KR960035764A - 광로조절장치의 제조방법 - Google Patents
광로조절장치의 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR960035764A KR960035764A KR1019950005516A KR19950005516A KR960035764A KR 960035764 A KR960035764 A KR 960035764A KR 1019950005516 A KR1019950005516 A KR 1019950005516A KR 19950005516 A KR19950005516 A KR 19950005516A KR 960035764 A KR960035764 A KR 960035764A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- rinse
- layer
- etching
- manufacturing
- membrane
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 19
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract 15
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 claims abstract 9
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims abstract 7
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 claims abstract 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 claims 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 claims 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 abstract 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 abstract 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 abstract 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/015—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on semiconductor elements having potential barriers, e.g. having a PN or PIN junction
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/0102—Constructional details, not otherwise provided for in this subclass
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
- G02F2201/48—Flattening arrangements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Projection Apparatus (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Micromachines (AREA)
Abstract
본 발명은 광로조절장치의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 투사형 화상표시장치에 채용되는 광로조절장치로서의 액츄에이티드 미러 어레이(Actuated Mirror Array :이하, AMA라 약칭한다)의 제조공정에서 회생층 제거시 발생되는 타층의 손상을 최소화하고 또한 린스(Rinse)공정에 의한 스타킹(Sticking)현상을 방지하여 상부전극층의 안정성 및평탄화를 향상시킬 수 있는 광로조절장치의 제조방법에 관한 것이며, 본 발명에 따른 광로조절장치의 제조방법의 구성은 트래지스터가 매트릭스 형태로 내장되고 상기 트랜지스터와 전기적으로 접속된 패드가 표면에 형성된 구동 기판(31)상에 상기 패드와 접촉되지 않도록 버퍼층 및 회생층(35)을 차례로 형성한 후 원하는 패턴형성을 위해 상기 회생층(35)을 에칭하는 제1공정과, 상기 회생층(35)의 상부에 멤브레인(37)을 적층하고 표면 평탄화후 에칭용액 유입부의 형성을 위한 패턴형성을 위해 에칭하는 제2공정, 상기 회생층(35)을 에칭제거하여 에어갭(30)을 형성하고 에칭용액을 린스(Rinse)한 후 린스액을 건조시키는 제3공정, 상기 에어갭(30)을 유지하고 다층박막 형성시 구조적 안정을 위하여 상기 제2공정에서 패턴 형성되었던 에칭용액 유입부를 봉합물로 봉합한 후 상부를 평탄화하는 제4공정, 상기 멤브레인(37)의 소정부분에 상기 패드가 노출되도록 요홈을 형성하고 상기 요홈의 내부에 상기패드와 접촉되도록 플러그(39)를 형성한 후 상기 멤브레인(37)의 상부에 하부전극(41)을 상기 플러그(39)와 접촉되도록 도포하여 적층하는 제5공정, 상기 하부전극(41)의 표면에 변형부(43)를 적층하고 상기 변형부(43)의 상부에 상부 전극(45)을 적층하는 제6공정 및, 상기 상부전극(45), 변형부(43), 하부전극(41), 멤브레인(37)및, 봉합물(50)을 건식 에칭법을 이용하여 패터닝하고 화소를 분리하여 액츄에이터(49)를 형성하는 제7공정을 포하하여 이루어진 것을 특징으로 하여, 회생층 제거시 발생되는 타층의 손상을 최소화하고 또한 린스(Rinse)공정에 의한 스타킹(Sticking)현상을 방지하여 상부전극층의 안정성 및 평탄화를 향상시킬 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도(A)내지 제2도(H)는 본 발명에 따른 광로조절장치의 제조방법을 설명하기 위한 공정도로, (A)및(B)는 단면도, (C)는 평면도, (D)는 제2도(C)의 B-B선 단면도, (E)는 제2도(C)의 A-A선 단면도, (F)내지 (H)는 단면도이다.
