KR980008308A

KR980008308A - 이온 킬레이팅화합물이 고정된 세라믹 담체 조성물 및 이를 이용한 중금속의 흡착 및 회수 방법

Info

Publication number: KR980008308A
Application number: KR1019960027474A
Authority: KR
Inventors: 이종협; 김종성
Original assignee: 홍해준; Lg엔지니어링 주식회사; 김정한; 주식회사 정일Eng
Priority date: 1996-07-08
Filing date: 1996-07-08
Publication date: 1998-04-30

Abstract

본 발명의 세라믹 담체 조성물은 알루미나, 실리카, 지르코니아, 산화마그네숨, 산화티타늄, 실리카-알루미나 등과 같은 금속산화물의 세라믹 담체에 이온킬레이팅화합물을 고정시킨 조성물이다.세라믹 담체에 이온 킬레이팅화합물로는 옥심류, 포스페이트류,황화물류, 아민류, 인화수소물류 인사류, 양이온이나 음이온과 반응성이 있는 유기물 등이 있다. 세라믹 담체에 이온 킬레이팅 화합물을 고정시키기 위해서는 우선 세라믹 담체를 실란으로 표면처리하고, 그 표면 처리 된 세라믹 담체에 이온 킬레이팅 화합물을 고정시킨다. 실란으로 세라믹 담체를 표면처리하는 방법으로 실란으로 처리하는 실란화법과 실란으로 처리한후 알데히드류를 고정시키는 실란화-브리징법이 사용된다. 이온 킬레이팅 화합물이 고정된 세라믹 담체 조성물은 산업폐수나 공정유체에 적용하여 중금속을 선택적으로 흡착하여 제거할 수 있고, 중금속이 흡착된 세라믹 담체 조성물로부터 중금속을 선택적으로 탈착, 분리하여 회수할 수 있다.

Description

이온 킬레이팅화합물이 고정된 세라믹 담체 조성물 및 이를 이용한 중금 속의 흡착 및 회수 방법

제1도는 본 발명의 실시예 1과 실시예 3에 의하여 제조된 세라믹 담체 조성물(ABSO)의 시간에 따른 구리 및 카드뮴의 흡착농도를 나타낸 그래프이다.

제2도는 본 발명의 실시예 2와 실시예 4에 의하여 제조된 세라믹 담체 조성물(ABSBO)의 시간에 따른 구리 및 카드뮴의 흡착 농도를 나타낸 그래프이다.

제3도는 ABSO, ABSBO 및 표면처리를 하지 않은 알루미나 비드(AB)의 단위 면적당 구리의 흡착율을 나타낸 그리프이다.

[발명의 분야]

본 발명은 중금속을 선택적으로 흡착하거나 흡착된 중금속을 선택적으로 회수하기 위한 세라믹 담체 조성물 및 그 제조방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로 본 발명은 폐수 등에 함유되어 있는 중금속 등을 흡착 및 회수하기 위하여 세라믹 담체에 이온 킬레이팅 화합물을 고정시킨 담체 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 또한 본 발명에 따라 제조된 세라믹 담체 조성물을 이용하여 중금속 등을 선택적으로 분리 또는 회수하기 위한 방법에 관한 것도 포함한다.

[발명의 배경]

산업 폐수나 공정유체로부터 중금속이나 유해화합물질을 선택적으로 제거하기 위한 기술은 환경과 관련된 대단히 중요한 과제중의 하나이다.

대부분의 화학공장, 전자산업체, 그리고 전기도금업체로부터 배출되는폐수에는 독성이 강한 유기용매나 구리, 카드뮴, 니켈, 아연, 크몰, 금, 은, 그리고 비소와 같은 중금속이 황산기, 염소기, 질산기 또는 시안기와 함께 용해되어 있다. 이러한 산업폐수를 처리하기 위하여 현재 가장 많이 사용되는 방법으로는 화학침전법이 있다.

화학침전법은 공정이 비교적 간단하고 경제적이긴 하지만, 폐수에 무기 리간드나 유기물이 포함되어 있는 경우에는 침전효율이 급격하게 감소되어 폐수처리 공정 전체가 무기럭하게 되거나, 상당한양의 침전제를 참가해야 한다. 또한 금속을 침전시킨 후 침전입자의 응집제로써 다전해성 고분자 또는 알럼9alum)과 같은 또 다른 염을 첨가해야만 되기 때문에 폐수로부터 중금속을 제거한 후에도 공정에 재사용할 수 없다. 뿐만 아니라, 화학침전법은 주로 하이드록사이드나 카보네이트 형태의 침전물을 생성하는데, 이 슬러지는 다시 독성 물질로 분류되어 독성 물질 저장을위한 일정한 장소에 묻도록 규제되어 있다.

화합 침전법 이외에도 전기영동법, 증발법, 역삼투막과 이온교환법 등이 사용되어 어느 정도 성과를 얻고 있다. 그러나, 이러한 방법들은 에너지비용과 설치, 운영 및 관리 비용이 대단히 높고, 사용되는 재료가 산성 또는 알카리성인 산업폐수 또는 공정유체에 의해서 쉽게 용해 또는 파괴된다.

따라서, 이러한 기존방법의 제한성을 극복하기 위한 새로운 폐수 재이용 기술과 에너지 절약형 환경기술의 개발이 요구된다.

따라서, 본 발명자들은 세라믹 담체에 화학적 활성을 갖는 화학물질을 그담체에 결합시키고 , 그 세라믹 담체를 이용하여 산업폐수로부터 중금속을 제거하고, 제거된 중금속을 분리. 회수할 수 있는 본 발명을 개발하기에 이른 것이다.

[발명의 목적]

본 발명의 목적은 산업폐수나 공정유체로부터 중금속 등을 선택적으로 제거하기 위한 이온 킬레이팅 화합물이 고정된 세라믹 담체 조성물을 제공하기 위한 것이다.

본 발명은 다른목적은 산업폐수나 공정유체로부터 중금속 등을 선택적으로 제거하고 농축시켜 회수시키는 방법을 제공하기 위한 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 흡착된 중금속을 탈착하여 세라믹 담체를 재생할 수 있는 담체 조성물을 제공하기 위한 것이다. 상기에서 언급한 본 발명의 목적 및 기타의 목적들은 하기 설명하는 구체예에의하여 명확히 실현될 수 있다.

[발명의 요약]

본 발명의 세라믹 담체 조성물은 알루미나, 실리카, 지르코니아, 산화마그네슘, 산화티타늄, 실리카-알루미나등과 같은 금속산화물의 세라믹 담체에 이온 킬레이팅 화합물을 고정시킨 조성물이다. 세라믹 담체에 고정되는 이온 킬레이팅 화합물로는 옥심류, 포스페이트류, 황화물류, 아민류, 인화수소물류, 인산류, 및 양이온이나 음이온과 반응성이 있는 유기물이 있다. 세라믹 담체에 이은킬레이팅 화합물을 고정시키기 위해서는 우선 세라믹 담체를 실란으로 표면처리하고, 그 표면처리된 세라믹 담체에 이온 킬레이팅 화합물을 고정시킨다. 실란으로 세라막 담체를표면처리하는 방법으로는 실란으로 처리하는 실란화법과 실란으로 처리한후 알데히드류를 고정시키는 실란화-브리징법이 사용될 수 있다.

이온 킬레이팅 화합물이 고정된 세라믹 담체 조성물은 산업폐수나 공정유체에 적용하여 중금속을 선택적으로 흡착하여 제거할 수 있고, 중금속이 흡착된 세라믹 담체 조성물로부터 중금속을 선택적으로 탈착, 분리하여 회수할 수 있다. 이하 본 발명의 내용를 하기에 상세히 설명한다.

