KR100356552B1 - 단일폴드광학시스템내의빔스플릿터및광학적가변배율방법과시스템 - Google Patents

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Abstract

선택된 확대 배율로 적층된 물체로부터 이미지 플레임 (4) 까지 이미지를 투영하는 광학 시스템 (도 4). 이 시스템은 고정된 확대 배율, 및 렌즈 시스템과 광학적으로 양립가능하고, 그리고, 원통 형상으로 구부러질 때, 이미지의 축을 따라 렌즈 시스템의 고정된 확대 배율이 변하는 하나 이상의 평평한 플레이트 (28) 을 갖는 렌즈 시스템 (6') 을 포함한다. 이 가변 확대 기술은 Wynne Dyson 광학 투영 시스템을 포함하는 모든 렌즈 시스템 유형들에 이용가능하다. 또한, 통상의 폴드 프리즘 (10) 대신에 Wynne Dyson 광학 투영 시스템이 설명된다. 광학 블록 (32) 은 십자선 (2) 로부터 전달된 열에 의해 야기된 왜곡의 변화들을 감소시킨다. 블록은, 노출 조도를 최소한으로 감소시키는 광학 블록을 통해 대각선으로 이색성 빔 스플리터 (34) 의 포함으로 가능하게 한다.

Description

단일 폴드 광학 시스템내의 빔 스플릿터 및 광학적 가변배율 방법과 시스템{BEAMSPLITTER IN SINGLE FOLD OPTICAL SYSTEM AND OPTICAL VARIABLE MAGNIFICATION METHOD AND SYSTEM}
간략히 설명하여 전형적인 광학시스템에는, 물체와, 물체의 이미지를 촛점에 모으는 렌즈와, 물체의 이미지가 렌즈로부터 투영되는 이미지면이 있다. 그런 시스템에서 투영된 이미지의 배율은 좋은 촛점을 얻기 위하여 렌즈가 이미지면으로부터 이격된 상태에서 렌즈로부터 물체의 간격에 의하여 결정된다. 이 시스템에서, 배율은 이들 사이의 거리를 증가시키거나 감소시키기 위하여 렌즈에 대하여 물체를 이동시킴으로써 간단히 변경될 수 있다.
투영 광학 시스템에 대한 하나의 응용은 축소 스테퍼(reduction stepper)이다. 따라서, 물체는 이미지면에 위치된 웨이퍼상으로 투영될 패턴을 갖는 레티클이다. 따라서, 웨이퍼상에 투영되는 레티클로부터 이미지의 배율은 웨이퍼와 렌즈, 및 레티클과 렌즈 사이의 좌표를 단지 변경시킴으로써 용이하게 변경될 수 있다. 즉, 서로에 대하여 고정된 관계에서 렌즈에 대한 레티클 및 렌즈에 대한 웨이퍼의 단순 이동에 의하여 웨이퍼상에 투영되는 이미지의 배율은 용이하게 변경된다. 또한 웨이퍼상의 필드의 에지에서 물체의 정렬은 자동적으로 점검되고, 레티클로부터 투영된 물체가 웨이퍼상의 경우와 동일한 스케일로 투영되지 않으면, 배율오차가 발생한다. 그래서, 그런 시스템에서, 레티클로부터 투영된 이미지의 배율은 웨이퍼가 노광되기 전에 자동적으로 변경될 수 있다. 그러나, x 및 y 방향으로의 배율 변화는 항상 동일하고 이 광학 형태의 상이량에 의하여 변경될 수 없다는 점을 주목한다.
그러나, 어떤 광학 시스템에서는, 이미지와 물체, 또는 레티클 사이의 배율이 변경될 수 없다. 그런 시스템은 레티클측 및 웨이퍼측 양방에 텔레센트릭(telecentric)인 위네 다이슨 광학 시스템(Wynne Dyson optical system)이다. 그런 시스템에서, 다양한 물체는 배율비에 영향을 미침이 없이, 렌즈 시스템에서 변경될 수 있다. 배율은 백만분의 일부 미만으로 1.000000... 에서 유지된다.
모든 스테퍼 시스템에서 배율의 작은 조정을 만들기 위한 능력의 요구는 실질적으로 같은 이유에 의하여 야기된다. 즉, 웨이퍼의 처리를 통하여, 각각 다른 레티클 패턴으로 패턴된 다른 물질의 다층이 웨이퍼상에 적층된다. 따라서, 웨이퍼는 제 1 층을 수용할 때 초기 스케일을 갖고, 각각의 층들이 웨이퍼에 추가될 때, 웨이퍼는 각각의 층의 추가와 함께 인장 또는 압축되어서, 각각의 공정단계마다 웨이퍼는 수 ppm 정도로 스케일을 변경시킨다. 극단적인 경우로 10 ppm 정도일 수 있다. 이러한 문제점을 더욱 심각하게 하는 것은 웨이퍼 스케일 각각의 변경이 x 방향에서 y 방향과는 약간 다를 가능성이 매우 높고 그것이 통상적이라는 것이다.
선행층들로부터 스케일 변경의 결과로서, 레티클로부터 다음 패턴은 선행 패턴에 잘 정합되지 않을 수 있다. 따라서, 웨이퍼상에 투영될 때 레티클 패턴의 크기 또는 배율 부정합이 일어날 수 있다.
모든 형태의 스테퍼 시스템 및 일반적인 광학 시스템에서, 배율 변경을 야기시킬 수 있는 많은 다른 요인이 있다. 예를 들어, 레티클은 온도변화에 따른 팽창 및 축소가 거의 없는 용융된 실리카(fused-silica)로 제조되지만, 반도체 웨이퍼는 온도변화에 따른 상대적으로 높은 팽창계수를 갖는다. 웨이퍼 및 레티클은 스테퍼에 위치되는 시기마다 동일한 온도로 유지될 필요가 없으므로, 웨이퍼의 팽창은 온도변화가 ±1℃ 일 경우에도 심각해진다. 예를 들어, 전형적인 웨이퍼는 1℃의 온도변화의 경우 대략 2.4 ppm 의 스케일 변화를 겪는다.
또한, 렌즈가 구출될 때, 그의 부분은 매 회 완전하거나 동일하게 만들어질 수 없어서, 왜곡을 야기시킬 수 있다. 따라서, 스테퍼 시스템에서 웨이퍼에 도달하는 레티클 패턴은 초기 패턴과 정확하게 동일하지 않고 약간 왜곡된다. 왜곡의 보통 형태는 배율이 x 및 y 방향에서 정확하게 동일하지 않을 수 있는 것이다. 예들 들어, 배율은 x 방향에서 수 ppm 더 크고 y 방향에서 수 ppm 더 작을수 있거나, 두 방향 사이에 다른 변형일 수 있다.
울트라테크 스테퍼 Inc. 의 스테퍼 시스템에서 사용되는 텔레센트릭 위네 다이슨 광학 시스템에서, 완전한 평면을 만드는 것은 불가능하기 때문에 폴드 프리즘 내의 내부 반사면으로 형성된 원통형일 수 있다. 이것은 쉽게 교정될 수 없는 배율 에러를 발생시킬 것이다.
따라서, 모든 광학시스템에서, 스테퍼 투영 시스템이거나 또는 어떤 다른 시스템이거나, 종래 기술에서는 용이하게 보상될 수 없는 내재적인 배율 에러가 있다. 비주사, 풀 필드(full field) 투영 시스템에 적절한 보정기술 및 장치는 다른 방향보다 일 방향에서 더 필요한 보정이 존재할 수 있다는 것에 무관하게 x 및 y 방향 모두에서 동일 보정을 만드는 것이 보통이다.
다른 종래 기술의 1:1 배율 시스템, 예를 들어 배율 변화에 대한 보상을 초기에 제공하지 않는 스캐너가 있다. 에러들은, 텔레센트릭 위네 다이슨형 광학 스테퍼 시스템과 같이, 단순히 방치된다. 그러나, 웨이퍼의 크기가 점점 커지고 레티클 패턴이 미세해짐에 따라, 배율 에러를 보상하도록 배율을 변경하기 위하여 마이크럴라인(Micralign) 모델 500 및 600 세대의 스캐너에 대한 내장기술이 고안되었다. 마이크럴라인 스캐너에서, 배율은 두 개의 다른 동작을 수행함으로써 변경된다. 스캐너에서, 웨이퍼 상의 조명은 웨이퍼의 폭을 확장하는 좁은 슬릿에 속박된다. 슬릿 방향을 따라 배율을 변경시키기 위하여, 중간 이미지면에 인접한 한 쌍의 광학쉘(optical shell)은 이동되어서 슬릿 방향을 따르는 배율 변환을 발생시킬 수 있다. 이 후, 스캐닝 방향, 슬릿에 직교하는 방향으로 배율을변경시키기 위하여, 레티클은 웨이퍼가 슬릿을 횡단하여 이동할 때 웨이퍼에 대하여 점차적으로 이동될 수 있다. 즉, 연속적인 부분들이 복사될 때, 레티클은 웨이퍼에 대하여 지속적으로 전진되어 슬릿에 직교하는 방향으로 배율을 변경시킨다. 그러나, 스캐너를 위한 이 기술은, a) 스캐닝이 수행되지 않고, b) 어느 방향으로도 배율을 변경시키기 위하여 이동할 수 있는 쉘이 광로에 없고, c) 슬릿 조명장치에 의하여 한정된 국소 영역이 아니라 풀 필드에 걸쳐 동시에 결상(imagery)이 수행되므로, 풀 필드 텔레센트릭 위네 다이슨형 광학 스테퍼 시스템에 적용될 수 없다.
대부분의 축소 스테퍼 시스템에서는, 대부분의 감축 스테퍼들이 레티클 축에서 텔레센트릭이 아니므로 렌즈에 대하여 단순히 레티클을 이동하고나서 웨이퍼상에 이미지를 재촛점화시킴으로써 배율이 변화될 수 있다는 것은 명백하다. 그러나, 이 방법은 x 및 y 방향 모두에서 배율 변화의 동일한 양을 발생시킨다. 웨이퍼의 스케일이 y 방향보다 x 방향에서 약간 다르게 변경되므로, 이것은 이상적인 해결이 아니다.
또한, 공지된 위네 다이슨형 광학 투영 시스템에서, 레티클이 노광 방사선으로 조명되지 않을 때 레티클을 통하여 검사함으로써 기판상의 이미지와 패턴 사이에 정렬을 관찰하는 것이 실용적이다.
다양한 인자(예를 들어, 기판의 온도 변화, 시스템내의 광학 표면의 구형도(sphericity) 에러 등)으로부터 발생하는 배율의 작은 변화에 적합한 렌즈 시스템의 배율 조정을 허용하는 시스템을 갖는 것이 바람직하다. 직교 축에 적합한 배율 인자에 의존하여, 최종 이미지의 한 축을 따라서 배율 인자를 변형하기 위한 능력도 유용하다. 또한, 배율 조정 능력은 배율 인자가 1:1 이고 다른 방식으로 변화될 수 없는 위네 다이슨형 광학 시스템에서 특히 유용하다. 부가적으로, 위네 다이슨형 광학 시스템에서, 그 위에 겹쳐진 레티클의 이미지와 함께 또는 이미지 없이, 어느 때나 이미지면에서 기판상의 이미지를 관찰가능한 것이 유용할 것이다. 이러한 모든 개선들은 하기 설명 및 도면 참조로부터 이해될 것이다.
