KR970707455A - 단일 폴드 광학 시스템내의 비임 스플리터, 광학 가변 확대방법 및 그의 시스템(beamsplitter in single fold optical system and optical variable magnification method and system) - Google Patents

단일 폴드 광학 시스템내의 비임 스플리터, 광학 가변 확대방법 및 그의 시스템(beamsplitter in single fold optical system and optical variable magnification method and system)

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KR970707455A
KR970707455A KR1019970702808A KR19970702808A KR970707455A KR 970707455 A KR970707455 A KR 970707455A KR 1019970702808 A KR1019970702808 A KR 1019970702808A KR 19970702808 A KR19970702808 A KR 19970702808A KR 970707455 A KR970707455 A KR 970707455A
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데이비드 에이. 마클
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Abstract

광학 시스템(제4도)은 선택된 비율 요소로 조명된 물체로부터 이미지를 이미지 평면(4)으로 투영시키는 것이다. 이 시스템은 고정 배율 요소를 갖는 렌즈 시스템(6′)과 렌즈 시스템에 광학적으로 비교되고 원통형으로 만곡될 때 이미지의 일축을 따라서 렌즈 시스템의 고정 배율 요소를 변경시키는 적어도 하나의 평면(28)으로 구성된다. 이 가변 배율 기술을 위네 다이슨형 광학 주사 시스템을 포함하는 모든 렌즈 시스템 형태에 적용 가능하다. 부가적으로, 보통 폴드 프리듬(10) 대신 광학 블록을 포함하는 위네 다이슨 광학 주사 시스템이 개시된다. 광학 블록(32)은 레티클(2)로부터 전달된 열에 의해서 야기된 비틀림 변형을 감소시킨다. 블록은 광학 블록의 대각선을 통하여 노광의 최소 감쇠를 제공하는 이색성 비임 스필리터(34)를 포함한다.

Description

단일 폴드 광학 시스템내의 비임 스플리터, 광학 가변 확대방법 및 그의 시스템 (BEAMSPLITTER IN SINGLE FOLD OPTICAL SYSTEM AND OPTICAL VARIABLE MAGNIFICATION METHOD AND SYSTEM)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제5도는 x 및 y 방향으로 배율을 개별적으로 조정하기 위하여 본 발명의 두개 유리 박판을 합체하는 원격 중심 1 : 1 배율 위네 다이슨형 광학 스테퍼 주사 시스템의 개갹도이다.

Claims (28)

  1. 광학 시스템이 물체와 이미지 평면 사이의 광로를 한정함과 함께 투영된 이미지가 상기 물체에 비교되는 소정 배율을 갖도록 물체 평면에 있는 조명된 물체로부터 이미지 평면으로 이미지 비임을 투영하기 위한 광학 시스템에 있어서, 상기 이미지 평면 상에 그의 이미지를 생성할 수 있도록 상기 물체로부터 조명을 수용하기 위하여 배치된 상기 광로 내에 장착되고 고정 배율을 갖는 렌즈 시스템과, 관통하는 상기 이미지 비임에 제1가변 배율을 적용시키기 위하여 배치된 상기 렌즈 시스템과 광학적으로 비교되는 소정 두께 및 재료의 제1플레이트와, 상기 제1플레이트를 선택적으로 만곡시키도록 상기 제1플레이트와 연통하여서 상기 제1플레이트의 변형 정도에 비례하여 상기 제1가변 배율을 야기시키는 제1액츄에이터로 구성되고, 상기 제1플레이트의 한 지점은 상기 광로에 상기 제1플레이틀를 제한시키도록 고정 장착되며, 상기 제1플레이트의 상기 제1가변 배율은 상기 제1플레이트가 만곡되는 축에 수직 방향으로 상기 선택 배율을 상기 투영 이미지 내에서 양 또는 음으로 변환시키며, 상기 제1투영 이미지는 상기 선택된 배율을 상기 이미지 배율에 적용시킴으로써 상기 렌즈 시스템과 상기 제1플레이트의 조합으로 제조되고, 상기 렌즈 시스템의 상기 고정 배율 및 상기 제1플레이트의 상기 제1가변 배율의 생성은 상기 선택된 배율과 동일한 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 관통하는 상기 이미지 비임에 제2가변 배율을 적용시키기 위하여 배치된 상기 렌즈 시스템과 광학적으로 비교되는 소정 두께 및 재료의 제2플레이트와, 상기 제2플레이트를 선택적으로 만곡시키도록 상기 제2플레이트와 연통하여서 상기 제2플레이트의 변형 정도에 비례하여 상기 제2가변 배율을 야기시키는 제2액츄에이터를 더 포함하고, 상기 제2플레이트의 한 지점은 상기 광로에 상기 제2플레이트를 제한시키도록 고정 장착되며, 상기 제2플레이트의 상기 제2가변 배율은 상기 제2플레이트가 만곡되는 축에 수직 방향으로 상기 선택 배율을 상기 투영 이미지 내에서 양 또는 음으로 변환시키며, 상기 선택된 배율은 상기 렌즈 시스템의 상기 고정 배율의 누적 효과의 결과이고 상기 제1 및 제2선택 배율을 갖는 각각의 상기 제1 및 제2평판은 각각의 상기 제1 및 제2플레이트가 만곡되는 축에 수직으로 대응하는 각각의 방향으로 독립적인 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  3. 제2항에 있어서, 각각의 상기 제1 및 제2플레이트는 각자가 상기 이미지 평면에 투영될 때 각각의 플레이트가 서로에 대하여 수직으로 배향 만곡되는 상기 축에 독립적으로 장착되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  4. 제1항에 있어서, 상기 투영 이미지는 상기 물체에 비유되는 선택된 비대칭 비틀림을 갖고 상기 렌즈 시스템은 고정 비대칭 비틀림을 가지며, 상기 광학 시스템은 관통하는 상기 이미지 비임에 제1가변 비대칭 비틀림을 적용시키기 위하여 배치된 상기 렌즈 시스템과 광학적으로 비교되는 소정 두께 및 재료의 제2플레이트와, 상기 제2플레이트를 선택적으로 비틀리도록 상기 제2플레이트와 연통하여서 상기 제2플레이트의 변형 정도에 비례하여 상기 제2비대칭 비틀림을 야기시키는 제2액츄에이터를 더 포함하고, 상기 제2플레이트의 한 지점은 상기 광로에 상기 제2플레이트를 제한시키도록 고정 장착되며, 상기 제2플레이트의 상기 제1가변 비대칭 비틀림은 상기 투영 이미지의 배율이 상기 제2플레이트가 비틀리는 축에 평행 및 수직 방향으로 변하지 않는 양식으로 상기 선택된 비대칭 비틀림을 변경시키고, 상기 투영 이미지의 배율은 평행 및 수직 방향에 대하여 두개 대각선으로 대향된 사분면에서 증가하고 상기 제2플레이트의 비틀림 정도에 비례하는 다른 두개 대각선으로 대향된 사분면에서 감소하며, 상기 투영된 이미지는 상기 선택된 비대칭 비틀림을 상기 이미지 비임에 적용시킴으로써 상기 렌즈 시스템 및 상기 제2플레이트의 조합으로 제작되고, 상기 비대칭 비틀림은 상기 렌즈 시스템의 상기 고정 비틀림과 상기 제2플레이트의 상기 선택된 비대칭 비틀림의 합인 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  5. 제4항에 있어서, 각각의 상기 제1 및 제2플레이트는 독립적으로 장착되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  6. 제1항에 있어서, 상기 렌즈 시스템은, 평면 및 볼록면을 갖는 피아노 렌즈와, 오목면 및 볼록면을 구비하고 상기 피아노 렌즈의 상기 볼록면은 상기 오목면과 병렬 상태인 메니스커스 렌즈와, 상기 메니스커스 렌즈의 상기 볼록면으로부터 이격된 오목 구형 거울과, 제1. 제2 및 제3플랫 표면을 갖고 상기 물체로부터 상기 이미지 비임을 수용하기 위하여 상기 제1플랫 표면은 상기 파아노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와, 병렬 상태이고, 상기 제2플랫 표면은 상기 물체 표면에 인접하며, 상기 이미지 비임은 상기 제3플랫 표면으로부터 반사에 의하여 상기 제1 및 제2플랫 표면 사이에 전송되는 제1폴드 프리즘과, 제4, 제5 및 제6플랫 표면을 갖고 상기 물체로부터 상기 이미지 비임을 수용하기 위하여 상기 제4플랫 표면은 상기 피아노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 병렬 상태이고, 상기 제5플랫 표면은 상기 물체 표면에 인접하며, 상기 이미지 비임은 상기 제6플랫 표면으로부터 반사에 의하여 상기 제4 및 제5플랫 표면 사이에 전송되는 제2폴드 프리즘으로 구성되는 위네 다이슨형 광학 주사 시스템이고, 상기 제1플레이트는 상기 물체 평면과 상기 제1폴드 프리즘의 상기 제2플랫 표면 사이 및 상기 이미지 평면과 상기 제2폴드 프리즘의 상기 제5플랫면 사이 중 하나에 위치되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  7. 제2항에 있어서, 상기 렌즈 시스템은, 평면 및 볼록면을 갖는 피아노 렌즈와, 오목면 및 볼록면을 구비하고 상기 피아노 렌즈와, 오목면 및 볼록면을 구비하고 상기 피아노 렌즈의 상기 볼록면은 상기 오목면과 병렬 상태인 메니스커스 렌즈와, 상기 메니스커스 렌즈의 상기 볼록면으로부터 이격된 오목 구형 거울과, 제1. 제2및 제3플랫 표면을 갖고 상기 물체로부터 상기 물체로부터 상기 이미지 비임을 수용하기 위하여 상기 제1플랫 표면은 상기 피아노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 병렬 상태이고, 상기 제2플랫 표면은 상기 물체 표면에 인접하며, 상기 이미지 비임은 상기 제3플랫 표면으로부터 반사에 의하여 상기 제1및 제2플랫 표면 사이에 전송되는 제1폴드 프리즘과, 제4, 제5 및 제6플랫 표면을 갖고 상기 물체로부터 상기 이미지 비임을 수용하기 위하여 상기 제4플랫 표면은 상기 피아노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 병렬 상태이고, 상기 제5플랫 표면은 상기 물체 표면에 인접하며, 상기 이미지 비임은 상기 제6플랫 표면으로부터 반사에 의하여 상기 제4 및 제5플랫 표면 사이에 전송되는 제2폴드 프리즘으로 구성되는 위네 다이슨형 광학 주사 시스템이고, 상기 제1플레이트는 상기 물체 평면과 상기 제1폴드 프리즘의 상기 제2플랫 표면 사이에 위치되고, 상기 제2플레이트는 상기 이미지 평면과 상기 제2폴드 프리즘의 상기 제5플랫면 사이 중 하나에 위치되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  8. 제7항에 있어서, 상기 투영된 이미지는 상기 렌즈 시스템과 상기 제1 및 제2플레이트의 조합을 관통하는 상기 이미지 비임의 결과로서 형성되고, 상기 제1플레이트의 상기 제1가변 배율은 상기 제1플레이트가 만곡되는 축에 수직 방향으로 상기 투영된 이미지 내에서 양 또는 음으로 상기 선택된 배율을 변경시키고, 상기 선택된 배율은 상기 렌즈 시스템과 각각의 상기 제1 및 제2플레이트의 상기 고정 배율의 누적 효과의 결과이고 상기 제1 및 제2액츄에이터는 상기 제1 및 제2플레이트의 만곡을 허용한 후 상기 제1 및 제2선택 배율의 변경이 각각이 상기 제1 및 제2플레이트가 만곡되는 축에 수직 대응하는 방향으로 독립적인 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  9. 제8항에 있어서, 각각의 상기 제1 및 제2플레이트는 각자가 상기 이미지 평면에 투영될 때 각각의 플레이트가 서로에 대하여 수직으로 배향 만곡되는 상기 축에 독립적으로 장착되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  10. 제4항에 있어서, 상기 렌즈 시스템은, 평면 및 볼록면을 갖는 피아노 렌즈와, 오목면 및 볼록면을 구비하고 상기 피아노 렌즈의 상기 볼록면은 상기 오목면과 병렬 상태인 메니스커스 렌즈와, 상기 메니스커스 렌즈의 상기 볼록면으로부터 이격된 오목 구형 거울과, 제1, 제2 및 제3플랫 표면을 갖고 상기 물체로부터 상기 이미지 비임을 수용하기 위하여 상기 제1플랫 표면은 상기 피아노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 병렬 상태이고, 상기 제2플랫 표면은 상기 물체 표면에 인접하며, 상기 이미지 비임은 상기 제3플랫 표면으로부터 반사에 의하여 상기 제1 및 제2플랫 표면 사이에 전송되는 제1폴드 프리즘과, 제4, 제5 및 제6플랫 표면을 갖고 상기 물체로부터 상기 이미지 비임을 수용하기 위하여 상기 제4플랫 표면은 상기 피아노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 병렬 상태이고, 상기 제5플랫 표면은 상기 물체 표면에 인접하며, 상기 이미지 비임은 상기 제6플랫 표면으로부터 반사에 의하여 상기 제4 및 제5플랫 표면 사이에 전송되는 제2폴드 프리즘으로 구성되는 위네 다이슨형 광학 주사 시스템이고, 상기 제1 및 제2플레이트 중 하나는 상기 물체 평면과 상기 제1폴드 프리즘의 상기 제2플랫 표면 사이에 위치되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  11. 제1항에 있어서, 상기 렌즈 시스템은, 평면 및 볼록면을 갖는 피아노 렌즈와, 오목면 및 볼록면을 구비하고 상기 피아노 렌즈의 상기 볼록면은 상기 오목면과 병렬 상태인 메니스커스 렌즈와, 상기 메니스커스 렌즈의 상기 볼록면으로부터 이격된 오목 구형 거울과, 서로에 대하여 실질적으로 평행한 제1 및 제2플랫 표면을 갖고 상기 제1플랫 표면은 상기 피아노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 병렬 상태이고 상기 제2플랫 표면은 물체로부터 상기 이미지 비임을 수용하기 위하여 상기 물체평면에 인접하며, 상기 이미지 비임은 상기 제1 및 제2플랫 표면들 사이에 직접 전송되는 광학 블록과, 제1, 제2 및 제3플랫 표면을 갖고 상기 물체로부터 상기 이미지 비임을 수용하기 위하여 상기 제1플랫 표면은 상기 피아노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 병렬 상태이고, 상기 제2플랫 표면은 상기 제3플랫 표면으로부터 반사에 의하여 상기 제1 및 제2플랫 표면 사이에 전송되는 상기 이미지 비임으로부터 물체의 상기 투영된 이미지를 수용하기 위하여 상기 이미지 플랜에 인접하는 폴드 프리즘으로 구성되는 위네 다이슨형 광학 주사 시스템이고, 상기 제1플레이트는 상기 물체 평면 및 상기 광학 블록의 상기 제2플랫 표면 사이와 상기 이미지 평면 및 상기 폴드 프리즘의 상기 제2플랫 평면 사이 중 하나에 위치되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  12. 제2항에 있어서, 상기 렌즈 시스템은, 평면 및 볼록면을 갖는 피아노 렌즈와, 오목면 및 볼록면을 구비하고 상기 피아노 렌즈의 상기 볼록면은 상기 오목면과 병렬 상태인 메니스커스 렌즈와, 상기 메니스커스 렌즈의 상기 볼록면으로부터 이격된 오목 구형 거울과, 서로에 대하여 실질적으로 평행한 제1 및 제2플랫 표면을 갖고 상기 제1플랫 표면은 상기 피아노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 병렬 상태이고 상기 제2플랫 표면은 물체로부터 상기 이미지 비임을 수용하기 위하여 상기 물체평면에 인접하며, 상기 이미지 비임은 상기 제1 및 제2플랫 표면들 사이에 직접 전송되는 광학 블록과, 제1, 제2 및 제3플랫 표면을 갖고 상기 물체로부터 상기 이미지 비임을 수용하기 위하여 상기 제1플랫 표면은 상기 피아노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 병렬 상태이고, 상기 제2플랫 표면은 상기 제3플랫 표면으로부터 반사에 의하여 상기 제1 및 제2플랫 표면 사이에 전송되는 상기 이미지 비임으로부터 물체의 상기 투영된 이미지를 수용하기 위하여 상기 이미지 플랜에 인접하는 폴드 프리즘으로 구성되는 위네 다이슨형 광학 주사 시스템이고, 상기 제1플레이트는 상기 물체 평면 및 상기 광학 블록의 상기 제2플랫 표면 사이에 위치되고, 상기 제2플레이트는 상기 이미지 평면 및 상기 폴드 프리즘의 상기 제2플랫 평면 사이 중 하나에 위치되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  13. 제4항에 있어서, 상기 렌즈 시스템은, 평면 및 볼록면을 갖는 피아노 렌즈와, 오목면 및 볼록면을 구비하고 상기 피아노 렌즈의 상기 볼록면은 상기 오목면과 병렬 상태인 메니스커스 렌즈와, 상기 메니스커스 렌즈의 상기 볼록면으로부터 이격된 오목 구형 거울과, 서로에 대하여 실질적으로 평행한 제1 및 제2플랫 표면을 갖고 상기 제1플랫 표면은 상기 피아노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 병렬 상태이고 상기 제2플랫 표면은 물체로부터 상기 이미지 비임을 수용하기 위하여 상기 물체평면에 인접하며, 상기 이미지 비임은 상기 제1 및 제2플랫 표면들 사이에 직접 전송되는 광학 블록과, 제1, 제2 및 제3플랫 표면을 갖고 상기 물체로부터 상기 이미지 비임을 수용하기 위하여 상기 제1플랫 표면은 상기 피아노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 병렬 상태이고, 상기 제2플랫 표면은 상기 제3플랫 표면으로부터 반사에 의하여 상기 제1 및 제2플랫 표면 사이에 전송되는 상기 이미지 비임으로부터 물체의 상기 투영된 이미지를 수용하기 위하여 상기 이미지 플랜에 인접하는 폴드 프리즘으로 구성되는 위네 다이슨형 광학 주사 시스템이고, 상기 제1플레이트는 상기 물체 평면 및 상기 광학 블록의 상기 제2플랫 표면 사이에 위치되고, 상기 제2플레이트는 상기 이미지 평면 및 상기 폴드 프리즘의 상기 제2플랫 평면 사이 중 하나에 위치되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  14. 광학 시스템이 물체와 이미지 평면 사이의 광로를 한정함과 함께 투영된 이미지가 상기 물체에 비교되는 소정 선택된 비대칭 비틀림을 갖도록 물체 평면에 있는 조영된 물체로부터 이미지 평면으로 이미지 비임을 투영하기 위한 광학 시스템에 있어서, 상기 이미지 평면 상에 그의 이미지를 생성할 수 있도록 상기 물체로부터 조명을 수용하기 위하여 배치된 상기 광로 내에 장착된 고정 비대칭 비틀림을 갖는 렌즈 시스템과, 관통하는 상기 이미지 비임에 제1가변 선택된 비대칭 비틀림을 적용시키기 위하여 배치된 상기 렌즈 시스템과 광학적으로 비교되는 소정 두께 및 재료의 제1플레이트와, 상기 제1플레이트를 선택적으로 비틀리도록 상기 제1플레이트와 연통하여서 상기 제1플레이트의 변형 정도에 비례하여 상기 제1가변 비대칭 비틀림을 야기시키는 제1액츄에이터로 구성되고, 상기 제1플레이트의 한 지점은 상기 광로에 상기 제1플레이트를 제한시키도록 고정 장착되며, 상기 제1플레이트의 상기 제1가변 비대칭 비틀림은 상기 투영 이미지의 배율이 상기 제1플레이트가 비틀리는 축에 평행 및 수직 방향으로 변하지 않는 양식으로 상기 선택된 비대칭 비틀림을 변경시키고, 상기 투영 이미지의 배율은 평행 및 수직 방향에 대하여 두개 대각선으로 대향된 사분면에서 증가하고 상기 제1플레이트의 비틀림 정도에 비례하는 다른 두개 대각선으로 대향된 사분면에서 감소하며, 상기 제1투영된 이미지는 상기 선택된 비대칭 비틀림을 상기 이미지 비임에 적용시킴으로써 상기 렌즈 시스템 및 상기 제1플레이트의 조합으로 제작되고, 상기 비대칭 비틀림은 상기 렌즈 시스템의 상기 고정 비틀림과 상기 제1플레이트의 상기 선택된 비대칭 비틀림의 합인 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  15. 제14항에 있어서, 제1항에 있어서, 관통하는 상기 이미지 비임에 제2가변 비대칭 비틀림을 적용시키기 위하여 배치된 상기 렌즈 시스템과 광학적으로 비교되는 소정 두께 및 재료의 제2플레이트와, 상기 제2플레이트를 선택적으로 만곡시키도록 상기 제2플레이트와 연통하여서 상기 제2플레이트의 변형 정도에 비례하여 상기 제2가변 비대칭 비틀림을 야기시키는 제2액츄에이터를 더 포함하고, 상기 제2플레이트의 한 지점은 상기 광로에 상기 제2플레이트를 제한시키도록 고정 장착되며, 상기 제2플레이트의 상기 제2가변 비대칭 비틀림은 상기 투영 이미지의 배율이 상기 제2플레이트가 비틀리는 축에 평행 및 수직 방향으로 변하지 않는 양식으로 상기 선택된 비대칭 비틀림을 변경시키고, 상기 투영 이미지의 배율은 평행 및 수직 방향에 대하여 두개 대각선으로 대향된 사분면에서 증가하고 상기 제2플레이트의 비틀림 정도에 비례하는 다른 두개 대각선으로 대향된 사분면에서 감소하며, 상기 투영된 이미지는 상기 선택된 비대칭 비틀림을 상기 이미지 비임에 적용시킴으로써 상기 렌즈 시스템 및 상기 제2플레이트의 조합으로 제작되고, 상기 비대칭 비틀림은 상기 렌즈 시스템의 상기 고정 비틀림과 상기 제2플레이트의 상기 선택된 비대칭 비틀림의 합인 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  16. 제15항에 있어서, 각각의 상기 제1 및 제2플레이트는 각자가 상기 이미지 평면에 투영될 때 각각의 플레이트가 서로에 대하여 수직으로 배향 만곡되는 상기 축에 독립적으로 장착되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  17. 제14항에 있어서, 상기 렌즈 시스템은, 평면 및 볼록면을 갖는 피아노 렌즈와, 오목면 및 볼록면을 구비하고 상기 피아노 렌즈의 상기 볼록면은 상기 오목면과 병렬 상태인 메니스커스 렌즈와, 상기 메니스커스 렌즈의 상기 볼록면으로부터 이격된 오목 구형 거울과, 제1, 제2 및 제3플랫 표면을 갖고 상기 물체로부터 상기 이미지 비임을 수용하기 위하여 상기 제1플랫 표면은 상기 피아노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 병렬 상태이고, 상기 제2플랫 표면은 상기 물체 표면에 인접하며, 상기 이미지 비임은 상기 제3플랫 표면으로부터 반사에 의하여 상기 제1 및 제2플랫 표면 사이에 전송되는 제1폴드 프리즘과, 제4, 제5 및 제6플랫 표면을 갖고 상기 물체로부터 상기 이미지 비임을 수용하기 위하여 상기 제4플랫 표면은 상기 피아노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 병렬 상태이고, 상기 제5플랫 표면은 상기 물체 표면에 인접하며, 상기 이미지 비임은 상기 제6플랫 표면으로부터 반사에 의하여 상기 제4 및 제5플랫 표면 사이에 전송되는 제2폴드 프리즘으로 구성되는 위네 다이슨형 광학 주사 시스템이고, 상기 제1플레이트는 상기 물체 평면과 상기 제1폴드 프리즘의 상기 제2플랫 표면 사이 및 상기 이미지 평면과 상기 제2폴드 프리즘의 상기 제5플랫면 사이 중 하나에 위치되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  18. 제15항에 있어서, 상기 렌즈 시스템은, 평면 및 볼록면을 갖는 피아노 렌즈와, 오목면 및 볼록면을 구비하고 상기 피아노 렌즈의 상기 볼록면은 상기 오목면과 병렬 상태인 메니스커스 렌즈와, 상기 메니스커스 렌즈의 상기 볼록면으로부터 이격된 오목 구형 거울과, 제1, 제2 및 제3플랫 표면을 갖고 상기 물체로부터 상기 이미지 비임을 수용하기 위하여 상기 제1플랫 표면은 상기 피아노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 병렬 상태이고, 상기 제2플랫 표면은 상기 물체 표면에 인접하며, 상기 이미지 비임은 상기 제3플랫 표면으로부터 반사에 의하여 상기 제1 및 제2플랫 표면 사이에 전송되는 제1폴드 프리즘과, 제4, 제5 및 제6플랫 표면을 갖고 상기 물체로부터 상기 이미지 비임을 수용하기 위하여 상기 제4플랫 표면은 상기 피아노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 병렬 상태이고, 상기 제5플랫 표면은 상기 물체 표면에 인접하며, 상기 이미지 비임은 상기 제6플랫 표면으로부터 반사에 의하여 상기 제4 및 제5플랫 표면 사이에 전송되는 제2폴드 프리즘으로 구성되는 위네 다이슨형 광학 주사 시스템이고, 상기 제1플레이트는 상기 물체 평면과 상기 제1폴드 프리즘의 상기 제2플랫 표면 사이에 위치되고, 상기 제2플레이트는 상기 이미지 평면과 상기 제2폴드 프리즘의 상기 제5플랫면 사이 중 하나에 위치되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  19. 제14항에 있어서, 상기 렌즈 시스템은, 평면 및 볼록면을 갖는 피아노 렌즈와, 오목면 및 볼록면을 구비하고 상기 피아노 렌즈의 상기 볼록면은 상기 오목면과 병렬 상태인 메니스커스 렌즈와, 상기 메니스커스 렌즈의 상기 볼록면으로부터 이격된 오목 구형 거울과, 서로에 대하여 실질적으로 평행한 제1 및 제2플랫 표면을 갖고 상기 제1플랫 표면은 상기 피아노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 병렬 상태이고 상기 제2플랫 표면은 물체로부터 상기 이미지 비임을 수용하기 위하여 상기 물체평면에 인접하며, 상기 이미지 비임은 상기 제1 및 제2플랫 표면들 사이에 직접 전송되는 광학 블록과, 제1, 제2 및 제3플랫 표면을 갖고 상기 물체로부터 상기 이미지 비임을 수용하기 위하여 상기 제1플랫 표면은 상기 피아노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 병렬 상태이고, 상기 제2플랫 표면은 상기 제3플랫 표면으로부터 반사에 의하여 상기 제1 및 제2플랫 표면 사이에 전송되는 상기 이미지 비임으로부터 물체의 상기 투영된 이미지를 수용하기 위하여 상기 이미지 플랜에 인접하는 폴드 프리즘으로 구성되는 위네 다이슨형 광학 주사 시스템이고, 상기 제1플레이트는 상기 물체 평면 및 상기 광학 블록의 상기 제2플랫 표면 사이와 상기 이미지 평면 및 상기 폴드 프리즘의 상기 제2플랫 평면 사이중 하나에 위치되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  20. 제15항에 있어서, 상기 렌즈 시스템은, 평면 및 볼록면을 갖는 피아노 렌즈와, 오목면 및 볼록면을 구비하고 상기 피아노 렌즈의 상기 볼록면은 상기 오목면과 병렬 상태인 메니스커스 렌즈와, 상기 메니스커스 렌즈의 상기 볼록면으로부터 이격된 오목 구형 거울과, 서로에 대하여 실질적으로 평행한 제1 및 제2플랫 표면을 갖고 상기 제1플랫 표면은 상기 피아노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 병렬 상태이고 상기 제2플랫 표면은 물체로부터 상기 이미지 비임을 수용하기 위하여 상기 물체평면에 인접하며, 상기 이미지 비임은 상기 제1 및 제2플랫 표면들 사이에 직접 전송되는 광학 블록과, 제1, 제2 및 제3플랫 표면을 갖고 상기 물체로부터 상기 이미지 비임을 수용하기 위하여 상기 제1플랫 표면은 상기 피아노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 병렬 상태이고, 상기 제2플랫 표면은 상기 제3플랫 표면으로부터 반사에 의하여 상기 제1 및 제2플랫 표면 사이에 전송되는 상기 이미지 비임으로부터 물체의 상기 투영된 이미지를 수용하기 위하여 상기 이미지 플랜에 인접하는 폴드 프리즘으로 구성되는 위네 다이슨형 광학 주사 시스템이고, 상기 제1플레이트는 상기 물체 평면 및 상기 광학 블록의 상기 제2플랫 표면 사이에 위치되고, 상기 제2플레이트는 상기 이미지 평면 및 상기 폴드 프리즘의 상기 제2플랫 평면 사이 중 하나에 위치되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  21. 