[발명의 구체예에 대한 상세한 설명]

본 발명은 중금속과 선택적으로 반응하는 이온 킬레이팅 화합물을 세라믹 담체에 결합시켜 제조한 세라믹 담체 조성물로서, 이를 이용하여 공정유체 또는 산업폐수와 같이 중금속을 함유하는 유체로부터 중금속 성분을 한꺼번에 또는 선택적으로 흡착하여 제거할 수 있다.

본 발명에서 사용되는 세라믹 담체는 낮은 산도(pH)에서 안정하며, 그 담체에 결합된 특정의 이온킬레이팅 화합물은 수용액의 조건에 따라 용해된 중금속의 전부 또는 일부를 선택적으로 분리 회수하는 특성을가지고 있다. 따라서 본 발명의 세라믹 담체 조성물은 다른 금속염이나 고분자 등의 물질을 않고서도 중금속을 선택적으로 분리할 수 있기 때문에, 처리된 폐수를 다시 사용할 수 있으며, 슬러지가 생성되지 않아 환경친화적 기술을 제공한다. 추출된 중금속은 선택적 농축이 가능하다. 본 발명에따른 화학적 활성을 갖는 세라믹 담체 조성물은 기계적, 열적 및 화학적 안정성을 가지며, 일반적으로 넓은 pH 범위에서의 수용액에대하여 화학적으로 안정하다.

또한 담체 조성물에 흡착된 중금속을 회수할 수 있기 때문에 담체 조성물의 재생이 가능하다. 본 발명에서 사용될 수 있는 세라믹 담체로는 알루미나, 실리카, 지르코니아, 산화마그네슘, 산화티타늄, 실리카-알루미나 등과같은 금속산화물이 있다. 이러한 세라믹 담체에 이온 킬레이팅 화합물을 고정시켜 본 발명의 세라믹 담체 조성물을 제조한다. 본 발명에서 사용될 수 있는 이온 킬레이팅 화합물로는 2-히드록시-5-노닐아세토페논옥심(2-hydroxy-5-nonylaceto-phenoneoxime)과 같은 옥심류;디부틸 부틸 포스페이트와 같은 포스페이트류; 트리(C₈-C₁₀)아민, 직쇄 아민, 퀴놀린, 트리 -이소-옥틸아민과 같은 아민류; 트리부틸포스핀, 트리이소부틸 포스핀 술피드(sulfide)와 같은 인화수소물류;2-에틸 헥실 포스포릭 애시드와 같은 인산류; 및 양이온 또는 음이온과 반응성이 있는 유기물류가 포함된다. 이온킬레이팅 화합물은 세라믹 담체에 잘 고정되지않는다. 따라서 발명에서는 세라믹 담체에 이온 킬레이팅 화합물을 고정시키기 위한 방법도 개발하였다. 우선 세라믹 담체를 실란으로 표면처리하고, 그 표면처리된 세라믹 담체에 이온 킬레이팅 화합물을 고정시킨다. 실란으로세라막 담체를 표면처리하는 방법으로는 표면을 실란으로 처리하는 실란화법과 실란으로 처리한후 알데히드류를 고정시키는 실란화-브리징법이 사용된다. 세라믹이 담체에 이온 킬레이팅 화합물을 고정시키는 방법으로는 상기 방법외에 염기처리법이 적용될 수도 있다. 세라믹 담체를 실란으로 표면처리하는 실란화법은 다음과 같이 행해진다.

비드, 분말 또는 펠렛 형태의 알루미나 실리카 등과 같은 세라믹 담체를 건조시키고 실란을 톨루엔 또는 자일렌 용액과 함께(속슬렛)(soxhlet) 장치에서 접속시켜 세라믹 담체 표현의 히드록실기와 실란을 반응시킨다. 이 반응액을 틀루엔과 아세톤으로 각각 세척하고, 오븐에서 건조시켜 세라믹 담체를표면처리한다. 표면처리되는 세라믹 담체는 비드, 분말 또는 펠렛의 형태이다. 실란화법에 의하여 세라믹 담체 표면을 처리하기 위한 실란으로는 3-아 미노-프로필 트리에톡시실란(3-amino-propyl triethoxy silane) (C₉H₂₃NO₃Si)이 바람직하다.

3-아미노 -프로필 트리에톡시실란을 세라믹 담체와 반응시켜 그 담체 표면의 히드록실기와 반응되는 반응구조식은 하기 구조식(I)으로 추정된다.

ⓒ-OH+(C₂H₅O)₃Si-(CH₂)₃-NH₂→ⓒ-O-(CH₂)₃NH₂(I)

상기식에서 ⓒ는 세라믹 담테를 나타낸다.

세라믹 담체를 실란으로처리한후 알데히드류를 고정시켜 표면처리하는 실란화 -브리징법은 다음과

같이 행해진다.

알루미나, 실리카 등과 같은 세라믹 담체를 건조시키고 실란으로 톨루엔 또는 자일렌 용액과 함께 속슬렛 장치에서 접촉시켜 세라믹 담체 표면의 히드록실기와 실란을 반응시킨다. 이 반응액을톨루엔과 아세톤으로 각각 세척하고, 오븐에서 건조시킨다. 건조시킨 세라믹 담체를 5-30 중량% 알데히드 용액에 넣어 반응시킨후, 용액을 따라내고 건조시켜서 실란화 -브리징법에 의한 표면처리을 완료한다.

실란화 반응이 진행된 세라믹 담체에 알데히드 (DCH(CH₂)₃COH)를 고장시키는 반응은 하기 구조식(II)으로 추정된다.

ⓒ-O-(CH₂)₃NH₂+OCH-(CH₂)₃CHO→ⓒ-O-(CH₂)₃NH-OC(CH₂)₃CHO (II)

세라믹 담체의 표면처리가 완료된후, 그 담체에 이온 킬레이팅 화합물을 고정시킨다. 세라믹 담체에 이온 킬레이팅 화합물을 고정시키는 방법은 다음과 같다. 표면처리된 세라믹 담체를 진공상태로 유지하고 담체가 담긴 용기를 회전시키면서 이온 킬레이팅 화합물을 가는 테프론 튜브를 통하여 주입시킨다.

이온 킬레이팅 화합물의 주입공정을 반복하여 이온 킬레이팅 화합물이 기공 부피의 약 1-5배 정도 주입되면 주입을 멈추고 진공을 유지한다. 제조된 담체를 아세톤으로 세척하고 대기중에서 건조시켜 증류수로세척하여 본 발명에 따른 이온 킬레이팅 화합물이 고정된 세라믹 담체조성물을 제공한다.

상기 실란화법에 의해 표면처리된 세라믹 담체에 이온 킬레이팅 화합물을 고정시킨 담체 조성물의 화학 반응식은하기 식(III)으로 나타나고,상기 실란화-브리징법에 의해 표면처리된 세라믹 담체에 이온 킬레이팅 화합물을 고정시킨 담체 조성물의 화학반응식은 하기식(IV)으로 나타낼 수 있다.

ⓒ-O-(CH₂)₃NH₂+HR→ⓒ-O-(CH₂)₃NH-HR (III)

ⓒ-O-(CH₂)₃NH-OC(CH₂)₃CHO+HR→ⓒ-O-(CH₂)₃NH-OC(CH₂)₃CO-HR (IV)

상기식에서 HR은 이온 킬레이팅 화합물을 가리킨다.

본 발명에따라 제조된 세라믹 담체 조성물은 이온 킬레이팅 화합물을 고정시킴으로써 화학적으로 변형된 담체이다.