발명의 개요
본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 본 발명은 선택된 배율 또는 왜곡으로 조명된 물체로부터의 이미지를 이미지면으로 투영하기 위한 광학 시스템에 관한 것이다. 이 광학 시스템은, 변형될 때 변경 가능한 배율 또는 왜곡을 렌즈 시스템의 고정배율 및 왜곡에 부가시키는 렌즈 시스템에 광학적으로 적합한 하나 이상의 평면과 함께 고정배율 및 왜곡을 갖는 렌즈 시스템을 포함한다. 이 가변 배율 및 왜곡기술은 위네 다이슨형 투영 시스템을 포함하는 모든 렌즈 시스템 형태에 적용할 수 있다.
또한, 본 발명은 물체면에서 투영된 물체와 관련된 통상의 폴드 프리즘 대신 광학 블록을 포함하는 위네 다이슨 광학 투영 시스템을 포함한다. 광학 블록은 시스템의 출력측에서 폴드 프리즘에 인접한 이미지면에 물체의 이미지를 투영하기 위하여 물체면에 인접한 플랫표면(flat surface), 및 물체면에 인접한 표면을 교차하는 또 다른 플랫표면을 제공한다. 광학 블록의 내포는 그 위치에서 종래 사용된 입력 폴드 프리즘내의 물체면에 인접한 플랫면을 가로질러 발생하는 온도구배를 최소화시킨다. 또한, 광학 블록은, 코팅을 갖는 광학 블록을 대각선상으로 통과하는 빔 스플릿터의 도입을 가능케 하며 이 빔 스플릿터는 자외선에서 이미지면으로 전달되는 이미지 빔을 최소한으로 감쇠시키는 한편, 이미지면으로부터 되돌아오는 가시 이미지 빔의 일부를 광학 블록의 교차표면, 또는 결합 이미지면에 반사시킨다. 현미경은 사용자가 교차 표면에서 이미지면의 이미지를 관찰하도록 허용하기 위하여 광학 블록의 교차 표면에 인접해서 설치될 수도 있다. 이미지에서는, 물체면에서 물체 및 이미지면에서 기판상의 이미지, 또는 웨이퍼의 중첩이 있다. 또한, 물체에 적용되는 조명없이, 교차 표면의 조명은, 사용자가 물체 또는 레티클의 중첩된 이미지 없이 이미지면에서 기판, 또는 웨이퍼를 조명하고 관찰하도록 허용한다.
본 발명은 투영 광학 시스템에 관한 것으로, 특히 광학 시스템 각각의 x 및 y 방향의 배율 및 왜곡을 선택적으로 그리고 독립적으로 변화시키기 위한 신규한 방법 및 장치와, 그렇게 장비된 시스템의 정상동작동안 일정한 사용에 적합한 정렬현미경(alignment microscope)의 도입을 허용하는 빔 스플릿터를 포함하는 단일 폴드 광학 시스템(single fold optical system)에 관한 것이다.
도 1 는 종래기술의 광학 축소 스테퍼 투영 시스템의 개략도.
도 2 는 종래기술의 텔레센트릭 1:1 배율 위네 다이슨형 광학 스테퍼 투영 시스템의 개략도.
도 3a 내지 3c 는 얇은 유리 플레이트를 굴곡시킴으로써 배율 보정을 허용하는 본 발명의 일 측면의 개략도.
도 3d 는 플레이트의 처짐 (sag) 및 스팬 (span) 의 용어의 의미를 예시하기 위한 과도하게 굴곡된 형상의 본 발명의 배율 조정 플레이트에 대한 개략도.
도 4 는 본 발명에서처럼 배율 조정에 적합한 얇은 유리 플레이트를 통합하는 텔레센트릭 렌즈 시스템의 개략도.
도 5 는 x 및 y 방향으로 배율을 개별적으로 조정하기 위하여 본 발명의 두 개의 얇은 유리플레이트를 통합하는 텔레센트릭 1:1 배율 위네 다이슨형 광학 스테퍼 투영 시스템의 개략도.
도 6 는 본 발명의 변형된 위네 다이슨형 광학 스테퍼 투영 시스템.
도 7 는 본 발명의 다른 변형된 위네 다이슨형 광학 스테퍼 투영 시스템.
도 8a 는 본 발명의 배율 변경 플레이트의 평면도.
도 8b 는 평판 형상(실선) 및 굴곡 형상(점선)인 본 발명의 배율 변경 플레이트의 측면도.
도 8c 는 도 8b 에서 플레이트를 통과하는 직사각형 이미지(실선 -- 실선 형상의 플레이트, 점선 -- 점선 형상의 플레이트)의 도면.
도 9a 는 비틀린 형상으로 도시된 스큐 왜곡(skew distortion) 플레이트의 측면도.
도 9b 는 도 9a 의 평판 플레이트(실선) 및 비틀림 플레이트(점선)를 통과한 직사각형 이미지의 도면.
도 10a 는 본 발명의 단일 플레이트로 배율 및 스큐 왜곡을 도입하는 개별 액츄에이터를 위한 대표적 장착 시스템의 투시도로서, 상기 장착 시스템은 플레이트의 굴곡, 비틀림, 또는 그 둘의 조합을 허용하여 이미지에서 일 축을 따른 배율 및 스큐 왜곡을 생성하는 것을 나타내는 도면.
도 10b 는 플레이트의 비틀림 없는 경우와 비틀림 있는 경우 도 10a 의 플레이트를 통과하는 직사각형 이미지의 도면.
본 발명의 보다 나은 이해를 위하여, 종래기술을 예시하는 도면이 먼저 설명될 것이다.
도 1 는 축소 스테퍼(광선은 점선으로 도시됨)에 사용되는 것과 같은, 단일 광학 시스템을 예시한다. 도 1 에서, 입사광이, 광학 시스템을 통하여 그 위에 투영되는 선택된 패턴을 갖춘 레티클(2)의 일 표면상에 충돌하는 것을 도시한다. 레티클(2)상의 패턴의 결과로서, 입사광은 패턴의 투명부분을 갖는 레티클(2)의 영역만을 통과한다. 이 전달된 광은 스톱(stop, 5)의 중심 구멍을 통과한 후 그것이 통과하는 렌즈(6)에 적용되어서 x-y 스테이지(8)상에 장착된 웨이퍼(4)의 상면상으로 레티클(2)상의 패턴의 이미지를 형성한다.
그 형상에서, 레티클(2)과 렌즈(6) 사이의 거리(DM)가 증가되면, 웨이퍼(4)상에 투영된 패턴 이미지의 크기는 감소된다. 유사하게, 레티클(2)과 렌즈(6) 사이의 거리(DM)가 감소되면, 웨이퍼(4)상에 투영된 패턴 이미지의 크기는 증가된다. 그런 변화들중 어느 것으로도, 웨이퍼(4)와 렌즈(6) 사이의 거리를 변경시킴으로써 웨이퍼(4)상의 이미지를 재촛점화시키는 것이 필요하다.
유사하게, 도 2(광선은 점선으로 도시됨)는 물체와 이미지 사이의 배율이 변경될 수 없는 종래기술의 텔레센트릭 1:1 배율의 위네 다이슨형 광학 스테퍼 투영 시스템을 예시한다. 이 시스템에서, 조명은 그 위에 선택된 패턴을 갖는레티클(2)의 일측으로 향한다. 도 1 에서와 같이, 조명의 일부는 레티클(2)을 통과하고, 제 1 폴드 프리즘(10)의 근위면에 충돌하여 입사하고 그의 원위면으로부터 반사된다. 그 반사광은 먼저 평면렌즈(12)를 통과하고 메니스커스(meniscus) 렌즈(14)를 통과한다. 빛은, 메니스커스 렌즈(14)로부터 반사구면이 있는 거울(16)로 진행하고, 반사구면은 빛을(지점(20 및 20') 사이의 모든 지점에서) 메니스커스 렌즈(14), 플라노 렌즈(plano lens, 12)를 통과하고 제 2 폴드 프리즘(10')으로 반사시킨다. 제 2 폴드 프리즘(10') 내에서, 광 빔은 원위면에서 근위면으로 반사되고 그곳을 통하여 x-y 스테이지(8)상에 장착된 웨이퍼(4)의 표면으로 반사된다. 따라서, 렌즈 시스템은 대칭이므로, 레티클(2)상의 패턴과 웨이퍼(4)상의 이미지 사이에 단일 배율이 있다.
본 발명의 일 특징의 기본 이론은 도 3a, 3b, 3c 에 예시된다. 도 3a 에서, 양면이 평탄한 투명 유리 플레이트(28)를 예시한다. 여기에서, 광선(a1, b1, c1)은 플레이트(28)를 통과하여 표면(29)상의 지점(A)으로 진행하는 것을 도시한다. 유사하게, 광선(a2, b2, c2)이 지점(A 및 B) 사이의 거리(D)로 플레이트(28)를 통과하여 표면(29)상의 지점(B)으로 진행하는 것을 도시한다.
도 3b 에서, 플레이트(28)가 광선(a1', b1', c1') 및 광선(a2', b2', c2')에 볼록면을 제공하기 위하여 굴곡된 것을 도시한다. 플레이트(28))의 굴곡의 결과로서, 유리 플레이트(28)내의 광선의 경로는 약간 시프트되어 표면(29)상의 각각의 결과적인 이미지 지점(A', B')은 도 3a 의 D 보다 작은 거리(D')로 서로 이격 분리된다.
유사하게 도 3c 에서, 플레이트(28)가, 광선(a1'', b1'', c1''), 및 광선(a2'', b2'', c2'')에 오목면을 제공하기 위하여 굴곡된 것을 도시한다. 이것은 도 3b 에서의 경우와는 반대 방향으로 플레이트(28)내의 경로에서 시프트를 야기시킨다. 결론적으로, 표면(29)상에서 조명의 결과적인 각각의 지점(A'', B'')들은 D 보다 큰 거리(D'')로 서로 이격 분리된다.
따라서, 도 3a 에 도시된 것과 같은 구성이 제로(zero) 배율 기준으로 고려되면, 도 3b 의 구성은 음의 배율 구성이고, 도 3c 의 형상은 양의 배율 구성이다. 양 또는 음의 배율 방향에서, 배율 변화는 굴곡반경에 반비례한다.
