KR980003670A - 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법 - Google Patents

박막형 광로 조절 장치의 제조 방법 Download PDF

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KR980003670A
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forming
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KR1019960026167A
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Inventor
고윤진
Original Assignee
배순훈
대우전자 주식회사
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Abstract

본 발명은 박막형 광로 조절 장치를 단위 픽셀로 형성하는 과정에서의 변형부의 페로일렉트릭(ferroelectric) 특성이 저하되는 것을 방지할 수 있는 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법에 관한 것으로서, 상기 박막형 광로조절 장치를 구동하기 위한 구동 기판의 상부에 멤브레인, 하부 전극, 변형부, 상부 전극을 순차적으로 적층하여 액츄에이터를 형성하고, 상기 복수개의 층으로 이루어진 액츄에이터를 픽셀 단위로 형성하기 위해 각 층을 순차적으로 식각한 다음, 상기 변형부를 어닐링 해줌으로써, 상기 픽셀 단위의 식각시 저하되었던 변형부의 페로일렉트릭 특성을 회복하여 광로 조절 장치의 효율을 증진시킬 수 있다.

Description

박막형 광로 조절 장치의 제조 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 일반적인 박막형 광로 조절 장치의 단면도.

Claims (4)

  1. 투사형 화상 표시 장치로 사용되는 박막형 광로 조절 장치를 제조하는 방법에 있어서, 매트릭스 구조로 형성된 능동 소자 및 메탈 패드를 구비한 실리콘 기판의 상부에 구동 기판을 준비하는 공정과, 상기 구동 기판의 상부에 소정 두께의 패시베이션층, 식각 스톱층, 회생층을 소정 두께로 순차적으로 형성하는 공정과, 상기 회생층의 소정 부분을 식각하는 공정과, 상기 회생층의 식각으로 노출된 식각 스톱층 및 회생층의 상부에 멤브레인을 형성하는 공정과, 상기 구동 기판의 메탈 패드를 노출시키도록 상기 멤브레인, 회생층, 식각 스톱층, 보호층을 관통하는 비아흘을 형성하는 공정과, 상기 비아홀에 비아메탈을 형성하는 공정과, 상기 멤브레인 및 비아메탈의 상부에 하부 전극, 변형부, 상부 전극을 소정 두께로 적층하여 순차적으로 형성하는 공정과, 상기 상부 전극, 변형부, 하부 전극, 멤브레인을 회생층이 노출될 때까지 순차적으로 식각하여 픽셀 단위로 형성하는 공정과, 상기 필셀 단위로 형성된 액츄에이터의 변형부를 어닐링 하는 공정과, 상기 픽셀 단위로 형성된 액츄에이터의 전면에 보호층을 형성하는 공정과, 상기 픽셀 단위의 식각에 의해 노출된 회생층을 식각 용액으로 제거하여 구동 공간을 형성하는 공정과, 상기 보호층을 제거하는 공정으로 이루어진 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 어닐링 공정은, 급가열 공정(RTA)인 것을 특징으로 하는 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법.
  3. 제1항 및 제2항에 있어서, 상기 어닐링 공정은, 600∼700℃에서 실시 되는 것을 특징으로 하는 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법.
  4. 제3항에 있어서, 상기 어닐링 공정은, 80∼120초 동안에 실시 되는 것을 특징으로 하는 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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