광학 시스템이 물체와 이미지 평면 사이의 광로를 한정하고 투영된 이미지가 상기 물체에 비교되는 소정 배율 및 비대칭 비틀림을 갖도록 물체 평면에 있는 조명된 물체로부터 이미지 평면으로 이미지 비임을 투영하기 위한 광학 시스템에 있어서, 상기 이미지 평면 상에 그의 이미지를 생성할 수 있도록 상기 물체로부터 조명을 수용하기 위하여 배치된 상기 광로 내에 장착되고 고정 배율 및 비대칭 비틀림을 갖는 렌즈 시스템과, 상기 광로 내 상기 렌즈 시스템에 대한 제1, 제2 및 제3고정 지점들과, 두개 평행 대향 에지들을 한정하는 평행한 상면 및 하면을 구비하고, 관통하는 상기 이미지 비임에 제1가변 배율 및 제1가변 비대칭 비틀림을 적용시키기 위하여 배치된 상기 렌즈 시스템과 광학적으로 비교되는 소정 두께 및 재료의 제1플레이트와, 상기 제1플레이트를 선택적으로 만곡시키고 비틀리도록 상기 제1플레이트와 연통하여서 상기 제1플레이트의 변형 정도 및 형태에 비례하여 상기 제1가변 배율 및 상기 제1가변 비대칭 비틀림을 야기시키는 제1액츄에이터로 구성되고, 상기 제1액츄에이터는, 대향 단부에 있는 두개의 단부 및 그 사이의 회전축을 한정하고 상기 제1플레이트의 상기 두개의 평행 대향 에지들 중 하나에 결합되고 이를 따라서 연장하며, 상기 두개의 단부들은 상기 회전축에 평행한 만곡 축을 따라서 상기 제1플레이트의 만곡을 허용하도록 상기 제1 및 제2고정 지점들 사이에 각각 선회 제한되는 선택된 축길이의 제1스티프 리브와, 상기 제1플레이트 및 제1스티프 리브의 종방향 축으로부터 멀리 연장하는 상기 제1스티프 리브에 고정된 제1레버 아암과, 상기 제1플레이트의 상기 두개의 평행 대향 에지들 중 제2에지에 결합되고 이를 따라서 연장하며, 상기 회전축에 수직인 축을 따라서 상기 제1플레이트의 비틀림을 허용하도록 그의 상기 축 길이에 수직인 상기 제3고정 지점들 사이에 각각 선회 제한되는 제2스티프 리브와, 상기 제1플레이트의 상기 두개의 평행 대향 에지에 평행 방향으로 상기 제2플레이트로부터 멀리 연장하는 상기 제2스티프 리브에 고정된 제2레버 아암과, 상기 제1 및 제2고정 지점들 사이에 상기 제1스티프 리브의 상기 종방향 축 주위에 회전을 선택적으로 야기시키도록 상기 제1레버 아암에 결합되고 상기 제1플레이트는 필요하다면 그에 응답하여 상기 제3고정 지점 주위에 회전하는 제1콘트롤러와, 상기 제3고정 지점 주위에 회전을 선택적으로 야기시키도록 상기 제2레버 아암에 결합되고 상기 제1플레이트는 필요하다면 그에 응답하여 상기 제1 및 제2고정 지점들 주위에 회전하는 제2콘트롤러로 이루어지며, 상기 제1플레이트의 상기 선택 만곡 및 비틀림은 상기 투영 이미지 내에서 양 또는 음으로 상기 제1플레이트의 제1배율 및 제1비대칭 비틀림을 변환시키고 상기 제1투영 이미지 내 배율 및 비대칭 비틀림은 상기 렌즈 시스템의 제1배율 및 비대칭 이미지와 상기 제1플레이트의 상기 선택된 제1배율 및 제1비대칭 비틀림의 조합인 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  22. 제21항에 있어서, 상기 광로 내 상기 렌즈 시스템에 대한 제4, 제5 및 제6고정 지점들과, 두개 평행 대향 에지들을 한정하는 평행한 상면 및 하면을 구비하고, 상기 제2플레이트는 상기 렌즈 시스템과 광학적으로 비교되고 관통하는 상기 이미지 비임에 제2가변 배율 및 제2가변 비대칭 비틀림 중 하나를 적용시키기 위하여 배치되며 상기 제2플레이트는 광학 시스템의 광축에 수직인 소정 두께 및 재료의 제2플레이트와, 상기 제2플레이트를 선택적으로 만곡시키고 비틀리도록 상기 제2플레이트와 연통하여서 상기 제2플레이트의 변형 정도 및 형태에 비례하여 상기 제2가변 배율 및 상기 제2가변 비대칭 비틀림을 야기시키는 제2액츄에이터를 더 포함하고, 상기 제2액츄에이터는, 대향 단부에 있는 두개의 단부 및 그 사이의 회전축을 한정하고 상기 제2플레이트의 상기 두개의 평행 대향 에지들 중 하나에 결합되고 이를 따라서 연장하며, 상기 제2스티프 리브의 상기 두개의 단부들은 상기 제3스티프 리브의 상기 회전축에 평행한 만곡 축을 따라서 상기 제2플레이트의 만곡을 허용하도록 상기 제4 및 제5고정 지점들 사이에 각각 선회 제한되는 선택된 축길이의 제3스티프 리브와, 상기 제2플레이트 및 제3스티프 리브의 종방향 축으로부터 멀리 연장하는 상기 제3스티프 리브에 고정된 제3레버 아암과, 상기 제2플레이트의 상기 두개의 평행 대향 에지들 중 제2에지에 결합되고 이를 따라서 연장하며, 상기 제3스티프 리브의 상기 회전축에 수직인 축을 따라서 상기 제2플레이트의 비틀림을 허용하도록 그의 상기 축 길이에 수직인 상기 제6고정 지점들 사이에 각각 선회 제한되는 제4스티프 리브와, 상기 제2플레이트의 상기 두개의 평행 대향 에지에 평행 방향으로 상기 제2플레이트로부터 멀리 연장하는 상기 제3스티프 리브에 고정된 제3레버 아암과, 상기 제4 및 제5고정 지점들 사이에 상기 제3스티프 리브의 상기 종방향 축 주위에 회전을 선택적으로 야기시키도록 상기 제3레버 아암에 결합되고 상기 제2플레이트는 필요하다면 그에 응답하여 상기 제6고정 지점 주위에 회전하는 제3콘트롤러와, 상기 제6고정 지점 주위에 상기 제4스티프 리브의 회전을 선택적으로 야기시키도록 상기 제4레버 아암에 결합되고 상기 제2플레이트는 필요하다면 그에 응답하여 상기 제4 및 제5고정 지점들 주위에 회전하는 제4콘트롤러로 이루어지며, 상기 제2플레이트의 상기 선택 만곡 및 비틀림은 상기 투영 이미지 내에서 양 또는 음으로 상기 제2플레이트의 배율 및 비대칭 비틀림을 변환시키고 상기 투영 이미지 내 배율 및 비대칭 비틀림은 상기 렌즈 시스템의 고정된 배율 및 비대칭 이미지와 상기 제1플레이트의 상기 선택된 제1배율 및 제1비대칭 비틀림과 상기 제2플레이트의 상기 선택된 제2배율 및 제2비대칭 비틀림의 조합인 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  23. 제22항에 있어서, 각각의 상기 제1 및 제2플레이트는 각자가 상기 이미지 평면에 투영될 때 각각의 플레이트가 서로에 대하여 수직으로 배향 만곡되는 상기 축에 독립적으로 장착되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  24. 물체 평면에 있는 조명된 물체로부터 이미지 비임을 투영된 이미지로서 기판상에 이미지 평면으로 투영시키고, 상기 투영된 이미지는 상기 물체와 비교하여 1 : 1 배율을 갖고, 상기 광학 시스템은 상기 물체와 이미지 평면들 사이의 광로를 한정하고 상기 이미지 평면에 있는 상기 기판은 그의 예비 성형된 패턴을 갖는 위네 다이슨형 광학 시스템에 있어서, 평면 및 볼록면을 갖는 피아노 렌즈와, 오목면 및 볼록면을 구비하고 상기 피아노 렌즈의 상기 볼록면은 상기 오목면과 병렬 상태인 메니스커스 렌즈와, 상기 메니스커스 렌즈의 상기 볼록면으로부터 이격된 오목 구형 거울과, 서로에 대하여 실질적으로 평행한 제1 및 제2플랫 표면을 갖고 상기 제1플랫 표면은 상기 피아노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 병렬 상태이고 상기 제2플랫 표면은 물체로부터 상기 이미지 비임을 수용하기 위하여 상기 물체 평면에 인접하며, 상기 이미지 비임은 상기 제1 및 제2플랫 표면들 사이에 직접 전송되는 고아학 블록과, 제1 및 제2플랫 표면을 갖고 상기 물체로부터 상기 이미지 비임을 수용하기 위하여 상기 제1플랫 표면은 상기 피아노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 병렬 상태이고, 상기 제2플랫 표면은 제3표면으로부터 반상에 의해서 상기 제1 및 제2플랫 표면 사이의 전송된 이미지로부터 물체의 상기 투영된 이미지를 수용하기 위하여 상기 이미지 평면에 인접하는 폴드 프리즘으로 구성되는 것을 특징으로 하는 위네 다이슨형 광학 시스템.
  25. 제24항에 있어서, 상기 광학 블록은 상기 제1 및 제2플랫 표면과 이들 사이에 연장하는 제3플랫 표면들 사이에 대각선으로 연장하는 비임 스플리팅 표면을 포함하고 상기 광학 블록의 상기 제1 및 제2플랫 표면의 각각의 에지를 한정하며, 상기 비임 스플리팅 표면은 노출 조명에 최소 감쇠를 제공하고 상기 광학 블록의 상기 제3플랫 표면에 그의 입사광의 선택된 일부를 반사시키도록 선택된 이색성 코팅을 갖고, 상기 광학 블록의 상기 제3표면에 반사된 상기 빛은 정렬용으로 사용된 스펙트럼의 선택된 일부의 빛을 포함하는 것을 특징으로 하는 위네 다이슨형 광학 시스템.
  26. 제25항에 있어서, 상기 시스템의 사용자가 상기 비임 스플리팅 표면으로부터 그곳에 반사된 빛에 의해서 형성된 이미지를 관찰할 수 있도록 상기 광학 블록의 상기 제3플랫 표면에 인접한 현미경을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 위네 다이슨형 광학 시스템.
  27. 제26항에 있어서, 상기 광학 시스템을 통하여 그곳으로부터 뒤로 반사된 빛을 관찰함으로써 상기 이미지 평면에 위치된 상기 기판 상의 상기 예비 성형된 패턴을 사용자가 관찰할 수 있도록 허용하기 위하여 상기 비임 스플리팅 표면에 의해서 반사되어 상기 이미지 평면에 전송된 상기 제3플랫 표면을 통하여 빛을 투사시키기 위해서 상기 광학 블록의 상기 제3플랫 표면의 인접한 광원을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 위네 다이슨형 광학 시스템.
  28. 제26항에 있어서, 상기 현미경은 상기 광학 블록의 상기 제2플랫 표면에 인접한 상기 물체로부터 조명이 그로부터 반사된 광에 의하여 상기 이미지 평면으로 전송될 때 상기 투영된 이미지와 상기 이미지 평면에 있는 상기 예비 성형된 패턴의 중첩을 관찰하기 위하여 사용될 수 있는 것을 특징으로 하는 위네 다이슨형 광학 시스템.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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