일반적으로 말하면, 광학설계는 임의의 형태의 유리를 수용하도록 변형될 수 있기 때문에, 굴곡 가능한 플레이트에 사용된 유리 형태가 중요한 것은 아니다. 그러나, 용이하게 연마되어 평탄화되는 매우 단단한 유리인 용융된 실리카, 또는 일반 목적의 유리로서 산업분야에서 널리 사용되는 BK-7 이 사용될 수 있다. 대부분 응용에서 선택된 플레이트 두께는 상당히 작고 이들 유리 형태는 널리 유용 가능하고 상대적으로 저렴하다. 스테퍼 응용에 적합한 다른 선택의 유리는, 유리가 인접할 프리즘 또는 렌즈의 것과 같을 수 있다. 따라서, 배율 조정 플레이트들이 고개구율(NA) 위네 다이슨형 투영 광학 시스템에서 사용될 때와 같은 중요한 응용에서조차도, 얇은 플레이트의 추가는 약간의 광학적 재설계로 용이하게 수용되고, 유리 형태는 적절한 전달을 갖는 것들중 어느 것이 될 수 있다. 이것은다양한 형태의 다수 유리를 포함한다.
얇은 플레이트는, 얼마나 작은 이미지가 형성될 수 있는지에 대해서는 회절이 유일한 제한인 것이 바람직한 제한 광학 시스템인 위네 다이슨형 광학 시스템에 적용될 수 있다. 이 시스템에서, 광학 요소의 수차(aberration) 및 불완전성(imperfection)은 이미지의 크기에 대하여 중요한 기여를 할 수 없다. 따라서, 이미지내의 일 지점으로부터 광 빔에 의하여 확장된 영역에 걸친 랜덤한 플레이트 두께 변화는 파장의 단편으로 한정되는 것이 바람직할 것이다.
얇은 플레이트에 의해서 제공된 배율 조정의 컴퓨터 시뮬레이션으로부터, 배율의 변화(△M)는 다음 공식에 의해서 매우 근사화될 수 있다는 것이 확실한데,
△M = (nt-t)nR (1)
여기서, t = 플레이트의 두께,
n = 플레이트의 유리의 굴절률,
R = 굴곡된 플레이트의 곡률반경이다.
따라서, 1.5 의 굴절률을 갖는 1 mm 두께의 플레이트를 사용하는 배율에서 10 ppm 의 변화의 경우, 필요한 반경은 상기 식(1)을 이용하여 약 33,300 mm 일 것이다. 그 반경을 더욱 용이하게 가시화될 수 있는 용어로 변경시키면, R = 33,300 mm 는 60 mm 의 스팬(span)을 갖는 플레이트에 대한 13.5㎛의 처짐과 동등하다(용어 처짐 및 스팬의 시각적인 식별을 위하여 도 3d 참조). 따라서, 10 ppm 이하의 소정의 배율 변화를 성취하기 위하여 필요한 플레이트 두께 및 굴곡량은 매우 작고 레티클(2)과 프리즘(10) 사이의 간격, 및 웨이퍼(4)와 프리즘(10')사이의 간격은 플레이트의 소정량의 처짐을 용이하게 수용할 수 있다는 것을 알 수 있다.
이제, 도 4 를 참조하면, 도 1 의 단일 렌즈(6) 대신 물체 및 이미지 양 측에 대해 텔레센트릭인 렌즈 어셈블리(6')를 이용하고 본 발명의 굴곡 가능한 촛점 유리 플레이트(24)를 렌즈 어셈블리(6')와 웨이퍼(4) 사이에 설치한 도 1 과 유사한 광학 컬럼(optical column)을 도시한다. 이 간략화된 실행에서 유리 플레이트 어셈블리(24)는 회동점(pivot point, 26, 31) 사이에 플레이트(28)를 장착시키기 위하여 그의 타단에 부착된 하드웨어를 갖는 유리 플레이트(28)를 포함한다. 또한, 도 3a 내지 도 3c 와 관련하여 논의되는 바와 같이 유리 플레이트(28)의 굴곡을 용이하게 하여 시스템의 배율을 변화시키기 위하여 회동점(31)으로부터 외향으로 연장하는 구동 레버가 있다. 간단한 구성에서는, 유리 플레이트(28)는 한 지점에서 렌즈 시스템에 장착되어, 캔틸레버 형식(cantilever style)으로 될 필요가 있다. 그러나, 이것이 수행되면, 이미지면(4)상의 이미지는 필드의 중심에서 배율변화 및 위치 시프트를 둘 다 경험하게 될 것이다.
본 발명의 특징들중 하나는 텔레센트릭 위네 다이슨형 광학 스테퍼 투영 시스템에서 ± 10 mm 이상의 범위 이상으로 배율을 변화시키는 능력을 제공하는 것이다. 상술된 바와 같이, 광학 시스템의 그 형태는 먼저 변경될 수 없는 1:1 의 고정배율을 갖는다. 도 5 는 독립적으로 x 및 y 방향으로 웨이퍼(4)상에 투영된 이미지의 배율을 변화시키기 위한 능력을 제공하기 위하여 본 발명이 도 2 의 위네 다이슨형 광학 시스템을 어떻게 변경시키는지를 예시한다.
도 5 를 참조하면, 이것은 도 2 의 위네 다이슨형 광학 시스템의 도면에 단지 두 가지 변경, 즉 얇은 굴곡 가능한 유리 플레이트(281, 282)만이 추가된 동일한 도면이라는 것을 알 수 있을 것이다. 플레이트(281)는 레티클(2)과 폴드 프리즘(10)의 근위면 사이에 도시되고, 플레이트(282)는 웨이퍼(4)와 폴드 프리즘(10')의 근위면 사이에 도시된다. 따라서, 이 구성에서, 플레이트(281, 282)는 각각의 x 및 y 방향으로 시스템의 배율의 조정을 독립적으로 수행할 수 있도록 이들이 서로에 대하여 직교 방향(즉, 하나는 도 5 의 평면에 수직이고, 다른 것은 도 5 의 평면에 있음)으로 굴곡 가능하도록 장착될 수 있다. 따라서, 웨이퍼(4)내의 임의의 스케일 변경 또는 광학시스템 자체에 존재할 수 있는 임의의 왜곡(즉, 프리즘들(10 또는 10')중 하나)의 표면들중 하나가 x 또는 y 방향으로 약간 원통형인 표면을 가짐)을 보정하기 위하여 플레이트(281, 282)중 하나 또는 둘 다의 굴곡은 전체 시스템의 그 표면의 배율 효과에 대한 보정을 가능하게 할 것이다. 부가적으로, 광학 시스템의 설계 및 성능이 가능한 한 작게 영향을 받도록, 프리즘(10, 10')의 등가 두께는 배율 조정용 얇은 플레이트(281, 282)의 추가가 전체 유리경로 두께를 변경시키지 않도록 수정될 수 있다. 이것은, 그곳에 인접한 플레이트(281, 282)중 대응하는 하나와 같은 두께인 각각의 프리즘의 근위면으로부터 재료층을 제거시킴으로써 수행될 수 있다. 따라서, 프리즘(10, 10')의 크기를 그렇게 변경함으로써 유리를 통한 광로의 길이는 실질적으로 광학시스템의 각각의 절반에서 일치되어 유지된다.
따라서, 본 발명에 따라 배율은 x-y 스테이지(8)에 의해서 한정된 것과 같이 x 방향 및 y 방향에서 독립적으로 선택되고 변경될 수 있다. 또한, 이러한 렌즈 시스템으로 설립된 배율 불완전성은 제거될 수 있고, 레티클(2)과 웨이퍼(4) 사이의 임의의 스케일 변화는 플레이트(281, 282)를 갖춘 렌즈 시스템으로 설립될 수 있는 작은 조정에 의해서 제거 가능하다.
일반적으로, 조명에너지의 실질적인 양은 웨이퍼에서 측정된 시간당 높은 처리량을 얻기 위하여 레티클상으로 입사되어야 한다. 레티클(2)이 높은 비율의 불투명 구역을 포함하면, 몇 개의 층들에서와 마찬가지로, 실질적 에너지는 레티클(2)에 흡수되어서 패턴의 최근방에서 온도를 상승시킬 것이다. 결론적으로, 레티클(2)에 의해서 흡수된 에너지 일부는 프리즘(10)을 포함하는 주변 렌즈 시스템 구성요소들로 방사되고 전도된다. 이것은 프리즘(10)의 반사면의 형상 왜곡 및 워핑(warping)을 야기시키는 프리즘(10)내의 온도구배를 발생시켜 1차원 배율 변화 및 다른 이미지 왜곡을 야기시킨다.
도 6 에 도시된 바와 같이, 이 조건의 불필요한 효과를 최소화시키기 위하여, 본 발명의 다른 특징은 도 5 의 폴드 프리즘(10)을 유리블록(32)으로 대체시킨 것을 포함하고, 레티클(2)은 플라노 렌즈(plano lens, 12)의 평면에 실질적으로 평행한 블록(32)의 표면에 인접하게 재배치하는 것을 포함한다. 이 구성에서, 레티클(2)에 인접한, 블록(32)의 표면으로부터, 블록(32)의 본체로의 열전도는 높고,그 결과 블록(32) 내의 온도 구배는 폴드 프리즘(10)이 사용될 때보다 대응적으로 낮다. 또한, 반사는 이 구성에서 제거되기 때문에, 소정의 온도구배에 의하여 생성된 왜곡은 실질적으로 더 작다. 결론적으로, 열적으로 유도된 왜곡 변경도 더 작다. 또한, 굴곡면에서의 등가 에러보다 왜곡 에러를 발생시키는데 6 배 이상 효과적인 폴드 프리즘(10)의 사변 또는 반사면에서 발생하는 제조공차가 실질적으로 제거된다. 또한 도 6 에 도시된 것은 배율 조정 플레이트(281, 282)이다. 그러나, 여기에 도시된 본 발명의 각각의 실시예는 서로 독립적으로 사용될 수 있는 광학 시스템 동작의 장점을 제공하는 한편, 조합된 장점들도 이 점에 관하여 논의된 본 발명의 각각의 장점을 합한 개선된 시스템을 제공한다.
이제, 도 8a 내지 도 8c 를 참조하면, 광로상에 위치된 유리 플레이트를 굴곡시킴으로써 발생된 배율 변화 효과의 간략화된 도면들이다. 도 8a 는 유리 플레이트(28)의 평면도이고, 도 8b 는 굴곡되지 않은 구조(실선) 및 굴곡 구조(점선)의 유리판(28)의 측면도이다. 그 후, 도 8c 에는 도 8b 에 도시된 것과 같은 비굴곡 및 굴곡 플레이트(28)를 통하여 전달된 두 개 이미지가 도시된다. 여기에서, 비굴곡 플레이트를 통하여 투영된 직사각형 이미지(46)는 실선으로 도시되고, 굴곡 플레이트를 통하여 투영된 직사각형 이미지(48)는 점선으로 도시되고 이미지(48)는 플레이트(28)의 굴곡 방향의 결과로서 이미지(46)보다 일방향에서 더 작다.
이제까지 논의된 각각의 실시예에서, 플레이트(28)는 플레이트의 굴곡축에수직방향으로 광학시스템의 배율인자를 보정하기 위하여 굴곡 가능하다고만 언급되었다. 또한, 광학 시스템은 근본적인 스큐 왜곡 문제점을 가질 수 있다. 임의 형태의 광학 시스템에서 그 문제점을 보정하는 것은 시스템의 광로에 설치된 얇은 유리 플레이트를 비틀어서 수행될 수 있다. 도 9a 는 비틀림 구성(예시 목적으로 여기에서는 과장됨)으로, 이 전에 논의된 것들과 유사한 평탄한 유리 플레이트(28)를 예시하고, 도 9b 는 도시된 방식으로 비틀린 플레이트(28)를 통과하는 직사각형 이미지 상에서 비틀림의 효과를 예시한다.
도 10a 는 대응하는 보정에 영향을 미치기 위해 광학 시스템에 포함된 유리 플레이트의 일방향 축(도 10a 에서 x 축)을 따른 굴곡, 및 굴곡축에 수직인 축(도 10a 에서 y 축) 주위에서 비틀림을 가능하게 하는 장착 및 동작 시스템을 예시한다. 여기에 도시된 것은, 플레이트(28)의 두 개의 평행 대향 에지를 따라서 연장되는 두 개의 스티프 리브(stiff rib, 67 및 74)가 취부된 평탄한 유리 플레이트(28)이고 플레이트(28)는 광학 시스템의 축에 대하여 수직으로 장착된다.
리브(67, 74)가 부착된, 유리 플레이트(28)는 광학시스템에서 고정 지점들에 장착되는 지지부(53, 55, 57)를 갖는 세 지점 장착 구성으로 장착된다. 제 1 에지 리브(edge rib, 74)는 광학 시스템에 대하여 고정된 회동축에 의해 제약되고 플레이트(28)의 소정 굴곡축에 평행하다. 리브(74)의 전체 길이에 평행하게 종방향 배향된 핀(59, 61)이 도 10a 에 도시되고, 각각의 핀(59, 61)들은 지지부(53, 55)에 각각 회전 가능하도록 장착된다. 제 2 에지 리브(67)는 광축 및 리브(67, 74)에 수직인 방향으로 스위벨 접속(swivel connection)에 의해서 제한된다. 리브(67)의 축에 수직 배향되고 지지부(57)에 회전 가능하게 장착된 핀(63)이 도10a 에 도시된다.
플레이트(28)에 굴곡 토크를 적용시키기 위하여, 레버(65)가 리브(74)에 취부되고 지지부(53, 55)들 사이에서 리브(74)의 회전축으로부터 직교적으로 연장한다. 플레이트(28)에 굴곡 토크의 적용을 작동시키기 위하여, 포스 트랜스듀서(force transducer, 71)는 레버(65)에 연결되어서 플레이트(28)를 볼록 또는 오목으로 굴곡시키는 어느 방향으로도 힘(F1)을 발생시킨다. 플레이트(28)로의 비틀림 토크를 인가할 수 있도록, 리브(67)는 일 방향으로 플레이트(28)를 너머서 종방향으로 연장한다. 플레이트(28)에 비틀림 토크의 적용을 작동시키기 위하여, 포스 트랜스듀서(73)는 핀(63)으로부터 이격된 지점에서 리브(67)의 연장부에 접속되어 플레이트(28)를 비트는 어느 방향으로도 힘(F2)을 발생시킨다. 각각의 포스 트랜스듀서(71, 73)는 보이스 코일(voice coil)을 일 실시로 예시하는 몇 몇의 상용 트랜스듀서로 실행될 수 있다. 따라서, 이 예시 장착 구성으로, 독립적인 비틀림 및 굴곡 동작은 각각 유리 플레이트(28)에 동시 적용될 수 있다.
또한, 그런 제 2 어셈블리가 포함되고 도 10a 에 도시된 그런 제 1 어셈블리에 대하여 광축 주위에서 90°회전될 수 있다면, 제 2 플레이트(28)의 굴곡은 제 1 플레이트(28)의 굴곡에 의해서 야기된 배율 변화에 대하여 광축 주위에서 90°회전되는 이미지면내의 배율변경을 야기시킬 것이고, 제 2 플레이트(28)의 비틀림은 제 1 플레이트(28)의 비틀림에 의해서 야기된 대향 효과를 가질 것이다. 따라서,도 10a 와 같은, 단일 어셈블리로부터 얻어질 수 있는 것 외에 추가적인 왜곡 보정이 없다면, 제 2 어셈블리는 단순히 제 2 플레이트의 굴곡만이 발생할 수 있는 경우일 수 있다.
실제의 실행에서, 포스 트랜스듀서(71, 72)는, 여기에서 논의된 광학 시스템이 단지 일부인 완전한 시스템을 실행하기 위하여 사용되는 컴퓨터 제어 시스템에 의해서 이들이 수동 또는 자동조정되는 다양한 방식으로 실행될 수 있다. 또한, 설계자가 본 발명의 임의의 특징을 통합하도록 선택할 수 있는 광학 시스템의 구성이 제공된다면, 플레이트(28)의 장착 및 조작을 위한 최적의 수단은 쉽게 명백해질 것이다.
도 10b 는 비틀린 플레이트를 관통하기 전 직각형 이미지(실선) 및 비틀린 플레이트를 통과한 후 스큐된 이미지(점선)상의 효과를 예시한다. 두 스큐된 형식에서, 이미지 대향변은 서로 평행하게 유지됨을 주목한다. 플레이트(28)를 통과하여 전달된 이미지가 도 10b 에서 점선에 의하여 지시된 스큐된 이미지이면, 플레이트(28)는 도 10b 에서 실선에 의하여 예시된 직사각형 형태로 이미지를 위치시키도록 비틀릴 수 있다.
본 발명의 제 3 특징은 도 7 의 구성적 제시에서 예시된다. 여기에 도시된 광학 시스템은 배율 조정 플레이트(281, 282)들이 명확함을 위하여 제거된 상태로 도 6 에 도시된 것과 실질적으로 같다. 또한, 도 7 는 레티클(2)을 조명하는 입사광로를 더욱 완벽하게 예시한다. 즉, 조명원(도시하지 않음)으로부터 광은제 2 플라노 렌즈(44)를 통과하고나서, 플랫 거울(42)을 경유하여 레티클(2)로 향한다.
또한, 이 도면에서, 도 6 의 블록(32)은 내적 빔 스플릿터 표면(34)을 갖는 블록(32')으로 대체된다. 따라서, 블록(32')은 이들 프리즘의 내포된 표면들 사이에 얇은 빔 스플릿터 코팅으로 등을 맞댄 두 개 폴드 프리즘을 사용함으로서 설치될 수 있다. 이상적 빔 스플릿터(34)는 노광 방사 파장에 대한 최대 투과율 및 정렬 파장에서 충분한 반사율을 갖춘 이색성 표면(dichroic surface)을 갖는다. 따라서, 이 구성에서, 레티클(2)을 통과한 광은 빔 스플릿터(34)를 통과하고 도 2 와 관련하여 논의된 바와 같은 광학 시스템의 발란스를 통과한다. 여기에서 차이는 역방향으로 렌즈 시스템을 통하여 다시 돌아온 웨이퍼(4)의 표면으로부터 반사된 광의 일부가 빔 스플릿터(34)에 의해서 표면(38)으로 반사된다는 것이다. 그러므로, 웨이퍼(4)의 표면 패턴의 이미지는 패턴된 레티클 표면에 대응하는 이미지면(51)에 형성된다. 또한, 레티클(2)상의 패턴 이미지는 이미지면(51)으로 다시 반사된다.
따라서, 정렬 현미경(40)은 웨이퍼(4) 및 레티클(2)의 패턴들의 중첩된 이미지를 관찰하기 위하여 이미지면(51)을 결합시키기 위해 인접하여 위치될 수 있다. 두 개 패턴의 이미지가, 결합된 이미지면(51)에 연속 제공된다면, 두 패턴들의 정렬은 결합된 이미지면(51)에 인접 위치된 정렬 현미경(40)으로 점검될 수 있다. 이것은 스테퍼 시스템의 전체 동작을 방해시킴이 없이 언제든지 또는 연속적으로 두 패턴들 사이에서 정렬을 점검할 수 있게 한다. 또한, 조명은 정렬 공정을 위하여 현미경(40)의 광로에 위치된 빔 스플릿터를 경유하여 웨이퍼(4)에 마련될 수 있다. 그 후, 레티클(2)이 보통 방식으로 조명되고 웨이퍼(4)는 현미경(40)의 광로를 경유해서 조명된다. 따라서, 레티클 정렬 키이(key) 및 웨이퍼 정렬 대상은 조명 조합이 사용되는 것에 의존하여 분리적으로 또는 동시에 관찰될 수 있다.
본 발명의 다양한 특징이 기재되었지만, 당업자들은 상기 설명을 읽고 도면을 연구할 때, 본 발명의 다양한 특징의 수행에 다양한 다른 접근을 이해할 것이다. 따라서, 첨부된 청구범위는 본 발명 및 첨부된 청구범위에 일치하는 사상 및 요지 내에서 모든 변경 및 수정을 포함하는 것으로 해석될 것이다.

Claims (28)

  1. 물체와 이미지면 사이의 광로를 한정하여, 투영된 이미지가 상기 물체와 비교될 때 선택된 배율을 갖는 투영 이미지로서 물체면에 있는 조명된 물체로부터 이미지면으로 이미지 빔을 투영하기 위한 광학 시스템에 있어서,
    고정배율을 갖고, 상기 물체로부터의 조명을 받아서 그 이미지를 상기 이미지면상으로 발생시키도록 배치된, 상기 광로에 장착된 렌즈 시스템,
    선택된 두께 및 상기 렌즈 시스템과 광학적으로 적합한 재료를 갖는 제 1 플레이트로서, 그 내부를 통과하는 상기 이미지 빔에 제 1 가변배율을 적용하도록 배치되고, 상기 제 1 플레이트의 일점이 고정적으로 장착되어 상기 광로내에 제약되어 있는 제 1 플레이트, 및
    상기 제 1 플레이트를 선택적으로 굴곡시키고, 상기 제 1 플레이트의 변형도에 비례하여 상기 제 1 가변 배율을 발생시키는, 상기 제 1 플레이트에 결합된 제 1 액츄에이터로 구성되고,
    상기 제 1 플레이트의 상기 제 1 가변 배율은 상기 제 1 플레이트가 굴곡되는 축에 수직 방향으로 상기 선택된 배율을 상기 투영 이미지내에서 양 또는 음으로 변화시키며, 상기 제 1 투영 이미지는 상기 선택된 배율을 상기 이미지 빔에 적용시킴으로써 상기 렌즈 시스템과 상기 제 1 플레이트의 조합으로 형성되고, 상기 렌즈 시스템의 상기 고정배율 및 상기 제 1 플레이트의 상기 제 1 가변배율의 곱은 상기 선택된 배율과 동일한 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  2. 제 1 항에 있어서, 선택된 두께 및 상기 렌즈 시스템과 광학적으로 적합한 재료를 갖는 제 2 플레이트로서, 그 내부를 통과하는 상기 이미지 빔에 제 2 가변 배율을 적용하도록 배치되고, 상기 제 2 플레이트의 일점이 고정적으로 장착되어 상기 광로내에 제약되어 있는 제 2 플레이트, 및
    상기 제 2 플레이트를 선택적으로 굴곡시켜, 상기 제 2 플레이트의 변형도에 비례하여 상기 제 2 가변 배율을 발생하도록 상기 제 2 플레이트에 결합된 제 2 액츄에이터를 더 포함하고,
    상기 제 2 플레이트의 상기 제 2 가변 배율은 상기 제 2 플레이트가 굴곡되는 축에 수직 방향으로 상기 선택된 배율을 상기 투영 이미지 내에서 양 또는 음으로 변화시키며, 상기 선택된 배율은 상기 렌즈 시스템의 상기 고정배율과 상기 제 1 및 제 2 플랫 플레이트 각각과의 누적 효과의 결과이고 상기 제 1 및 제 2 의 선택된 배율의 변화는, 각각 상기 제 1 및 제 2 플레이트의 각각이 굴곡되는 축에 수직인 방향에 대응하는 방향으로 독립적인 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 플레이트의 각각은 독립적으로 장착되고, 각 플레이트가 굴곡되는 상기 축은, 각자가 상기 이미지면에 투영될 때 서로에 대하여 수직방향인 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 투영 이미지는 또한 상기 물체에 대해 선택된 스큐왜곡을 갖고 상기 렌즈 시스템은 고정 스큐왜곡을 갖는 광학 시스템은,
    선택된 두께 및 상기 렌즈 시스템과 광학적으로 적합한 재료를 갖는 제 2 플레이트로서, 그 내부를 통과하는 상기 이미지빔에 제 1 가변 스큐왜곡을 적용하도록 배치되고, 상기 제 2 플레이트의 일점이 고정적으로 장착되어 상기 광로내에 제약되어 있는 제 2 플레이트, 및
    상기 제 2 플레이트를 선택적으로 비틀고, 상기 제 2 플레이트의 변형도에 비례하여 상기 제 1 가변 스큐왜곡을 발생시키는 상기 제 2 플레이트에 결합된 제 2 액츄에이터를 더 포함하고,
    상기 제 2 플레이트의 상기 제 1 가변 스큐왜곡은, 상기 제 2 플레이트가 비틀리는 축에 평행 및 수직 방향으로 상기 투영 이미지의 배율이 변하지 않고, 또한, 제 2 플레이트의 비틀림량에 비례하여 상기 투영 이미지의 배율이 상기 평행 및 수직방향에 관한 사분면중 대각선상으로 대향하는 2 개에 대해서는 증가하고 대각선상으로 대향하는 다른 2 개에 대해서는 감소하는 방식으로 상기 선택된 스큐왜곡을 변경시키고, 상기 투영 이미지는 상기 선택된 스큐왜곡을 상기 이미지 빔에 적용시킴으로써 상기 렌즈 시스템 및 상기 제 2 플레이트의 조합으로 형성되고, 상기 스큐왜곡은 상기 렌즈 시스템의 상기 고정 왜곡과 상기 제 2 플레이트의 상기 선택된 스큐왜곡의 합인 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 플레이트의 각각은 독립적으로 장착되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 렌즈 시스템은,
    평면 및 볼록면을 갖는 플라노 렌즈,
    오목면 및 볼록면을 구비하는 메니스커스 렌즈로서, 상기 플라노 렌즈의 상기 볼록면은 상기 메니스커스 렌즈의 상기 오목면과 인접하는 메니스커스 렌즈,
    상기 메니스커스 렌즈의 상기 볼록면으로부터 이격된 오목 구형거울,
    제 1, 제 2 및 제 3 플랫 표면을 갖고, 상기 제 1 플랫 표면은 상기 플라노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부에 인접하고, 상기 제 2 플랫 표면은 상기 물체면에 인접하여, 상기 물체로부터 상기 이미지 빔을 수용하고 상기 이미지 빔은 상기 제 3 플랫 표면으로부터의 반사에 의하여 상기 제 1 및 제 2 플랫 표면 사이에 전달되는, 제 1 폴드 프리즘,
    제 4, 제 5 및 제 6 플랫 표면을 갖고, 상기 제 4 플랫 표면은 상기 플라노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부에 인접하고, 상기 제 5 플랫 표면은 상기 이미지면에 근접하여 상기 제 6 플랫 표면으로부터의 반사에 의하여 상기 제 4 및 제 5 플랫 표면 사이에 전달되는 상기 이미지 빔으로부터 상기 물체의 상기 투영된 이미지를 수용하는 제 2 폴드 프리즘을 포함하는 위네 다이슨형 광학 투영시스템이고,
    상기 제 1 플레이트는 상기 물체면과 상기 제 1 폴드 프리즘의 상기 제 2 플랫 표면 사이, 및 상기 이미지면과 상기 제 2 폴드 프리즘의 상기 제 5 플랫면 사이중 하나에 위치되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  7. 제 2 항에 있어서, 상기 렌즈 시스템은,
    평면 및 볼록면을 갖는 플라노 렌즈,
    오목면 및 볼록면을 구비하는 메니스커스 렌즈로서, 상기 플라노 렌즈의 상기 볼록면은 상기 메니스커스 렌즈의 상기 오목면에 인접하는 메니스커스 렌즈,
    상기 메니스커스 렌즈의 상기 볼록면으로부터 이격된 오목 구형거울,
    제 1, 제 2 및 제 3 플랫 표면을 갖고 상기 제 1 플랫 표면은 상기 플라노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 인접하고, 상기 제 2 플랫 표면은 상기 물체면에 인접하여, 상기 물체로부터 상기 이미지 빔을 수용하고 상기 이미지 빔은 상기 제 3 플랫 표면으로부터의 반사에 의하여 상기 제 1 및 제 2 플랫 표면 사이에 전달되는 제 1 폴드 프리즘,
    제 4, 제 5 및 제 6 플랫 표면을 갖고 상기 제 4 플랫 표면은 상기 플라노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 인접하고, 상기 제 5 플랫 표면은 상기 이미지면에 인접하여 상기 제 6 플랫 표면으로부터의 반사에 의하여 상기 제 4 및 제 5 플랫 표면사이에 전달되는 상기 이미지 빔으로부터 상기 물체의 상기 투영이미지를 수용하는, 제 2 폴드 프리즘을 포함하는 위네 다이슨형 광학 투영 시스템이고,
    상기 제 1 플레이트는 상기 물체면과 상기 제 1 폴드 프리즘의 상기 제 2 플랫 표면 사이에 위치되고,
    상기 제 2 플레이트는 상기 이미지면과 상기 제 2 폴드 프리즘의 상기 제 5 플랫면 사이에 위치되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 투영된 이미지는 상기 렌즈 시스템과 상기 제 1 및 제 2 플레이트의 조합을 통과하는 상기 이미지 빔의 결과로서 형성되고,
    상기 제 1 플레이트의 상기 제 1 가변배율은 상기 제 1 플레이트가 굴곡되는 축에 수직방향으로 상기 투영된 이미지내에서 양 또는 음으로 상기 선택된 배율을 변화시키고,
    상기 제 2 플레이트의 상기 제 2 가변배율은 상기 제 2 플레이트가 굴곡되는 축에 수직방향으로 상기 투영된 이미지내에서 양 또는 음으로 상기 선택된 배율을 변화시키고,
    상기 선택된 배율은 상기 렌즈 시스템의 상기 고정배율과 상기 제 1 및 제 2 플랫 플레이트 각각과의 누적효과의 결과이며,
    상기 제 1 및 제 2 액츄에이터는 상기 제 1 및 제 2 플랫 플레이트의 굴곡을 허용하여, 상기 제 1 및 제 2 선택배율의 변경이, 상기 제 1 및 제 2 플레이트의 각각이 굴곡되는 축에 수직인 방향에 대응하는 방향으로 독립적인 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  9. 제 8 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 플레이트의 각각은 독립적으로 장착되고, 각 플레이트가 굴곡되는 상기 축은 각자가 상기 이미지면에 투영될 때 서로에 대하여 수직방향인 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  10. 제 4 항에 있어서, 상기 렌즈 시스템은,
    평면 및 볼록면을 갖는 플라노 렌즈,
    오목면 및 볼록면을 구비하는 메니스커스 렌즈로서, 상기 플라노 렌즈의 상기 볼록면은 상기 메니스커스 렌즈의 상기 오목면과 인접하는 메니스커스 렌즈,
    상기 메니스커스 렌즈의 상기 볼록면으로부터 이격된 오목 구형 거울,
    제 1, 제 2 및 제 3 플랫 표면을 갖고 상기 제 1 플랫 표면은 상기 플라노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 인접하고, 상기 제 2 플랫 표면은 상기 물체 표면에 인접하여, 상기 물체로부터 상기 이미지 빔을 수용하고 상기 이미지 빔은 상기 제 3 플랫 표면으로부터의 반사에 의하여 상기 제 1 및 제 2 플랫 표면 사이에 전달되는 제 1 폴드 프리즘,
    제 4, 제 5 및 제 6 플랫 표면을 갖고 상기 제 4 플랫 표면은 상기 플라노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 인접하고, 상기 제 5 플랫 표면은 상기 이미지면에 인접하여 상기 제 6 플랫 표면으로부터 반사에 의하여 상기 제 4 및 제 5 플랫 표면 사이에 전달되는 상기 이미지 빔으로부터 상기 물체의 상기 투영된 이미지를 수용하는, 제 2 폴드 프리즘을 포함하는 위네 다이슨형 광학 투영 시스템이고,
    상기 제 1 및 제 2 플레이트중 하나는 상기 물체면과 상기 제 1 폴드 프리즘의 상기 제 2 플랫 표면 사이에 위치되고,
    상기 제 1 및 제 2 플레이트중 다른 하나는 상기 이미지면과 상기 제 2 폴드 프리즘의 상기 제 5 플랫 표면 사이에 위치되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  11. 제 1 항에 있어서, 상기 렌즈 시스템은,
    평면 및 볼록면을 갖는 플라노 렌즈,
    오목면 및 볼록면을 구비하는 메니스커스 렌즈로서, 상기 플라노 렌즈의 상기 볼록면은 상기 메니스커스 렌즈의 상기 오목면과 인접하는 메니스커스 렌즈,
    상기 메니스커스 렌즈의 상기 볼록면으로부터 이격된 오목 구형거울,
    서로에 대하여 실질적으로 평행한 제 1 및 제 2 플랫 표면을 갖고 상기 제 1 플랫 표면은 상기 플라노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부에 인접하고 상기 제 2 플랫 표면은 상기 물체면에 인접하여, 물체로부터 상기 이미지 빔을 수용하고 상기 이미지 빔은 상기 제 1 및 제 2 플랫 표면들 사이에 직접 전송되는 광학 블록,
    제 1, 제 2 및 제 3 플랫 표면을 갖고 상기 제 1 플랫 표면은 상기 플라노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부에 인접하고, 상기 제 2 플랫 표면은 상기 이미지면에 근접하여 상기 제 3 플랫 표면으로부터 반사에 의하여 상기 제 1 및 제 2 플랫 표면사이에 전달되는 상기 이미지 빔으로부터 물체의 상기 투영된 이미지를 수용하는 폴드 프리즘을 포함하는 위네 다이슨형 광학 투영 시스템이고,
    상기 제 1 플레이트는 상기 물체면과 상기 광학 블록의 상기 제 2 플랫 표면 사이 및 상기 이미지면과 상기 폴드 프리즘의 상기 제 2 플랫 표면 사이중 하나에 위치되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  12. 제 2 항에 있어서, 상기 렌즈 시스템은,
    평면 및 볼록면을 갖는 플라노 렌즈,
    오목면 및 볼록면을 구비하는 메니스커스 렌즈로서, 상기 플라노 렌즈의 상기 볼록면은 상기 메니스커스 렌즈의 상기 오목면과 인접하는 메니스커스 렌즈,
    상기 메니스커스 렌즈의 상기 볼록면으로부터 이격된 오목 구형거울,
    서로에 대하여 실질적으로 평행한 제 1 및 제 2 플랫 표면을 갖고 상기 제 1 플랫 표면은 상기 플라노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부에 인접하고 상기 제 2 플랫 표면은 상기 물체면에 인접하여, 물체로부터 상기 이미지 빔을 수용하고 상기 이미지 빔은 상기 제 1 및 제 2 플랫 표면들 사이에 직접 전달되는, 광학 블록,
    제 1, 제 2 및 제 3 플랫 표면을 갖고 상기 제 1 플랫 표면은 상기 플라노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 인접하고, 상기 제 2 플랫 표면은 상기 이미지면에 접하여 상기 제 3 표면으로부터 반사에 의하여 상기 제 1 및 제 2 플랫 표면 사이에 전송되는 상기 이미지 빔으로부터 물체의 상기 투영된 이미지를 수용하는, 폴드 프리즘을 포함하는 위네 다이슨형 광학 투영 시스템이고,
    상기 제 1 플레이트는 상기 물체면 및 상기 광학 블록의 상기 제 2 플랫면 사이에 위치되고,
    상기 제 2 플레이트는 상기 이미지면 및 상기 폴드 프리즘의 상기 제 2 플랫 표면 사이에 위치되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  13. 제 4 항에 있어서, 상기 렌즈 시스템은,
    평면 및 볼록면을 갖는 플라노 렌즈,
    오목면 및 볼록면을 구비하는 메니스커스 렌즈로서, 상기 플라노 렌즈의 상기 볼록면은 상기 메니스커스 렌즈의 상기 오목면과 인접하는 메니스커스 렌즈,
    상기 메니스커스 렌즈의 상기 볼록면으로부터 이격된 오목 구형거울,
    서로에 대하여 실질적으로 평행한 제 1 및 제 2 플랫 표면을 갖고 상기 제 1 플랫 표면은 상기 플라노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 인접하고고 상기 제 2 플랫 표면은 상기 물체면에 인접하여, 물체로부터 상기 이미지 빔을 수용하고 상기 이미지 빔은 상기 제 1 및 제 2 플랫 표면들 사이에 직접 전달되는 광학 블록,
    제 1, 제 2 및 제 3 플랫 표면을 갖고 상기 제 1 플랫 표면은 상기 플라노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부에 인접하고, 상기 제 2 플랫 표면은 상기 제 3 플랫 표면으로부터 반사에 의하여 상기 제 1 및 제 2 플랫 표면 사이에 전달되는 상기 이미지 빔으로부터 물체의 상기 투영된 이미지를 수용하기 위하여 상기 이미지면에 인접하는, 폴드 프리즘으로 구성되는 위네 다이슨형 광학 투영 시스템이고,
    상기 제 1 플레이트는 상기 물체면 및 상기 광학 블록의 상기 제 2 플랫 표면 사이에 위치되고,
    상기 제 2 플레이트는 상기 이미지면 및 상기 폴드 프리즘의 상기 제 2 플랫 표면 사이에 위치되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  14. 광학 시스템이 물체와 이미지면 사이의 광로를 규정하고, 상기 물체에 대하여 선택된 스큐왜곡을 갖는 투영 이미지로서 이미지 빔을 물체면에서 조명된 물체로부터 이미지면으로 투영하는 광학 시스템으로서,
    상기 물체로부터의 조명을 수용하여 그 이미지를 상기 이미지면상에 생성하도록 배치된 상기 광로내에 장착된, 고정 스큐왜곡을 갖는 렌즈 시스템,
    선택된 두께 및 상기 렌즈 시스템과 광학적으로 적합한 재료를 갖는 제 1 플레이트로서, 그 내부를 통과하는 상기 이미지빔에 제 1 가변 스큐왜곡을 적용하도록 배치되고, 상기 제 1 플레이트의 일점이 고정적으로 장착되어 상기 광로내에 제약되어 있는 제 1 플레이트, 및
    상기 제 1 플레이트를 선택적으로 비틀고, 상기 제 1 플레이트의 변형도에 비례하여 상기 제 1 가변 스큐왜곡을 발생시키는, 상기 제 1 플레이트에 결합된 제 1 액츄에이터를 포함하고,
    상기 제 1 플레이트의 상기 제 1 가변 스큐왜곡은, 상기 제 1 플레이트가 비틀리는 축에 평행 및 수직 방향으로 상기 투영 이미지의 배율이 변하지 않고, 또한, 제 1 플레이트의 비틀림량에 비례하여 상기 투영 이미지의 배율이 상기 평행 및 수직방향에 관한 사분면중 대각선상으로 대향하는 2 개에 대해서는 증가하고 대각선상으로 대향하는 다른 2 개에 대해서는 감소하는 방식으로 상기 선택된 스큐왜곡을 변경시키고, 상기 제 1 투영된 이미지는 상기 선택된 스큐왜곡을 상기 이미지 빔에 적용시킴으로써 상기 렌즈 시스템 및 상기 제 1 플레이트의 조합으로 형성되고, 상기 스큐왜곡은 상기 렌즈 시스템의 상기 고정 왜곡과 상기 제 1 플레이트의 상기 소정의 스큐왜곡의 합인 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  15. 제 14 항에 있어서, 선택된 두께 및 상기 렌즈 시스템과 광학적으로 적합한 재료를 갖는 제 2 플레이트로서, 그 내부를 통과하는 상기 이미지빔에 제 2 가변 스큐왜곡을 적용하도록 배치되고, 상기 제 2 플레이트의 일점이 고정적으로 장착되어 상기 광로내에 제약되어 있는 제 2 플레이트, 및
    상기 제 2 플레이트를 선택적으로 비틀고 상기 제 2 플레이트의 변형도에 비례하여 상기 제 2 가변 스큐왜곡을 발생시키는, 상기 제 2 플레이트에 결합된 제 2 액츄에이터를 더 포함하고,
    상기 제 2 플레이트의 상기 제 2 가변 스큐왜곡은, 상기 제 2 플레이트가 비틀리는 축에 평행 및 수직 방향으로 상기 투영 이미지의 배율이 변하지 않고, 또한 제 2 플레이트의 비틀림량에 비례하여 상기 투영 이미지의 배율이 상기 평행 및 수직방향에 관한 4분면중 대각선상으로 대향하는 2 개에 대해서는 증가하고 대각선상으로 대향하는 다른 2 개에 대해서는 감소하는 방식으로 상기 소정의 스큐왜곡을 변경시키고, 상기 투영된 이미지는 상기 소정의 스큐왜곡을 상기 이미지 빔에 적용시킴으로써 상기 렌즈 시스템 및 상기 제 2 플레이트의 조합으로 형성되고, 상기 스큐왜곡은 상기 렌즈 시스템의 상기 고정왜곡과 상기 제 2 플레이트의 상기 선택된 스큐왜곡의 합인 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  16. 제 15 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 플레이트의 각각은 독립적으로 장착되고, 각 플레이트가 비틀리는 상기 축은 각자가 상기 이미지면에 투영될 때 서로에 대하여 수직방향인 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  17. 제 14 항에 있어서, 상기 렌즈 시스템은,
    평면 및 볼록면을 갖는 플라노 렌즈,
    오목면 및 볼록면을 구비하는 메니스커스 렌즈로서, 상기 플라노 렌즈의 상기 볼록면은 상기 메니스커스 렌즈의 상기 오목면과 인접하는 메니스커스 렌즈,
    상기 메니스커스 렌즈의 상기 볼록면으로부터 이격된 오목 구형거울,
    제 1, 제 2 및 제 3 플랫 표면을 갖고 상기 제 1 플랫 표면은 상기 플라노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 인접하고, 상기 제 2 플랫 표면은 상기 물체면에 인접하여, 상기 물체로부터 상기 이미지 빔을 수용하고 상기 이미지 빔은 상기 제 3 플랫 표면으로부터의 반사에 의하여 상기 제 1 및 제 2 플랫 표면 사이에 전달되는, 제 1 폴드 프리즘,
    제 4, 제 5 및 제 6 플랫 표면을 갖고 상기 제 4 플랫 표면은 상기 플라노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부에 인접하고, 상기 제 5 플랫 표면은 상기 물체면에 인접하여 상기 제 6 플랫 표면으로부터 반사에 의하여 상기 제 4 및 제 5 플랫 표면 사이에 전달되는 상기 이미지 빔으로부터 상기 물체의 상기 투영 이미지를 수용하는 제 2 폴드 프리즘을 포함하는 위네 다이슨형 광학 투영 시스템이고,
    상기 제 1 플레이트는 상기 물체면과 상기 제 1 폴드 프리즘의 상기 제 2 플랫 표면 사이, 및 상기 이미지면과 상기 제 2 폴드 프리즘의 상기 제 5 플랫면 사이중 하나에 위치되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  18. 제 15 항에 있어서, 상기 렌즈 시스템은,
    평면 및 볼록면을 갖는 플라노 렌즈,
    오목면 및 볼록면을 구비하는 메니스커스 렌즈로서, 상기 플라노 렌즈의 상기 볼록면은 상기 메니스커스 렌즈의 상기 오목면에 인접하는 메니스커스 렌즈,
    상기 메니스커스 렌즈의 상기 볼록면으로부터 이격된 오목 구형거울,
    제 1, 제 2 및 제 3 플랫 표면을 갖고 상기 제 1 플랫 표면은 상기 플라노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부에 인접하고, 상기 제 2 플랫 표면은 상기 물체면에 인접하여, 상기 물체로부터 상기 이미지 빔을 수용하고 상기 이미지 빔은 상기 제 3 표면으로부터의 반사에 의하여 상기 제 1 및 제 2 플랫 표면 사이에 전달되는, 제 1 폴드 프리즘,
    제 4, 제 5 및 제 6 플랫 표면을 갖고 상기 제 4 플랫 표면은 상기 플라노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부에 인접하고, 상기 제 5 플랫 표면은 상기 이미지면에 인접하여 상기 제 6 플랫 표면으로부터 반사에 의하여 상기 제 4 및 제 5 플랫 표면 사이에 전달되는 상기 이미지 빔으로부터 상기 물체의 상기 투영 이미지를 수용하는, 제 2 폴드 프리즘을 포함하는 위네 다이슨형 광학 투영 시스템이고,
    상기 제 1 플레이트는 상기 물체면과 상기 제 1 폴드 프리즘의 상기 제 2 플랫 표면 사이에 위치되고,
    상기 제 2 플레이트는 상기 이미지면과 상기 제 2 폴드 프리즘의 상기 제 5 플랫면 사이에 위치되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  19. 제 14 항에 있어서, 상기 렌즈 시스템은,
    평면 및 볼록면을 갖는 플라노 렌즈,
    오목면 및 볼록면을 구비하는 메니스커스 렌즈로서, 상기 플라노 렌즈의 상기 볼록면은 상기 메니스커스 렌즈의 상기 오목면에 인접하는 메니스커스 렌즈,
    상기 메니스커스 렌즈의 상기 볼록면으로부터 이격된 오목 구형거울,
    서로에 대하여 실질적으로 평행한 제 1 및 제 2 플랫 표면을 갖고 상기 제 1 플랫 표면은 상기 플라노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부와 인접하고 상기 제 2 플랫 표면은 상기 물체 평면에 인접하여, 물체로부터 상기 이미지 빔을 수용하고 상기 이미지 빔은 상기 제 1 및 제 2 플랫 표면들 사이에 직접 전달되는, 광학 블록,
    제 1, 제 2 및 제 3 플랫 표면을 갖고 상기 제 1 플랫표면은 상기 플라노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부에 인접하고, 상기 제 2 플랫 표면은 상기 제 3 플랫 표면으로부터 반사에 의하여 상기 제 1 및 제 2 플랫 표면 사이에 전달되는 상기 이미지 빔으로부터 물체의 상기 투영된 이미지를 수용하기 위하여 상기 이미지면에 인접하는, 폴드 프리즘을 포함하는 위네 다이슨형 광학 투영 시스템이고,
    상기 제 1 플레이트는 상기 물체면과 상기 광학 블록의 상기 제 2 플랫 표면 사이, 및 상기 이미지면과 상기 폴드 프리즘의 상기 제 2 플랫 표면 사이중 하나에 위치되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  20. 제 15 항에 있어서, 상기 렌즈 시스템은,
    평면 및 볼록면을 갖는 플라노 렌즈,
    오목면 및 볼록면을 구비하는 메니스커스 렌즈로서, 상기 플라노 렌즈의 상기 볼록면은 상기 메니스커스 렌즈의 상기 오목면에 인접하는 메니스커스 렌즈,
    상기 메니스커스 렌즈의 상기 볼록면으로부터 이격된 오목 구형거울,
    서로에 대하여 실질적으로 평행한 제 1 및 제 2 플랫 표면을 갖고 상기 제 1 플랫 표면은 상기 플라노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부에 인접하고 상기 제 2 플랫 표면은 상기 물체면에 인접하여, 물체로부터 상기 이미지 빔을 수용하고 상기 이미지 빔은 상기 제 1 및 제 2 플랫 표면들 사이에 직접 전달되는, 광학 블록,
    제 1, 제 2 및 제 3 플랫 표면을 갖고 상기 제 1 플랫 표면은 상기 플라노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부에 인접하고, 상기 제 2 플랫 표면은 상기 제 3 플랫 표면으로부터 반사에 의하여 상기 제 1 및 제 2 플랫 표면 사이에 전송되는 상기 이미지 빔으로부터 물체의 상기 투영된 이미지를 수용하기 위하여 상기 이미지면에 인접하는, 폴드 프리즘을 포함하는 위네 다이슨형 광학 투영 시스템이고,
    상기 제 1 플레이트는 상기 물체면 및 상기 광학 블록의 상기 제 2 플랫 표면 사이에 위치되고,
    상기 제 2 플레이트는 상기 이미지면 및 상기 폴드 프리즘의 상기 제 2 플랫 평면 사이에 위치되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  21. 광학 시스템은, 물체와 이미지면 사이의 광로를 규정하고 상기 물체에 대하여 선택된 배율과 스큐왜곡을 갖는 투영 이미지로서 이미지 빔을 물체면에서 조명된 물체로부터 이미지면으로 투영하기 위한 광학 시스템으로서,
    상기 물체로부터의 조명을 수용하여 그 이미지를 상기 이미지면상에 생성하도록 배치된 상기 광로내에 장착되고, 고정배율 및 스큐왜곡을 갖는 렌즈 시스템,
    상기 광로내에서 상기 렌즈 시스템에 대한 제 1, 제 2 및 제 3 고정 지점들,
    두 개의 평행 대향 에지들을 규정하는 평행한 상면 및 하면을 구비하고, 그 내부를 통과하는 상기 이미지 빔에 제 1 가변 배율 및 제 1 가변 스큐왜곡중 적어도 하나를 적용시키도록 배치되고 상기 렌즈 시스템에 광학적으로 적합하며, 상기 광학 시스템의 광축에 수직인, 선택된 두께 및 재료의 제 1 플레이트, 및
    상기 제 1 플레이트에 결합되고, 상기 제 1 플레이트를 선택적으로 굴곡시키고 비틀도록 배치되고, 상기 제 1 플레이트의 변형도 및 형태에 비례하여 상기 제 1 가변 배율 및 상기 제 1 가변 스큐왜곡중 적어도 하나를 발생시키는 제 1 액츄에이터를 포함하고, 상기 제 1 액츄에이터는,
    대향 단부에 있는 두 개의 단부 및 그 사이의 회전축을 규정하고, 상기 제 1 플레이트의 상기 두 개의 평행 대향 에지들중 하나에 결합되고 이를 따라서 동작하며, 상기 두 개의 단부들 각각은 상기 회전축에 평행한 굴곡축을 따라서 상기 제 1 플레이트의 굴곡을 허용하도록 상기 제 1 및 제 2 고정 지점들 사이에 스위벨적으로 제한되는, 선택된 축길이의, 제 1 스티프 리브,
    상기 제 1 플레이트 및 제 1 스티프 리브의 종방향 축으로부터 연장하는 상기 제 1 스티프 리브에 고정된 제 1 레버 아암,
    상기 제 1 플레이트의 상기 두 개의 평행 대향 에지들중 제 2 에지에 결합되고 이를 따라서 연장하며, 상기 제 1 스티프 리브의 회전축에 수직인 축을 따라서 상기 제 1 플레이트의 비틀림을 허용하도록 그의 상기 축길이에 수직인 상기 제 3 고정 지점들로 스위벨적으로 제한되는 제 2 스티프 리브,
    상기 제 1 플레이트의 상기 두 개의 평행 대향 에지에 평행 방향으로 상기제 2 플레이트로부터 연장하는 상기 제 2 스티프 리브에 고정된 제 2 레버 아암,
    상기 제 1 및 제 2 고정 지점들 사이에 상기 제 1 스티프 리브의 상기 종방향축 주위에 회전을 선택적으로 야기시키도록 상기 제 1 레버 아암에 결합되고 상기 제 1 플레이트는 그에 반응하여 필연적으로 상기 제 3 고정지점 주위에 회전하는, 제 1 콘트롤러,
    상기 제 3 고정지점 주위에 상기 제 2 스티프 리브의 회전을 선택적으로 야기시키도록 상기 제 2 레버 아암에 결합되고 상기 제 1 플레이트는 그에 반응하여 필연적으로 상기 제 1 및 제 2 고정지점들 주위에 회전하는, 제 2 콘트롤러를 포함하며,
    상기 제 1 플레이트의 상기 선택 굴곡 및 비틀림은 상기 투영 이미지내에서 양 또는 음으로 상기 제 1 플레이트의 제 1 배율 및 제 1 스큐왜곡을 변화시키고 상기 투영 이미지내의 배율 및 스큐왜곡은 상기 렌즈 시스템의 고정배율 및 스큐 이미지와 상기 제 1 플레이트의 상기 선택된 제 1 배율 및 제 1 스큐왜곡의 조합인 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  22. 제 21 항에 있어서,
    상기 광로내 상기 렌즈 시스템에 대한 제 4, 제 5 및 제 6 고정지점들,
    두 개의 평행 대향 에지들을 규정하는 평행한 상면 및 하면을 구비하고, 상기 렌즈 시스템에 광학적으로 적합하고, 그 내부를 통과하는 상기 이미지 빔에 제 2 가변 배율 및 제 2 가변 스큐왜곡중 적어도 하나를 적용시키도록 배치되며 광학시스템의 광축에 수직인, 선택된 두께 및 재료의 제 2 플레이트,
    상기 제 2 플레이트에 결합되고, 상기 제 2 플레이트를 선택적으로 굴곡시키고 비틀도록 배치되고, 상기 제 2 플레이트의 변형도에 비례하여 상기 제 2 가변 배율 및 상기 제 2 가변 스큐왜곡중 적어도 하나를 발생시키는 제 2 액츄에이터를 더 포함하고, 상기 제 2 액츄에이터는,
    대향 단부에 있는 두 개의 단부 및 그 사이의 회전축을 규정하고, 상기 제 2 플레이트의 상기 두 개의 평행 대향 에지들중 하나에 결합되고 이를 따라서 연장하며, 상기 제 2 스티프 리브의 상기 두 개의 단부들은 각각 상기 회전축에 평행한 굴곡축을 따라서 상기 제 2 플레이트의 굴곡을 허용하도록 상기 제 4 및 제 5 고정지점들 사이에 스위벨적으로 제한되는, 선택된 축길이의 제 3 스티프 리브,
    상기 제 2 플레이트 및 상기 제 3 스티프 리브의 종방향 축으로부터 연장하는 상기 제 3 스티프 리브에 고정된 제 3 레버 아암,
    상기 제 2 플레이트의 상기 두 개의 평행 대향 에지들중 제 2 에지에 결합되고 이를 따라서 동작하며, 상기 제 3 스티프 리브의 상기 회전축에 수직인 축을 따라서 상기 제 2 플레이트의 비틀림을 허용하도록 그의 상기 축길이에 수직인 상기 제 6 고정지점에 스위벨적으로 제한되는, 선택된 축길이의 제 4 스티프 리브,
    상기 제 2 플레이트의 상기 두 개의 평행 대향 에지에 평행 방향으로 상기 제 2 플레이트로부터 연장하는 상기 제 3 스티프 리브에 고정된 제 3 레버 아암,
    상기 제 4 및 제 5 고정지점들 사이에 상기 제 3 스티프 리브의 상기 종방향축 주위에 회전을 선택적으로 야기시키도록 상기 제 3 레버 아암에 결합되고, 상기제 2 플레이트는 그에 반응하여 필연적으로 상기 제 6 고정지점 주위에서 회전하는, 제 3 콘트롤러,
    상기 제 6 고정지점 주위에서 상기 제 4 스티프 리브의 회전을 선택적으로 야기시키도록 상기 제 4 레버 아암에 결합되고, 상기 제 2 플레이트는 그에 반응하여 필연적으로 상기 제 4 및 제 5 고정지점들 주위에서 회전하는, 제 4 콘트롤러를 포함하며,
    상기 제 2 플레이트의 상기 선택 굴곡 및 비틀림은 상기 투영 이미지내에서 양 또는 음으로 상기 제 2 플레이트의 배율 및 스큐왜곡을 변화시키고 상기 투영 이미지내의 배율 및 스큐왜곡은 상기 렌즈 시스템의 고정된 배율 및 스큐 이미지와 상기 제 1 플레이트의 상기 선택된 제 1 배율 및 제 1 스큐왜곡과 상기 제 2 플레이트의 상기 선택된 제 2 배율 및 제 2 스큐왜곡의 조합인 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  23. 제 22 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 플레이트의 각각은 독립적으로 장착되고, 각 플레이트가 굴곡되는 상기 축은, 각자가 상기 이미지 평면에 투영될 때, 서로에 대해 수직방향인 것을 특징으로 하는 광학 시스템,
  24. 이미지빔을, 물체면에 있는 조명된 물체로부터 투영된 이미지로서 기판상에 이미지면으로 투영시키고, 상기 투영된 이미지는 상기 물체와 비교하여 실질적으로 1:1 배율을 갖고, 상기 광학 시스템은 상기 물체와 이미지면들 사이의 광로를 규정하고, 상기 이미지면에 있는 상기 기판은 그의 예비 성형된 패턴을 가질 수 있는 위네 다이슨형 광학 시스템으로서,
    평면 및 볼록면을 갖는 플라노 렌즈,
    오목면 및 볼록면을 구비하는 메니스커스 렌즈로서, 상기 플라노 렌즈의 상기 볼록면은 상기 메니스커스 렌즈의 상기 오목면에 인접하는 메니스커스 렌즈,
    상기 메니스커스 렌즈의 상기 볼록면으로부터 이격된 오목 구형거울,
    서로에 대하여 실질적으로 평행한 제 1 및 제 2 플랫 표면을 갖고 상기 제 1 플랫 표면은 상기 플라노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부에 인접하고 상기 제 2 플랫 표면은 상기 물체면에 인접하여, 물체로부터 상기 이미지 빔을 수용하고 상기 이미지 빔은 상기 제 1 및 제 2 플랫 표면들 사이에 직접 전달되는, 광학 블록
    제 1 및 제 2 플랫 표면을 갖고, 상기 제 1 플랫 표면은 상기 플라노 렌즈의 상기 플랫 표면의 일부에 인접하고, 상기 제 2 플랫 표면은 제 3 표면으로부터의 반사에 의해서 상기 제 1 및 제 2 플랫 표면 사이에서 전달된 이미지로부터 물체의 상기 투영된 이미지를 수용하기 위하여 상기 이미지면에 인접하는, 폴드 프리즘을 포함하는 것을 특징으로 하는 위네 다이슨형 광학 시스템.
  25. 제 24 항에 있어서, 상기 광학 블록은 상기 광학블록의 제 1 및 제 2 플랫 표면 사이에 대각선상으로 연장하는 빔 스플릿팅 표면과, 상기 광학 블록의 상기 제 1 및 제 2 플랫 표면의 각각의 에지를 규정하며 그들 사이에서 연장하는 상기 광학 블록의 제 3 표면을 포함하고, 상기 빔 스플릿팅 표면은 노광 조명을 최소한으로 감쇠시키고 입사하는 광의 선택된 일부를 상기 광학 블록의 상기 제 3 플랫 표면으로 반사시키도록 선택된 이색성 코팅을 갖고, 상기 광학 블록의 상기 제 3 표면에 반사된 상기 광은 정렬용으로 사용된 스펙트럼의 선택된 부분의 광을 포함하는 것을 특징으로 하는 위네 다이슨형 광학 시스템.
  26. 제 25 항에 있어서, 상기 시스템의 사용자가 상기 빔 스플릿팅 표면으로부터 그곳에 반사된 광에 의해서 형성된 이미지를 관찰할 수 있도록 상기 광학 블록의 상기 제 3 플랫 표면에 인접한 현미경을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 위네 다이슨형 광학 시스템.
  27. 제 26 항에 있어서, 상기 광학 시스템을 통하여 그곳으로부터 반사된 광을 관찰함으로써 상기 이미지면에 위치된 상기 기판상의 상기 예비성형된 패턴을 사용자가 관찰할 수 있도록 허용하기 위하여 상기 빔 스플릿팅 표면에 의해서 반사되고 상기 이미지면에 전달된 상기 광학 블록의 제 3 플랫 표면을 통하여 빛을 투영하기 위해서 상기 광학 블록의 상기 제 3 플랫 표면에 인접한 광원을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 위네 다이슨형 광학 시스템.
  28. 제 26 항에 있어서, 상기 현미경은 상기 광학 블록의 상기 제 2 플랫 표면에 인접한 상기 물체로부터의 조명이 그로부터 반사된 광에 의하여 상기 이미지면으로 전달될 때 상기 이미지면에 있는 상기 예비성형된 패턴과 상기 투영된 이미지와의중첩을 관찰하기 위하여 사용될 수 있는 것을 특징으로 하는 위네 다이슨형 광학 시스템.
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Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5815245A (en) * 1995-03-22 1998-09-29 Etec Systems, Inc. Scanning lithography system with opposing motion
US5739964A (en) * 1995-03-22 1998-04-14 Etec Systems, Inc. Magnification correction for small field scanning
DE19639586A1 (de) * 1996-09-26 1998-04-02 Zeiss Carl Fa Katadioptrisches Mikrolithographie-Reduktionsobjektiv
JP3031375B2 (ja) 1998-04-23 2000-04-10 キヤノン株式会社 レンズ鏡筒及びそれを用いた投影露光装置
JP4235778B2 (ja) * 1998-05-21 2009-03-11 株式会社ニコン 投影光学系、投影光学装置、走査型露光装置、光加工方法および露光方法
DE19827603A1 (de) 1998-06-20 1999-12-23 Zeiss Carl Fa Optisches System, insbesondere Projektions-Belichtungsanlage der Mikrolithographie
US6219083B1 (en) * 1998-11-25 2001-04-17 Eastman Kodak Company Laser mode hop fix
DE19859634A1 (de) * 1998-12-23 2000-06-29 Zeiss Carl Fa Optisches System, insbesondere Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie
JP2001128038A (ja) * 1999-10-27 2001-05-11 Canon Inc 撮像ユニットおよびこれを備えた装置、テレビ電話、携帯端末、コンピュータ、車載カメラ、監視カメラ、内視鏡
US7301605B2 (en) * 2000-03-03 2007-11-27 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method, catadioptric optical system and manufacturing method of devices
JP3413160B2 (ja) * 2000-06-15 2003-06-03 キヤノン株式会社 照明装置及びそれを用いた走査型露光装置
US6937394B2 (en) 2001-04-10 2005-08-30 Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag Device and method for changing the stress-induced birefringence and/or the thickness of an optical component
JP3728301B2 (ja) * 2003-05-30 2005-12-21 株式会社オーク製作所 投影光学系
JP4195674B2 (ja) * 2004-03-31 2008-12-10 株式会社オーク製作所 投影光学系および投影露光装置
JP4816460B2 (ja) * 2004-12-16 2011-11-16 株式会社ニコン 投影光学系、露光装置、露光システム及び露光方法
JP2009210960A (ja) * 2008-03-06 2009-09-17 Adtec Engineeng Co Ltd レーザ直接描画装置
US8553207B2 (en) * 2008-12-31 2013-10-08 Asml Holdings N.V. Optically compensated unidirectional reticle bender
US8922750B2 (en) * 2009-11-20 2014-12-30 Corning Incorporated Magnification control for lithographic imaging system
WO2013174646A1 (en) * 2012-05-24 2013-11-28 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20140031665A1 (en) * 2012-07-25 2014-01-30 Covidien Lp Telecentric Scale Projection System for Real-Time In-Situ Surgical Metrology
US9341951B2 (en) * 2012-12-21 2016-05-17 Ultratech, Inc. Wynn-dyson imaging system with reduced thermal distortion
US10908504B2 (en) 2017-06-08 2021-02-02 Optical Associates, Inc. Imager for lithographic reproduction
PT3642674T (pt) * 2017-06-19 2023-05-02 Suss Microtec Solutions Gmbh & Co Kg Compensação de ampliação e/ou direcionamento de feixe em sistemas óticos
US11175487B2 (en) 2017-06-19 2021-11-16 Suss Microtec Photonic Systems Inc. Optical distortion reduction in projection systems

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4156561A (en) * 1962-07-25 1979-05-29 Bell & Howell Company Desk level overhead projector
US4034398A (en) * 1975-08-27 1977-07-05 Electro-Optiek, N.V. Optical and mechanical improvements for television projection system
US4171871A (en) * 1977-06-30 1979-10-23 International Business Machines Corporation Achromatic unit magnification optical system
US4391494A (en) * 1981-05-15 1983-07-05 General Signal Corporation Apparatus for projecting a series of images onto dies of a semiconductor wafer
CA1171555A (en) * 1981-05-15 1984-07-24 Ronald S. Hershel Apparatus for projecting a series of images onto dies of a semiconductor wafer
US4444492A (en) * 1982-05-15 1984-04-24 General Signal Corporation Apparatus for projecting a series of images onto dies of a semiconductor wafer
US4773748A (en) * 1984-10-09 1988-09-27 Hughes Aircraft Company Dynamically controlled mirror for reduction of projected image distortion
JPS61278141A (ja) * 1985-05-31 1986-12-09 Canon Inc 投影倍率調整方法
US4863263A (en) * 1987-02-13 1989-09-05 Minolta Camera Kabushiki Kaisha Overhead projector
US4964705A (en) * 1988-11-07 1990-10-23 General Signal Corporation Unit magnification optical system
US5303001A (en) * 1992-12-21 1994-04-12 Ultratech Stepper, Inc. Illumination system for half-field dyson stepper
US5329332A (en) * 1992-12-21 1994-07-12 Ultratech Stepper, Inc. System for achieving a parallel relationship between surfaces of wafer and reticle of half-field dyson stepper
US5402205A (en) * 1992-12-21 1995-03-28 Ultratech Stepper, Inc. Alignment system for a Half-Field Dyson projection system

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Publication number Publication date
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