Claims (4)
- 트랜지스터가 매트릭스형태로 내장되고 상기 트랜지스터와 전기적으로 접속된 패드가 표면에 형성된 구동기판(31)상에 상기 패드와 접촉되지 않도록 버퍼층 및 회생층(35)을 차례로 형성한후 원하는 패턴형성을 위해 상기 회생층(35)을 에칭하는 제1공정과, 상기 회생층(35)의 상부에 멤브레인(37)을 적층하고 표면 평탄화후 에칭용액 유입부의 형성을 위한 패턴형성을 위해 에칭하는 제2공정, 상기 회생층(35)을 에칭제거하여 에어갭(30)을 형성하고 에칭용액을 린스(Rinse)한 후 린스액을 건조시키는 제3공정, 상기 에어갭(30)을 유지하고 다층박막 형성시 구조적 안정을 위하여 상기 제2공정에서 패턴 형성되었던 에칭용액 유입부를 봉합물로 봉합한 후 상부를 평탄화하는 제4공정, 상기 멤브레인(37)의 소정부분에 상기 패드가 노출되도록 요홈을 형성하고 상기 요홈의 내부에 상기 패드와 접촉되도록 플러그(39)를 형성한 후 상기 멤브레인(37)의 상부에 하부전극(41)을 상기 플러그(39)와 접촉되도록 도포하여 적층하는 제5공정, 상기 하부전극(41)의 표면에 변형부(43)를 적층하고 상기 변형부(43)의 상부에 상부 전극(45)을 적층하는 제6공정 및, 상기 상부전극(45), 변형부(43), 하부전극(41), 멤브레인(37) 및, 봉합물(50)을 건식 에칭법을 이용하여 패터닝하고 화소를 분리하여 액츄에이터(49)를 형성하는 제7공정을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 광로조절장치의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제2공정에서 에칭용액유입부의 형성은 캔틸레버의 양측 길이방향에만 형성함을 특징으로 하는 광로조절장치의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제4공정에서 에칭용액유입부를 봉합하는 봉합물은 SiO2를 이용함을 특징으로 하는 광로조절장치의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제7공정에서 화소를 분리하는 방법은 린스공정이 필요없는 건식에칭공정으로 수행하여 에칭용액에 의한 캔틸레버의 휨 발생을 최소로 하는 광로조절장치의 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950005516A KR0164186B1 (ko) | 1995-03-17 | 1995-03-17 | 광로조절장치의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950005516A KR0164186B1 (ko) | 1995-03-17 | 1995-03-17 | 광로조절장치의 제조방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR960035764A true KR960035764A (ko) | 1996-10-24 |
| KR0164186B1 KR0164186B1 (ko) | 1998-12-15 |
Family
ID=19409937
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950005516A KR0164186B1 (ko) | 1995-03-17 | 1995-03-17 | 광로조절장치의 제조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR0164186B1 (ko) |
-
1995
- 1995-03-17 KR KR1019950005516A patent/KR0164186B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR0164186B1 (ko) | 1998-12-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4808983A (en) | Flat-panel display and a process for its manufacture | |
| KR100196313B1 (ko) | 제어 회로 기판과 일체화하기 위한 dmd 구조 및 방법 | |
| JPH04354126A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| KR960702137A (ko) | 반사 디스플레이 제작 방법(Method of manufacturing a reflective display) | |
| KR100481890B1 (ko) | 반도체소자의 게이트 산화막 형성방법 | |
| KR960035764A (ko) | 광로조절장치의 제조방법 | |
| EP0756303B1 (en) | Method of manufacturing a field emission array | |
| KR0170371B1 (ko) | 반도체 구조물내의 메사제조방법 | |
| JPS6279421A (ja) | カラ−液晶表示体 | |
| JPH06250222A (ja) | 液晶表示装置 | |
| KR940012007A (ko) | 광산란형 액정 표시 장치의 제조 방법 | |
| KR970077763A (ko) | 광로 조절 장치의 제조 방법 | |
| KR970054559A (ko) | 광로 조절 장치의 제조 방법 | |
| KR100248125B1 (ko) | 액정표시장치 및 그 제조방법 | |
| KR960036523A (ko) | 광로조절장치의 제조방법 | |
| KR970023640A (ko) | 광로조절 장치의 패턴 형성 방법 | |
| KR950016302A (ko) | 광로 조절장치의 제조방법 | |
| KR101045431B1 (ko) | 패턴 형성 방법과 이를 이용한 박막트랜지스터 및액정표시장치 제조방법 | |
| JP2001142414A5 (ko) | ||
| KR100743847B1 (ko) | 액정 표시 장치의 제조 방법 | |
| KR0170955B1 (ko) | 광로 조절 장치의 에어갭 형성 방법 | |
| KR970052320A (ko) | 반도체 소자의 전하저장전극 형성방법 | |
| KR970003466A (ko) | 반도체소자의 콘택홀 형성방법 | |
| KR970077236A (ko) | 광로 조절 장치의 평탄화 방법 | |
| KR940016748A (ko) | 박막 트랜지스터의 크로스-오버 제조방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20040825 Year of fee payment: 7 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |