KR980006001A - 웨이퍼 고정용 정전척의 전원공급장치 - Google Patents

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Abstract

안착되는 웨이퍼의 종류에 따라가변되어 공급되는 전압을 보상하고, 공정중 외부 환경에 의하여 가변되는 전압을 보상하도록 개선시킨 웨이퍼고정용 정전척의 전원공급장치에 관한 것이다.
본 발명은 파워서프라이로부터 공급되는 양전압과 음전압을 필터에서 필터링하여 각각 해당 전극으로 인가하는 웨이퍼 고정용 정전척의 전원공급장치에 있어서, 상기 양전압과 음전압을 필터로 인가하는 라인간의 전압차를 감지하는 감지수단, 상기 감지수단에서 전압차가 감지되면 상기 양전압과 상기 음전압의 레벨을 동일하도록 보상하여 각 전극의 인가전압을 가변시키는 보상 수단을 구비하여 이루어진다. 따라서, 웨이퍼를 정상적으로 척킹할 수 있는 힘이 항상 유지되어서, 웨이퍼 후면 냉각을 위하여 헬륨가스가 분사되더라도 웨이퍼의 무빙이 발생되지 않고 공정을 원활히 수행할 수 있으며, 웨이퍼의 타입에 상관없이 척킹이 가능한 효과가 있다.

Description

웨이퍼 고정용 정전척의 전원공급장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 따른 웨이퍼 고정용 정전척의 전원공급장치의 실시예를 나타내는 블록도이다.

Claims (4)

  1. 파워서플라이로부터 공급되는 양전압과 음전압을 필터에서 필터링하여 각각 해당 전극으로 인가하는 웨이퍼 고정용 정전척의 전원공급장치에 있어서, 상기 양전압과 음전압을 필터로 인가하는 라인간의 전압차를 감지하는 감지수단; 상기 감지수단에서 전압차가 감지되면 상기 양전압과 상기 음전압의 레벨을 동일하도록 보상하여 각 전극의 인가전압을 가변시키는 보상 수단;을 구비함을 특징으로 하는 웨이퍼 고정용 정전척의 전원공급장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 감지수단은 양전압 인가라인과 음전압 인가라인 사이의 브릿지 회로로 구성됨을 특징으로 하는 상기 웨이퍼 고정용 정전척의 전원공급장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 보상수단은 상기 감지수단에서 감지된 전압차를 모니터링하여 메뉴얼 모드로 보상전압을 조정하도록 구성됨을 특징으로 하는 상기 웨이퍼 고정용 정전척의 전원공급장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 보상수단은 상기 감지수단에서 감지된 전압차를 모니터링하여 자동으로 보상전압을 설정하여 조정하도록 구성됨을 특징으로 하는 웨이퍼 고정용 정전척의 전원공급장치.
    ※참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960020818A 1996-06-11 1996-06-11 웨이퍼 고정용 정전척의 전원공급장치 KR100227821B1 (ko)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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