) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU980858A1 (ru) | 1981-07-23 | 1982-12-15 | Вильнюсский государственный университет им.В.Капсукаса | Способ получени электропроводных покрытий |
| SU1762425A1 (ru) | 1991-01-22 | 1992-09-15 | Институт Химии И Химической Технологии Литовской Ан | Способ получени электропровод щего покрыти сульфида меди на диэлектрической подложке |
-
1998
- 1998-11-13 LT LT98-161A patent/LT4713B/lt not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU980858A1 (ru) | 1981-07-23 | 1982-12-15 | Вильнюсский государственный университет им.В.Капсукаса | Способ получени электропроводных покрытий |
| SU1762425A1 (ru) | 1991-01-22 | 1992-09-15 | Институт Химии И Химической Технологии Литовской Ан | Способ получени электропровод щего покрыти сульфида меди на диэлектрической подложке |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| I. STAVNICER ET AL.: "Kaprono gaminių galvaninė metalizacija", GAMYBOS TECHNOLOGIJA IR ORGANIZACIJA, 1978, pages 56 - 57 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| LT98161A (lt) | 2000-05-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3664933A (en) | Process for acid copper plating of zinc | |
| US4889602A (en) | Electroplating bath and method for forming zinc-nickel alloy coating | |
| CN1184361C (zh) | 塑料表面敷镀金属的方法 | |
| US6712948B1 (en) | Process for metallizing a plastic surface | |
| DE3116743A1 (de) | "verfahren zum vorbehandeln eines nicht leitfaehigen substrats fuer nachfolgendes galvanisieren" | |
| CN102363884B (zh) | 一种锌合金压铸件的表面处理工艺 | |
| CN101418459A (zh) | 黄铜线材的镀铜工艺 | |
| CN108085724A (zh) | 一种锌镍镀层工艺 | |
| KR100312840B1 (ko) | 전기니켈도금욕또는전기니켈합금도금욕및그것을사용하는도금방법 | |
| KR20010086023A (ko) | 플라스틱 표면을 금속 처리하는 방법 | |
| US4904354A (en) | Akaline cyanide-free Cu-Zu strike baths and electrodepositing processes for the use thereof | |
| CN106591897B (zh) | 一种无氰离子液体镀铜溶液及镀铜工艺 | |
| EP0079356B1 (en) | A method for chemically stripping platings including palladium and at least one of the metals copper and nickel and a bath intended to be used for the method | |
| US3684666A (en) | Copper electroplating in a citric acid bath | |
| LT4713B (lt) | Elektrai laidžių dangų ant dielektriko paviršiaus gavimo būdas | |
| KR100816667B1 (ko) | 유전체 표면에 전도체 층을 형성시키는 방법 | |
| CN104164685A (zh) | 一种钢板镀镍的方法 | |
| KR100597466B1 (ko) | 전도성섬유의 치환도금방법 | |
| EP1483430B1 (en) | Non-cyanide copper plating process for zinc and zinc alloys | |
| KR100434968B1 (ko) | 마그네슘 합금에 양극산화피막을 형성한 후 그 위에동도금층 및 니켈도금층을 전해도금으로 형성하는 방법 | |
| LT4806B (lt) | Elektrai laidžių dangų ant dielektriko paviršiaus gavimo būdas | |
| KR100402730B1 (ko) | 마그네슘합금에 동-니켈 도금층을 전해 도금으로 형성하는방법 | |
| EP2218804A1 (en) | Copper-zinc alloy electroplating bath and plating method using the copper-zinc alloy electroplating bath | |
| US7276174B2 (en) | Pre-treatment of plastic materials | |
| SU1110819A1 (ru) | Сорбционный раствор дл обработки полимерных материалов в процессе получени на их поверхности сульфидных пленок |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM9A | Lapsed patents |
Effective date: 20051113 |