본 발명의 이온 킬레이팅 화합물이 고정된 세라믹 담체 조성물은 산업폐수나 공정유체에 적용하여 중금속을 흡착하여 제거할 수 있다. 중금속이 흡착된 세라믹 담체 조성물로부터 중금속을 탈착, 분리하여 회수할 수 있다. 본 발명은 하기의 실시예에 의하여 보다 구체화될 것이며, 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것으로, 본 발명의 보호 범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.

[실시예]

[실시예 1 : 실란화법에 의한 알루미나 비드의 표면처리방법]

10g의 알루미나 비드 담체를 100℃에서 건조시킨 후, 100㎖의 10% 3-아미노 -프로필트리에톡시실란 톨루엔 용액과 속슬랫 장치에서 10시간 접촉시켰다. 상기 비드 담체를 톨루엔으로 세척한 뒤 아세톤으로 세척하였다. 100℃의 오븐에서 건조시킴으로써 실란으로 표면처리된 알루미나 비드 담체를 제조하였다.

[실시예 2]

실란화-브리징법에 의한 알루미나 비드의 표면처리 방법

알데히드 수용액에 완충용액 (pH=7)을 가하여 7.5 중량%의 알데히드 용액을제조하고 , 그 용액에 실시예 1에 의하여 제조된 알루미나 비드 담체를 용액에 넣고 12시간 동안 반응시켰다. 상기 반응물로 부터 용액을 따라내고 100℃에서 건조시켜 표면 처리된 알루미나 비드 담체를 제조하였다.

[실시예 3 및 4]

이킬레이팅 화합물이 고정된 세라믹 담테 조성물의 제조

상기 실시예 1 및 2에서 제조된 표면처리된 알루미나 비드 담체에 이온 킬레이팅 화합물을 고정시켜 각각 실시예 3과 4의 세라믹 담체 조성물을 제조하였다. 우선 표면처리된 세라믹 알루미나 비드 담체를 진공펌프로 10분 정도 진공을 건후, 이온킬레이팅 화합물을 가는테프론 튜브를 통해 주입하였다.

이때 담체가 담긴 용기는 회전시켰다. 이온 킬레이팅 화합물이 주입된후, 1분간 기다렸다가 상기 주입공정을 반복하였다. 이온킬레이팅 화합물이 기공부피의 1.5배 정도 주입되면 주입을 멈추고 다시 진공 10분정도 걸어주었다.

제조된 담체를 아세톤으로 세척한후 대기중에서 건조시켜 증류수로써 12시간 교반기를이용하여 세척하였다. 이때 사용된 이온킬레이팅 화합물은 2-히드록시 -5-노닐아세토페논옥심(HNAO)이었다. 실시예 3의 실란화법에 의하여 제조된 세라믹 담체 조성물을 ABSO로 나타내었고, 실시예 4의 실란화-브리징법에 의하여 제조된 세라믹 담체 조성물을 ABSBO로 나타내었으며, 표면처리를 하지않은 알루미나 비드를 AB로 나타내었다.

[중금속 흡착시험]

상기 실시예 3 및 4에 따라 제조된 화학적으로 변형된 세라믹 담체를 이용하여 다음과 같이 구리와 카드뮴 혼합 수용액에 대하여 금속 이온 흡착시험을 하였다. CuSO₄.5H₂o(Junsei,extra pure) 및 CdSO₄, XHO(Junsei,extra pure)로부터 구리 100ppm 및 카드뮴 100 ppm의 구리 -카드뮴 용액을 제조하였다. 담체의 흡착실험은 미분 칼럼 회분식반응기로 행하였다. 파이렉스(pyrex) 반응관에 (길이 37.5㎝ 내경 11mm )담체 5g을 충전시킨 뒤 250 cc의 용액을 비이커에 담고 정량 펌프로 40㎖/min의 속도로 반응관으로 보냈다. 반응관을 나온 유체는 유량계를 거쳐 구리 용액이 담긴 비이커로 순환되게 하였다. 비이커 안의 용액은 자성 교반기 (Magnetic stirrer)로 잘 교반하였다. 용액은 1cc 씩 피펫으로 체취되고 이때 pH meter(동우메디칼(주)제품)를 사용하여 pH를 기록하였다. 이때 실험시간은 8시간이었다. 담체를 사용한 흡착 실헙결과는 제1도와 제2도에서 보여주고 있다. 두 담체의 경우 모두 구리의 농도는 지속적으로 감소하나 카드뮴의 농도는 거의 감소하지 않았다.이는 표면에 고정된 HNAO에 대해 구리와 카드뮴이 경쟁적으로 흡착하여 흡착율이 상대적으로 더 큰 구리가 카드뮴의 흡착을 억제하기 때문이다.

제3도는 단위 비표면적당 의 구리의 흡착율을 나타낸다. 감소된 비표면적을 고려하면 비표면적당 구리의 흡착율은 ABSO가 AB보다 높으며 , 특히 ABSBO의 단위 비표면적당 흡착량이 매우 높음을 알 수 있다.

[재생율 측정]

황산을 사용하여 구리와 카드뮴이 흡착된 담체를 재생하였다. 담체는 1N H₂SO₄수용액 50cc 에 넣어져 교반기에서 잘 교반하면서 12시간동안 재생되었다. 재생실험에 사용된 담체의 구리 및 카드뮴의 양을 계산한 뒤 재생에 사용된 황산용액에 포함된 구리 및 카드뮴의 양을 ICP 분석 결과로부터 계산하였다. 이들로부터 다음과 같이 제생율을 계산하였다.

ABSBO의 카드뮴 재생율은 흡착된 양이 거의 없는 것으로 분석되었기 때문에 계산되지 못하였다.

계산 결과는 표 1과 같다. 이 결과에서 알 수 있듯이 산성용액으로 담체를 처리할 경우 흡착된 중금속은 탈착되며, 이와 같은 방법으로 중금 속의 회수 및 담체의 재생이 가능하다.

표 1

본 발명은 산업폐수나 공정유체로부터 중금속 등을 선태적으로 제거하기 위한 이온킬레이팅 화합물이 고정된 세라믹 담체 조성물을 제공하며, 이를 이용하여 중금속을 흡착 및 회수하는 방법을 제공할 수 있는

발명의 효과를 갖는다. 본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.

Claims

금속 산화물의 세라믹 담체 분말, 펠렛 또는 비드를 실란으로 표면처리하고, 상기 표면처리된 세라믹 담체 비드에 이온 킬레이팅화합물을 고정시킴으로써 이온 킬레이팅 화합물이 세라믹 담체 분말 또는 비드에 고정된 것을 특징으로 하는 세라믹 담체 조성물.
제1항에 있어서 상기 세라믹 담체 분말, 펠렛 또는 비드는 알루미나, 실리카, 지르코니아, 산화마그네슘, 산화티타늄, 및 실리카 -알루미나로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 세라믹 담체 조성물
제1항에 있어서 상기 실란이 3-아미노 -프로필트리에톡시실란(C₉H₂₃NO₃Si)인 것을 특징으로 하는 세라믹 담체 조성물.
제1항에 있어서 상기 이온 킬레이팅 화합물이 2-히드록시-5-노닐아세토페논옥심(2-hydroxy-5- nony-lacetophenoneoxime)과 같은 옥심류；디부틸 부틸 포스페이트와 같은 포스페이트류;트리(C₈-C₁₀)아민, 직쇄아민,퀴놀린, 트리-이소-옥틸아민과 같은 아민류；트리부틸포스핀, 트리이소부틸포스핀 술피드와 같은 인화수소물류；2-에틸 포스포릭 애시드와 같은 인산류 및 양이온 도는 음이온과 반응성이 있는 유기물류로 이러어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 세라믹 담체 조성물.
금속 산화물의 세라믹 담체 분말, 펠렛 또는 비드를 실란으로 표면처리하고, 상기 표면처리된 세라믹 담체에 알데히드류를 고정시키고 상기 담체에 이온 킬레이팅 화합물을 고정시킴으로써 이온킬에이팅 화합물이 세라믹 담체 분말, 펠렛 또는 비드에 고정된 것을 특징으로 하는 세라믹 담체 조성물.
제5항에 있어서, 상기 세라믹 담체 분말, 펠렛 또는 비드는 알루미나, 실리카, 지르코니아, 산화마그네슘, 산화티타늄, 및 실리카-알루미나로 이루어진 군으로부터 선택되는 것릉 특징으로 하는 세라믹 담체 조성물.
제5항에 있어서, 상기 실란이 3-아미노-프로필트리에톡시실란(C₉H₂₃NO₃Si)인 것을 특징으로 하는 세라믹 담체 조성물.
제5항에 있어서 상기 이온 킬레이팅 화합물이 2-히드록시-5-노닐아세토페논옥심(2-hydroxy-5- nony lacetophenoneoxime)과 같은 옥심류;디부틸부틸 포스페이트와 같은 포스페이트류;트리(C₈-C₁₀) 아민, 직쇄 아민, 퀴놀린, 트리 -이소-옥틸아민과 같은 아민류；트리부틸포스핀, 트리이소부틸 포스핀 술피드와 같은 인화수소물류；2-에틸 헥실 포스포릭 애시드와 같은 인산류；및 양이온 또는 음이온과 반응성이 있는 유기물류로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 세라믹 담체조성물.
금속 산화물의 세라믹 담체 분말, 펠렛 또는 비드를 실란으로 표면처리하고 ;그리고 상기표면처리된 세라믹 담체 분말, 펠렛 또는 비드에 이온 킬레이팅 화합물을 고정시키는 ;단계로 이루어지는 것을 특징으로하는 이온킬레이팅 화합물이 고정 된세라믹 담체 조성물의 제조 방법.
제9항에 있어서, 상기 세라믹 담체 분말, 펠렛 또는 비드를 실란으로 표면 처리한후 상기 세라믹 담테 분말, 펠렛 또는 비드에 글루타르알데히드를 고정시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이온 킬레이팅 화합물이 고정된 세라믹 담체 조성물의 제조 방법
제10항에 있어서, 상기 세라믹 담체 분말, 펠렛 또는 비드는 알루미나, 실리카, 지르코니아, 산화마그네슘, 산화티타늄 및 실리카 -알루미나로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 세라믹 담체 조성물의 제조 방법.
제10항에 있어서, 상기 실란이 3-아미노-프로필트리에 톡시실란 (C₉H₂₃NO₃Si)인 것을 특징으로 하는 세라믹 담테 조성물의 제조 방법.
제10항에 있어서, 상기 이온 킬레이팅 화합물이 2-히드록시-5-노닐아세토페논옥심(2-hydroxy-5- nony lacetophenoneoxime)과 같은 옥심류；디부틸부틸 포스페이트와 같은 포스페이트류；트리(C₈-C₁₀) 아민, 직쇄아민, 퀴놀린, 트리-이소-옥틸아민과 같은 아민류；트리부틸포스핀, 트리이소부틸 포스핀 술피드와 같은 인화수소물류; 2-에틸헥실 포스포릭 애시드와 같은 인산류；및 양이온 또는 음이온과 반응성이 있는 유기물류로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 세라믹 담체 조성물의 제조방법.
상기 제1항내지 제8항의 어느 한 항에 따른세라믹 담체 조성물로 산업폐수나 공정유체를 처리하여 중금속을 상기 세라믹 담체 조성물에 흡착시키고；상기 흡착된 중금속을 탈착하여 회수하는；단계로 이루어지는 것을 특징으로하는 중금속의 흡착 및 회수 방법.

※ 참고사항：최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.