KR980005738A - 웨이퍼 세정 장치 - Google Patents

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KR980005738A
KR980005738A KR1019960023936A KR19960023936A KR980005738A KR 980005738 A KR980005738 A KR 980005738A KR 1019960023936 A KR1019960023936 A KR 1019960023936A KR 19960023936 A KR19960023936 A KR 19960023936A KR 980005738 A KR980005738 A KR 980005738A
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KR
South Korea
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cleaning
wafer cleaning
wafer
cleaning liquid
spray
Prior art date
Application number
KR1019960023936A
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English (en)
Inventor
이원홍
최영준
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
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Publication date
Application filed by 김광호, 삼성전자 주식회사 filed Critical 김광호
Priority to KR1019960023936A priority Critical patent/KR980005738A/ko
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  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

본 발명은 웨이퍼 세정 장치에 관해 게시한다. 본 발명은 웨이퍼들을 장착하는 카세트가 완전히 잠길 수 있는 세정조 및 상기 세정조의 내부 벽에 높이가 서로 다르게 설치되어 외부에서 공급되는 세정액을 분사하며, 분사 구멍들이 측면으로 굽어있어서 분사된 세정액이 와류를 형성하며 회전하게하는 다수개의 분사봉을 구비함으로써, 웨이퍼에 붙어있는 불순물 제거 효율이 향상되어 불순물에 의한 반도체칩의 불량이 방지된다. 그로인하여 반도체 칩의 수율이 향상된다.

Description

웨이퍼 세정 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 따른 웨이퍼 세정장치의 평면도.

Claims (3)

  1. 웨이퍼들을 장착하는 카세트가 완전히 잠길 수 있는 세정조; 및 상기 세정조의 내부 벽에 높이가 서로 다르게 설치되어 외부에서 공급되는 세정액을 분사하며, 분사 구멍들이 측면으로 굽어있어서 분사된 세정액이 와류를 형성하며 회전하게하는 다수개의 분사봉을 구비하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 세정액은 탈이온수나 산, 알카리 혼합액인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 분사봉들 중 적어도 하나는 가압 N2개스를 분사하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960023936A 1996-06-26 1996-06-26 웨이퍼 세정 장치 KR980005738A (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100450632B1 (ko) * 2002-10-01 2004-10-01 주식회사 에이텍 반도체 웨이퍼 세정용 다층 세정장치

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