JP2023549972A - 視野ファセットシステム及びリソグラフィ装置 - Google Patents

Abstract

本発明は、リソグラフィ装置（１００Ａ、１００Ｂ）用の視野ファセットシステム（３００Ａ、３００Ｂ、３００Ｃ、３００Ｄ、３００Ｅ）であって、光反射性の光学有効面（３０８）を有する弾性変形可能なファセット部（３０６）を含む光学素子（３０２）と、光学有効面（３０８）の曲率半径（Ｋ１、Ｋ２）を変えるようにファセット部（３０６）を変形させるためにファセット部（３０６）に曲げモーメント（Ｂ１、Ｂ２）を導入する少なくとも１つの作動素子（３２４、３２６、３５０、３５２）とを備え、ファセット部（３０６）は、光学有効面（３０８）の平面図で弧状に湾曲しており、ファセット部（３０６）の剛性が、ファセット部（３０６）への曲げモーメント（Ｂ１、Ｂ２）の導入時に光学有効面（３０８）に対して垂直な向きの法線ベクトル（Ｎ）が専ら空間方向（ｘ）のまわりで傾くように、ファセット部（３０６）の長手方向（Ｌ１、Ｌ２）に沿って見ると可変である視野ファセットシステムに関する。

Description

本発明は、リソグラフィ装置用の視野ファセットシステム及び当該ファセットシステムを含むリソグラフィ装置に関する。

独国特許出願公開第１０ ２０２０ ２１４ ７９８．１号の内容の全体を参照により援用する。

マイクロリソグラフィは、例えば集積回路等の微細構造コンポーネントの製造に用いられる。マイクロリソグラフィプロセスは、照明系及び投影系を有するリソグラフィ装置を用いて実行される。この場合、照明系により照明されたマスク（レチクル）の像を、投影系により、感光層（フォトレジスト）で被覆されて投影系の像平面に配置された基板、例えばシリコンウェーハに投影することで、マスク構造を基板の感光コーティングに転写するようにする。

集積回路の製造における構造のさらなる小型化が望まれることにより、０．１ｎｍ～３０ｎｍの範囲、特に１３．５ｎｍの波長を有する光を用いるＥＵＶリソグラフィ装置（極紫外線、ＥＵＶ）が現在開発中である。このようなＥＵＶリソグラフィ装置の場合、ほとんどの材料がこの波長の光に対して高い吸収を示すので、以前のような屈折光学ユニット、すなわちレンズ素子の代わりに、反射光学ユニット、すなわちミラーを用いなければならない。当該ミラーは、略垂直入射で又は斜入射で動作する。

照明系は、特に、視野ファセットミラー及び瞳ファセットミラーを含む。視野ファセットミラー及び瞳ファセットミラーは、いわゆるファセットミラーの形態とすることができ、このようなファセットミラーは、それぞれ数百個ものファセットを有することが多い。視野ファセットミラーのファセットは、「視野ファセット」とも称し、瞳ファセットミラーのファセットは、「瞳ファセット」とも称する。複数の瞳ファセットを１つの視野ファセットに割り当てることができる。高開口数と共に良好な照明を得るために、上記１つの視野ファセットをそれに割り当てられた瞳ファセット間で切り替えることが望ましい。

上記１つの視野ファセットが切替可能であることにより、上記１つの視野ファセットとそれに割り当てられた瞳ファセットとの間の距離は切替位置毎に異なる。上記１つの視野ファセットの屈折力が固定されているとすれば、対応する瞳ファセット上の像が切替位置に応じてデフォーカスされ得る。このデフォーカスにより、瞳充填度の低減が制限される。この場合、ここでの「瞳充填度」は、各瞳ファセットの全光学有効面積に対する照射表面積の比を意味すると理解されたい。しかしながら、投影系の高分解能を得るために、瞳充填度をさらに低減する必要がある。したがって、少なくともデフォーカスを減らすか又は完全になくすために、視野ファセットの切替位置に応じて視野ファセットを変形可能にすることが望ましい。

特許文献１は、ＥＵＶリソグラフィ装置用のＥＵＶ照明系、リソグラフィ装置、及びＥＵＶ照明系により照明放射線を発生させる方法も記載している。

特許文献２は、投影露光装置用のファセットミラー、対応する投影露光装置、及びファセットミラーと対応する投影露光装置の動作方法を開示している。

特許文献３は、光軸を有する光学素子、及び当該光学素子に２波動又は多波動変形を導入する装置を記載している。

独国特許出願公開第１０ ２０１７ ２２１ ４２０号明細書 独国特許出願公開第１０ ２０１３ ２０６ ９８１号明細書 独国特許出願公開第１０１ ５１ ９１９号明細書

こうした背景から、本発明の目的は、改良された視野ファセットシステムを提案することである。

したがって、リソグラフィ装置用の視野ファセットシステムが提案される。視野ファセットシステムは、光反射性の光学有効面を有する弾性変形可能なファセット部を含む光学素子と、光学有効面の曲率半径を変えるようにファセット部を変形させるためにファセット部に曲げモーメントを導入する少なくとも１つの作動素子とを含み、ファセット部は、光学有効面の平面図で弧状に湾曲しており、ファセット部の剛性は、ファセット部の長手方向に沿って見ると、ファセット部への曲げモーメントの導入時に光学有効面に対して垂直な向きの法線ベクトルが専ら１つの空間方向のまわりで傾くような態様で、可変である。

ファセット部の剛性が可変である結果として、曲げモーメントの導入時にファセット部が捩れるのではなく曲がるだけとなることが有利であり得る。

視野ファセットシステムは、特にリソグラフィ装置のビーム整形・照明系の一部である。特に、視野ファセットシステムは、ファセットミラーの、特に視野ファセットミラーの一部である。このようなファセットミラーは、直線状に又はパターンの形状で配置された複数のかかる視野ファセットシステムを含むことが好ましい。この場合、各視野ファセットシステムは、単独で複数の異なる傾斜位置に傾斜することができる。この目的で、各視野ファセットシステムは、視野ファセットシステム全体を１つのユニットとして傾斜させるのに適したさらに別の作動素子を含み得る。上記作動素子は、いわゆるローレンツアクチュエータであり得る。

光学素子は、好ましくはファセット、ミラーファセット、又は視野ファセットであるか、又はそのように呼ぶことができる。ファセット部は、特に棒状又は梁状であり、矩形、台形、又は任意の他の幾何学的形状の断面を有し得る。ファセット部は、例えば幅、長さ、及び厚さを有する。長さ対幅の比は、約１０：１であることが好ましい。厚さは、幅よりも小さいことが好ましい。第１空間方向又はｘ方向、第２空間方向又はｙ方向、及び第３空間方向又はｚ方向を有する座標系が、視野ファセットシステムに割り当てられる。空間方向は、相互に対して垂直に位置決めされる。

幅は、ｘ方向に沿った向きである。したがって、ｘ方向は、幅方向とも称することができる。長さは、ｙ方向に沿った向きである。したがって、ｙ方向は、長手方向又は長さ方向とも称することができる。厚さは、ｚ方向に沿った向きである。したがって、ｚ方向は、厚さ方向又は垂直方向とも称することができる。「長さ方向」は、特に光学素子が幾何学的に最も長く延びる空間方向を意味すると理解されたい。

光学素子は、ミラー基板又は基板から製造される。基板は、特に銅、特に銅合金、鉄－ニッケル合金、例えばインバー等、又は他の何らかの適当な材料を含み得る。光学有効面は、ファセット部の前面、すなわち本体とは反対側に設けられる。光学有効面は、ミラー面であり得る。光学有効面は、基板に塗布されたコーティングを用いて作られる。

光学有効面は、光、特にＥＵＶ放射線を反射するのに適している。しかしながら、これは、光の少なくとも一部がファセット部に吸収される結果として熱がファセット部に導入されることを排除するものではない。ファセット部又は光学有効面は、平面図で、すなわち光学有効面に対して垂直な視線方向で弧状又は三日月状の幾何学的形状を有する。

光学有効面は曲面であることが好ましい。最も単純な場合には、光学有効面は円筒状の曲面である。しかしながら、光学有効面の形状は、トロイダル面又は楕円面であることもできる。トロイダル状の幾何学的形状が与えられる場合、これは頂点を有する。好ましくは、光学有効面は、ｙ方向及びｚ方向に広がる平面内の光学有効面の曲率を示す第１曲率半径を含む。

さらに、光学有効面は、第１曲率半径とは異なりｘ方向及びｚ方向に広がる平面内の光学有効面の曲率を示す第２曲率半径を含む。第１曲率半径及び第２曲率半径は、相互に対して垂直に位置決めされる。曲率半径は、特に上記頂点で交わる。第１曲率半径は、第２曲率半径よりも大きいことが好ましい。特に、第１曲率半径は、ファセット部の変形を用いて変更される。しかしながら、１つ又は複数の作動素子の配置に応じて、第２曲率半径も影響を受ける場合がある。

作動素子はアクチュエータと称することができる。好ましくは、少なくとも２つの作動素子が設けられる。しかしながら、３個、４個、５個、６個、７個、８個、９個、１０個、又は１１個の作動素子を設けることも可能である。１２個以上の作動素子も可能である。作動素子を１つだけ設けることも可能である。すなわち、原理上は作動素子の数は任意である。作動素子は、いわゆる変位アクチュエータであることが好ましい。「変位アクチュエータ」は、フォースアクチュエータとは異なり、固定の力ではなく変位を予め規定する作動素子を意味すると理解されたい。これに対して、「フォースアクチュエータ」は、変位アクチュエータとは対照的に、固定の変位ではなく力を予め規定する作動素子を意味すると理解されたい。変位アクチュエータの一例はピエゾ素子である。フォースアクチュエータの一例は、すでに上述したようにローレンツアクチュエータである。すなわち、作動素子はピエゾ素子又はピエゾスタックであり得るか又はピエゾ素子又はピエゾスタックを含み得る。しかしながら、作動素子は、例えば空気圧式又は油圧式アクチュエータでもあり得る。

制御ユニットが、１つ又は複数の作動素子に割り当てられることが好ましく、そうすることで、作動素子がファセット部を変形させるようにこれらが制御され、特に通電される。例として、作動素子は、通電を用いて非撓み状態から撓み状態にされる。任意の数の中間状態が、非撓み状態と撓み状態との間に設けられる。作動素子は、通電されなくなるとすぐに、撓み状態から非撓み状態に自動的に戻ることが好ましい。曲率半径、特に第１曲率半径又は第１曲率半径及び第２曲率半径は、作動素子を用いて無段階で変えることができることが好ましい。

ファセット部が「弾性変形可能」であることは、この場合、ファセット部を非撓み又は非変形状態から撓み又は変形状態に変化させ、また戻すことができることを意味する。非変形状態では、曲率半径、特に第１曲率半径は、変形状態よりも大きい可能性がある。ファセット部を非変形状態から変形状態にするために、作動素子を用いて曲げモーメントがファセット部に導入される。例として、２つの逆向きの曲げモーメントがファセット部の２つの端部領域に導入される。しかしながら、以下では一方の曲げモーメントにのみ言及する。

曲げモーメントがファセット部に加わらなくなるとすぐに、ファセット部は変形状態から非変形状態に自動的に変形する。すなわち、ファセット部の変形は可逆的である。特に、ファセット部は、非変形状態の方向にプレストレスを与えられ、特にばねでプレストレスを与えられる。非変形状態では、光学有効面は、平面であり得るか又は円筒曲率を有し得る。

上述のように、平面図は、光学有効面に対して垂直な視線方向を意味すると理解されたい。この場合、「剛性」は、力又はモーメントに起因する弾性変形に対するファセット部又は概ね本体の抵抗力を特に意味すると理解されたい。特に、「剛性」は、ファセット部の捩り剛性、すなわちファセット部を捻るか又はファセット部に捩りを加える捩りモーメントに耐える剛性を意味すると理解されたい。コンポーネントの剛性は、第１に材料の弾性特性、例えば弾性率等、第２に変形したコンポーネントの幾何学的形状に応じて変わる。

剛性が可変であることにより、ファセット部への曲げモーメントの導入時にファセット部が捩れない、すなわち第２空間方向のまわりで捩れないようにすることができる。これにより、法線ベクトルが第２空間方向のまわりで傾くのが防止される。この場合、「法線ベクトル」は、光学有効面に対して垂直な向きのベクトルを意味すると理解されたい。曲げモーメントは、第１空間方向のまわりで作用する。この場合、「専ら」は、第２空間方向に関する法線ベクトルの傾きも僅かではあるが許容されるようなものと特に理解されたい。しかしながら、この傾きは常に非常に小さいので、光学有効面の光学特性は不利な影響を受けない。

曲げモーメントは、ファセット部を曲げるだけであり、特にこれを捩る又は捻ることはないことが好ましい。長手方向は、実質的に第２空間方向に沿って延びる。この場合、長手方向は、ファセット部自体のように湾曲させることができる。ファセット部は、第１端部領域及び第２端部領域を有することが好ましく、これらに逆向きの曲げモーメントを導入することができる。ファセット部の対称面が、端部領域間の中央に設けられる。長手方向は、各端部領域から対称面への向きである。

好ましくは、本体及びファセット部は一体に、特に物質的に一体に具現される。この場合、「一体に」又は「一体的に」は、本体及びファセット部が共通のコンポーネントを形成するものであり、異なるコンポーネント部品からなるものではないことを意味する。この場合、「物質的に一体に」は、本体及びファセット部が全体的に同じ材料から製造されることを意味する。代替として、本体及びファセット部は、相互に接続される２つの別個のコンポーネントであってもよい。

一実施形態によれば、ファセット部の弾性率は、長手方向に沿って見ると可変である。

例として、弾性率は、端部領域から対称面の方向に向かうほど減少し得る。したがって、弾性率のプロファイル又は勾配が与えられる。この場合、勾配は、数値的な物理変数の変化のプロファイルを場所の関数として示す。変数の勾配は、変数の変化の程度及び変化が最大である方向を場所毎に示す。上述の弾性率の変化は、２つ以上の異なる材料からなるモノリシックに製造されたベース体の、特にファセット部の使用により得ることができる。この場合、上記ベース体がファセット部を形成するか、又はファセット部がベース体から製造される。ベース体は、本体も含み得る。このようなベース体は、溶接、めっき、又は好ましくは積層造形、特に３Ｄプリンティングにより、異なる材料、特に金属粉末から製造することができる。特に積層造形法により、２つの異なる材料間、例えば銅及び鋼鉄間で連続的に移行するハイブリッドコンポーネント、特にファセット部を製造することができる。したがって、少なくともファセット部は、特に鋼鉄及び銅からなるハイブリッド構成を有し得る。本体もこのようなハイブリッド構成を有することができる。

さらに別の実施形態によれば、ファセット部の断面の極断面係数は、長手方向に沿って見ると可変である。

可変の弾性率と可変の極断面係数との組み合わせを提供することもできる。極断面係数は、荷重時の内部応力の発生に対する梁による抵抗力の測度である。極断面係数は、断面の幾何学的形状の影響を受け得る。例として、極断面係数は、ファセット部の端部領域から対称面の方向に向かうほど減少し得る。

さらに別の実施形態によれば、断面は台形である。

ファセット部の断面は、特に台形の断面のみに限定されるのではなく、少なくとも２つの可変の断面パラメータ、例えば幅及び高さ等を有する任意の幾何学的形状を有し得る。矩形、三角形、半楕円、角を切り落とした矩形、又は他のより複雑な断面が例えば考えられる。

さらに別の実施形態によれば、断面は、光学有効面に面する第１幅及び光学有効面とは反対側の第２幅を含み、第１幅は第２幅よりも大きい。

すなわち、断面は光学有効面から先細りになる。ファセット部は、特に、光学有効面が設けられた上面と、下面とを有する。上面は第１幅を有する。下面は第２幅を有する。

さらに別の実施形態によれば、第１幅は長手方向に沿って見ると一定であり、第２幅は長手方向に沿って見ると可変である。

すなわち、第１幅は特に、変化せずに可変でもない。例として、第２幅は、端部領域から対称面に向かうほど減少する。

さらに別の実施形態によれば、断面は、長手方向に沿って見ると可変である高さを含む。

高さは、特に第３空間方向に沿った向きである。例として、高さは、ファセット部の端部領域から対称面に向かうほど減少する。

さらに別の実施形態によれば、ファセット部は、第１端部領域及び第２端部領域を含み、ファセット部は、第１端部領域と第２端部領域との間の中央に配置された対称面に対して鏡面対称に構成される。

鏡面対称は、ファセット部の幾何学的構成、すなわち寸法に関する。しかしながら、鏡面対称は、ファセット部の剛性にも関係する。例として、ファセット部は、その対称面の両側で対称面から所定の距離において同一の剛性を有する。

さらに別の実施形態によれば、断面は対称面で最小である。

特に、断面の断面積は対称面で最小である。

さらに別の実施形態によれば、断面は、対称面から第１端部領域の方向及び第２端部領域の方向に向かうほどサイズが増加する。

すなわち、断面の断面積は対称面よりも端部領域の方が大きい。

さらに別の実施形態によれば、視野ファセットシステムは、逆向きの曲げモーメントを端部領域に導入するよう構成された少なくとも２つの作動素子をさらに含む。

上述のように、原理上は作動素子の数は任意である。２つよりも多い又は少ない作動素子を設けることもできる。好ましくは、作動素子はリニア作動素子である。特に、作動素子はピエゾアクチュエータである。

さらに別の実施形態によれば、視野ファセットシステムは、ファセット部への曲げモーメントの導入時に法線ベクトルが専ら傾く第１空間方向と、第１空間方向に対して垂直な向きの第２空間方向と、第１空間方向及び第２空間方向に対して垂直な向きの第３空間方向とを含む。

すなわち、第１空間方向、第２空間方向、及び第３空間方向を含む座標系が視野ファセットシステムに割り当てられる。第１空間方向は上述のｘ方向に相当する。第２空間方向は上述のｙ方向に相当する。第３空間方向は上述のｚ方向に相当する。

さらに別の実施形態によれば、曲げモーメントは第１空間方向のまわりで作用する。

特に、曲げモーメントは第１空間方向のまわりで専ら作用する。この目的で、ファセット部に接続されたレバーアームを設けることができ、作動素子を用いてこのレバーアームを撓ませる。このようなレバーアームは、各作動素子に割り当てることができる。

さらに別の実施形態によれば、ファセット部は、曲げモーメントの導入時に第２空間方向及び第３空間方向に広がる平面内で専ら変形する。

これは、ファセット部の剛性が変わることにより達成される。上記平面は、対称面に対して垂直な向きであることが好ましい。

さらに、かかる視野ファセットシステムを備えたリソグラフィ装置が提供される。

リソグラフィ装置は、複数のかかる視野ファセットシステムを含むことができる。リソグラフィ装置は、ＥＵＶリソグラフィ装置又はＤＵＶリソグラフィ装置であり得る。ＥＵＶは「極紫外線」を意味し、０．１ｎｍ～３０ｎｍの使用光の波長を示す。ＤＵＶは「深紫外線」を意味し、３０ｎｍ～２５０ｎｍの使用光の波長を示す。

この場合の「a(an)」は、厳密に１つの要素に制限するものと必ずしも理解すべきでない。むしろ、複数の要素、例えば、２つ、３つ、又はそれ以上等を設けることもできる。ここで用いる他の数字はいずれも、記載の数の要素に厳密に制限されるという趣旨で理解すべきでもない。むしろ、別途指示のない限り、数の増減が可能である。

視野ファセットシステムに関して記載した実施形態及び特徴は、提案されたリソグラフィ装置にも適用され、またその逆でもある。

本発明のさらに他の可能な実施態様は、例示的な実施形態に関して上述又は後述されている特徴又は実施形態の明記されていない組み合わせも含む。この場合、当業者であれば、個々の態様を改良又は補足として本発明の各基本形態に加えることもあろう。

本発明のさらに他の有利な構成及び態様は、従属請求項の主題であり、後述する発明の例示的な実施形態の主題でもある。好ましい実施形態に基づいて添付図面を参照して本発明を以下でより詳細に説明する。

ＥＵＶリソグラフィ装置の実施形態の概略図を示す。 ＤＵＶリソグラフィ装置の実施形態の概略図を示す。 図１Ａ又は図１Ｂに示すリソグラフィ装置の光学装置の一実施形態の概略図を示す。 図２に示す光学装置の視野ファセットミラーの一実施形態の概略図を示す。 図２に示す光学装置のさらに別の概略図を示す。 図２に示す光学装置のさらに別の概略図を示す。 図２に示す光学装置のさらに別の概略図を示す。 図２に示す光学装置の瞳ファセットミラーの瞳ファセットの一実施形態の概略図を示す。 図７に示す瞳ファセットのさらに別の概略図を示す。 図２に示す光学装置の瞳ファセットミラーの瞳ファセットのさらに別の実施形態の概略図を示す。 図２に示す光学装置の光学系の一実施形態の概略図を示す。 図２に示す光学装置の光学系のさらに別の実施形態の概略図を示す。 図２に示す光学装置の光学系のさらに別の実施形態の概略図を示す。 図２に示す光学装置の光学系のさらに別の実施形態の概略図を示す。 図２に示す光学装置の光学系のさらに別の実施形態の概略図を示す。 図２に示す光学装置の光学系のファセット部の実施形態の概略側面図を示す。 図１５に示ファセット部の概略図を示す。 図１５に示すファセット部の概略正面図を示す。 図２に示す光学装置の光学系のファセット部のさらに別の実施形態の概略側面図を示す。 図１８に示すファセット部の概略図を示す。 図１８の断面線Ａ－Ａに従ったファセット部の概略断面図を示す。 図１８の断面線Ｂ－Ｂに従ったファセット部のさらに別の概略断面図を示す。 図２に示す光学装置の光学系のファセット部のさらに別の実施形態の概略平面図を示す。 図２２の断面線Ｃ－Ｃに従ったファセット部の概略断面図を示す。 図２２の断面線Ｄ－Ｄに従ったファセット部のさらに別の概略断面図を示す。 図２２の断面線Ｅ－Ｅに従ったファセット部のさらに別の概略断面図を示す。 図１８に示すファセット部の長さにわたる法線ベクトルの誤差プロファイルを示す概略的なグラフを示す。 図２２に示すファセット部の長さにわたる法線ベクトルの誤差プロファイルを示す概略的なグラフを示す。

別途指示のない限り、図中で同一の又は機能的に同一の要素には同じ参照符号を設けてある。図示は必ずしも一定の縮尺ではないことにも留意されたい。

図１Ａは、ビーム整形・照明系１０２及び投影系１０４を備えたＥＵＶリソグラフィ装置１００Ａの概略図を示す。この場合、ＥＵＶは「極紫外線」を意味し、０．１ｎｍ～３０ｎｍの使用光の波長を示す。ビーム整形・照明系１０２及び投影系１０４は、それぞれが真空ハウジング（図示せず）内に設けられ、各真空ハウジングは排気デバイス（図示せず）を用いて真空引きされる。真空ハウジングは、光学素子を機械的に移動させる又は設定する駆動装置が設けられた機械室（図示せず）により囲まれる。さらに、電気コントローラ等を上記機械室内に設けることもできる。

ＥＵＶリソグラフィ装置１００Ａは、ＥＵＶ光源１０６Ａを備える。ＥＵＶ域（極紫外域）の、すなわち例えば５ｎｍ～２０ｎｍの波長域の放射線１０８Ａを発するプラズマ源（又はシンクロトロン）を、例えばＥＵＶ光源１０６Ａとして設けることができる。ビーム整形・照明系１０２において、ＥＵＶ放射線１０８Ａを集束させ、所望の作動波長をＥＵＶ放射線１０８Ａからフィルタリングする。ＥＵＶ光源１０６Ａが発生したＥＵＶ放射線１０８Ａは、空気中の透過率が比較的低く、こうした理由でビーム整形・照明系１０２及び投影系１０４の導光空間が真空引きされる。

図１Ａに示すビーム整形・照明系１０２は、５つのミラー１１０、１１２、１１４、１１６、１１８を有する。ビーム整形・照明系１０２の通過後に、ＥＵＶ放射線１０８Ａはフォトマスク（レチクルと称する）１２０へ導かれる。フォトマスク１２０は、同様に反射光学素子として具現され、システム１０２、１０４の外部に配置され得る。さらに、ＥＵＶ放射線１０８Ａは、ミラー１２２によりレチクル１２０へ指向され得る。レチクル１２０は、投影系１０４により縮小されてウェーハ１２４等に結像される構造を有する。

投影系１０４（投影レンズとも称する）は、フォトマスク１２０をウェーハ１２４に結像するために６個のミラーＭ１～Ｍ６を有する。この場合、投影系１０４の個々のミラーＭ１～Ｍ６は、投影系１０４の光軸１２６に関して対称に配置され得る。ＥＵＶリソグラフィ装置１００ＡのミラーＭ１～Ｍ６の数は、図示の数に制限されないことに留意されたい。設けられるミラーＭ１～Ｍ６の数をより多くすることもより少なくすることもできる。さらに、ミラーＭ１～Ｍ６は、ビーム整形用に前面が概して湾曲している。

図１Ｂは、ビーム整形・照明系１０２及び投影系１０４を備えたＤＵＶリソグラフィ装置１００Ｂの概略図を示す。この場合、ＤＵＶは「深紫外線」を意味し、３０ｎｍ～２５０ｎｍの使用光の波長を示す。図１Ａを参照してすでに記載したように、ビーム整形・照明系１０２及び投影系１０４は、対応する駆動デバイスを有する機械室により囲まれ得る。

ＤＵＶリソグラフィ装置１００Ｂは、ＤＵＶ光源１０６Ｂを有する。例として、例えば１９３ｎｍのＤＵＶ域の放射線１０８Ｂを発するＡｒＦエキシマレーザをＤＵＶ光源１０６Ｂとして設けることができる。

図１Ｂに示すビーム整形・照明系１０２は、ＤＵＶ放射線１０８Ｂをレチクル１２０へ指向させる。フォトマスク１２０は、透過光学素子として形成され、システム１０２、１０４の外部に配置され得る。フォトマスク１２０は、投影系１０４により縮小されてウェーハ１２４等に結像される構造を有する。

投影系１０４は、レチクル１２０をウェーハ１２４に結像するために複数のレンズ素子１２８及び／又はミラー１３０を有する。この場合、投影系１０４の個々のレンズ素子１２８及び／又はミラー１３０は、投影系１０４の光軸１２６に関して対称に配置され得る。ＤＵＶリソグラフィ装置１００Ｂのレンズ素子１２８及びミラー１３０の数は、図示の数に制限されないことに留意されたい。設けられるレンズ素子１２８及び／又はミラー１３０の数をより多くすることもより少なくすることもできる。さらに、ミラー１３０は、ビーム整形用に前面が概して湾曲している。

最終レンズ素子１２８とウェーハ１２４との間の空隙は、屈折率が１を超える液体媒体１３２で置き換えることができる。液体媒体１３２は、例えば高純度水であり得る。このような構成は、液浸リソグラフィとも称し、高いフォトリソグラフィ解像度を有する。媒体１３２は、浸液と称することもできる。

図２は、光学装置２００の概略図を示す。光学装置２００は、ビーム整形・照明系１０２、特にＥＵＶリソグラフィ装置１００Ａのビーム整形・照明系１０２である。したがって、光学装置２００をビーム整形・照明系とも呼ぶことができ、ビーム整形・照明系１０２を光学装置と呼ぶことができる。光学装置２００は、先に説明したような投影系１０４の上流に配置され得る。

しかしながら、光学装置２００は、ＤＵＶリソグラフィ装置１００Ｂの一部とすることもできる。しかしながら、以下では光学装置２００がＥＵＶリソグラフィ装置１００Ａの一部であるものとする。光学装置２００のほかに、図２は、ＥＵＶ放射線１０８Ａを発する先に説明したようなＥＵＶ光源１０６Ａ、及びフォトマスク１２０も示す。ＥＵＶ光源１０６Ａは、光学装置２００の一部であり得る。

光学装置２００は、複数のミラー２０２、２０４、２０６、２０８を含む。さらに、任意選択の偏向ミラー２１０を設けることができる。偏向ミラー２１０は、斜入射で動作するので、斜入射ミラーと称することもできる。偏向ミラー２１０は、図１Ａに示すミラー１２２に相当し得る。ミラー２０２、２０４、２０６、２０８は、図１Ａに示すミラー１１０、１１２、１１４、１１６、１１８に相当し得る。特に、ミラー２０２はミラー１１０に相当し、ミラー２０４はミラー１１２に相当する。

ミラー２０２は、光学装置２００のいわゆるファセットミラー、特に視野ファセットミラーである。ミラー２０４も、光学装置２００のファセットミラー、特に瞳ファセットミラーである。ミラー２０２は、ＥＵＶ放射線１０８Ａをミラー２０４へ反射する。ミラー２０６、２０８の少なくとも一方は、光学装置２００のコンデンサミラーであり得る。ミラー２０２、２０４、２０６、２０８の数は任意である。例として、図１Ａに示すように、５つのミラー２０２、２０４、２０６、２０８、すなわちミラー１１０、１１２、１１４、１１６、１１８、又は図２に示すように、４個のミラー２０２、２０４、２０６、２０８を設けることが可能である。しかしながら、好ましくは、少なくとも３つのミラー２０２、２０４、２０６、２０８、すなわち視野ファセットミラー、瞳ファセットミラー、及びコンデンサミラーが設けられる。

ファセットミラーは、直線状に配置され得る複数の薄板又はファセットを含む。ファセットは、弧状又は三日月状に湾曲し得る。ファセットは、多角形、特に四角形でもあり得る。例として、ファセットミラーは、数百個から数千個ものファセットを有し得る。各ファセットは個別に傾斜可能であり得る。

ミラー２０２、２０４、２０６、２０８は、ハウジング２１２内に配置される。ハウジング２１２は、光学装置２００の動作中、特に露光動作中には真空にすることができる。すなわち、ミラー２０２、２０４、２０６、２０８は真空中に配置される。

光学装置２００の動作中、ＥＵＶ光源１０６ＡはＥＵＶ放射線１０８Ａを発する。例として、スズプラズマをこの目的で生成することができる。スズプラズマを生成するために、スズ体、例えばスズビーズ又はスズ滴にレーザパルスを衝突させることができる。スズプラズマはＥＵＶ放射線１０８を発し、これが、ＥＵＶ光源１０６Ａのコレクタ、例えば楕円面ミラーを用いて集光され、光学装置２００の方向に送られる。コレクタは、ＥＵＶ放射線１０８Ａを中間焦点２１４に集束させる。中間焦点２１４は、中間焦点面と呼ぶこともできるか、又は中間焦点面内にある。

光学装置２００を通過すると、ＥＵＶ放射線１０８Ａはミラー２０２、２０４、２０６、２０８のそれぞれ及び偏向ミラー２１０により反射される。ＥＵＶ放射線１０８Ａのビーム経路を参照符号２１６で示す。フォトマスク１２０は、光学装置２００の物体面２１８に配置される。物体視野２２０が物体面２１８に位置決めされている。

図３は、ファセットミラー、特に視野ファセットミラーの形態の、先に説明したようなミラー２０２の一実施形態の概略平面図を示す。したがって、ファセットミラー又は視野ファセットミラーは、ここでは参照符号２０２で示す。視野ファセットミラー２０２は、直線状に配置された複数の薄板又はファセット２２２を含む。ファセット２２２は、特に視野ファセットであり、以下ではそのようにも呼ばれる。

視野ファセット２２２は、弧状又は三日月状に湾曲し得る。ファセット２２２は、多角形、例えば四角形でもあり得る。特に視野ファセット２２２は、それぞれが細長い矩形の幾何学的形状を有することもできる。図３には少数の視野ファセット２２２のみを示す。例として、視野ファセットミラー２０２は、数百個から数千個もの視野ファセット２２２を含み得る。各視野ファセット２２２は個別に傾斜可能であり得る。この目的で、作動素子又はアクチュエータを各視野ファセット２２２に割り当てることができる。アクチュエータはいわゆるローレンツアクチュエータであり得る。

図４は、図２に示す光学装置２００からの抜粋部分の拡大図を示す。光学装置２００は、ＥＵＶ放射線１０８Ａを発するＥＵＶ光源１０６Ａ（図示せず）と、中間焦点２１４と、視野ファセットミラー２０２と、瞳ファセットミラーの形態のミラー２０４とを含む。ミラー２０４は、以下では瞳ファセットミラーと呼ぶ。ミラー２０６、２０８、偏向ミラー２１０、及びハウジング２１２は図４には示さない。瞳ファセットミラー２０４は、投影系１０４の入射瞳面又はそれとの共役面に少なくとも略配置される。

中間焦点２１４は、ＥＵＶ光源１０６Ａの開口絞りである。簡単のために、以下の説明では、中間焦点２１４を作るための開口絞りと実際の中間焦点、すなわち上記開口絞りの開口とを区別しない。

視野ファセットミラー２０２は、上述のように複数の視野ファセット２２２Ａ、２２２Ｂ、２２２Ｃ、２２２Ｄ、２２２Ｅ、２２２Ｆを担持する担持体又は本体２２４を含む。視野ファセット２２２Ａ、２２２Ｂ、２２２Ｃ、２２２Ｄ、２２２Ｅ、２２２Ｆは、同一の形態を有することができるが、特にそれらの境界の形状及び／又は各光学有効面２２６の曲率が相互に異なることもできる。光学有効面２２６は、ミラー面である。光学有効面２２６は、ＥＵＶ放射線１０８Ａを瞳ファセットミラー２０４の方向に反射する働きをする。図４では、視野ファセット２２２Ａの光学有効面２２６のみに参照符号を設けてある。しかしながら、視野ファセット２２２Ｂ、２２２Ｃ、２２２Ｄ、２２２Ｅ、２２２Ｆも同様にこのような光学有効面２２６を有する。光学有効面２２６は、視野ファセット面と呼ぶことができる。

視野ファセット２２２Ｃのみについて以下で述べる。しかしながら、視野ファセット２２２Ｃに関する全ての説明は、視野ファセット２２２Ａ、２２２Ｂ、２２２Ｄ、２２２Ｅ、２２２Ｆにも当てはまる。したがって、ＥＵＶ放射線１０８Ａのうち視野ファセット２２２Ｃに当たる部分のみを図示する。しかしながら、視野ファセットミラー２０２の全体がＥＵＶ光源１０６Ａを用いて照明される。

瞳ファセットミラー２０４は、複数の瞳ファセット２３０Ａ、２３０Ｂ、２３０Ｃ、２３０Ｄ、２３０Ｅ、２３０Ｆを担持する担持体又は本体２２８を含む。瞳ファセット２３０Ａ、２３０Ｂ、２３０Ｃ、２３０Ｄ、２３０Ｅ、２３０Ｆのそれぞれは、光学有効面２３２、特にミラー面を有する。図４では、瞳ファセット２３０Ａの光学有効面２３２のみに参照符号を設けてある。光学有効面２３２は、ＥＵＶ放射線１０８Ａの反射に適している。光学有効面２３２は、瞳ファセット面と呼ぶことができる。

異なる瞳間の切り替えのために、視野ファセット２２２Ｃを異なる瞳ファセット２３０Ａ、２３０Ｂ、２３０Ｃ、２３０Ｄ、２３０Ｅ、２３０Ｆ間で切り替えることができる。特に、この目的で、瞳ファセット２３０Ｃ、２３０Ｄ、２３０Ｅは、視野ファセット２２２Ｃに割り当てられる。これには、視野ファセット２２２Ｃを傾斜させる必要がある。この傾斜は、２５ｍｒａｄ～４０ｍｒａｄだけ機械的に行われ、入射角が反射角に等しいという条件に従ってＥＵＶ放射線１０８が５０ｍｒａｄ～８０ｍｒａｄ偏向される。この角度指示は、半角に関するものであり、すなわち一方（左）の縁から他方（右）の縁までではなく中心から縁まで測定されたものである。

視野ファセット２２２Ｃは、上述のように、アクチュエータ（図示せず）を用いて、例えばローレンツアクチュエータを用いて、複数の位置又は傾斜位置Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３間で傾斜可能である。第１傾斜位置Ｐ１では、視野ファセット２２２Ｃは、中間焦点２１４を結像光ビーム２３４Ａ（破線で示す）で瞳ファセット２３０Ｃに結像する。第２傾斜位置Ｐ２では、視野ファセット２２２Ｃは、中間焦点２１４を結像光ビーム２３４Ｂ（実線で示す）で瞳ファセット２３０Ｄに結像する。第３傾斜位置Ｐ３では、視野ファセット２２２Ｃは、中間焦点２１４を結像光ビーム２３４Ｃ（点線で示す）で瞳ファセット２３０Ｅに結像する。各瞳ファセット２３０Ｃ、２３０Ｄ、２３０Ｅは、視野ファセット２２２Ｃをフォトマスク１２０（ここには図示せず）に又はその付近に結像する。

傾斜位置Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３のそれぞれにおいて、結像光ビーム２３４Ａ、２３４Ｂ、２３４Ｃは、各傾斜位置Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３に割り当てられた瞳ファセット２３０Ｃ、２３０Ｄ、２３０Ｅの光学有効面２３２の一部に照射される。傾斜位置Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３間を切り替えて瞳ファセット２３０Ｃ、２３０Ｄ、２３０Ｅの光学有効面２３２に照射する効果を、図５及び図６を参照して以下でより詳細に説明する。

図５及び図６は、図４に示す光学装置２００のさらに他の図解を示す。図５及び図６において、ＥＵＶ光源１０６Ａ、中間焦点２１４、視野ファセット２２２Ｃ、及び瞳ファセット２３０Ｄは、図解を容易にするために一列に示されている。しかしながら、実際には、図２に示すように、これらは相互に対して特定の角度に配置される。図５は、視野ファセット２２２Ｃを傾斜位置Ｐ２で示し、光学有効面２２６の曲率は変更されておらず、特に傾斜位置Ｐ２に適合されていない。図５及び図６に示すように、ＥＵＶ光源１０６Ａは、ＥＵＶ放射線１０８Ａを発生するプラズマ源２３６と、ＥＵＶ放射線１０８Ａを集束させるコレクタ２３８とを含む。中間焦点２１４及び瞳ファセット２３０Ｄは通常は円形である。瞳ファセット２３０Ｄは、六角形でもあり得る。

視野ファセット２２２Ｃは、中間焦点２１４の像を結像光ビーム２３４Ｂで瞳ファセット２３０Ｄに投影する。しかしながら、瞳ファセット２３０Ｄの光学有効面２３２は、中間焦点２１４の像が完全に合焦する結像面２４０に正確に対応しない。その代わりに、図５における瞳ファセット２３０Ｄの光学有効面２３２は、結像面２４０よりも視野ファセット２２２Ｃに近く、中間焦点２１４の像は結像光ビーム２３４Ｂで瞳ファセット２３０Ｄに合焦しない。瞳ファセット２３０Ｄの光学有効面２３２と結像面２４０との間には距離ａがある。

このデフォーカスにより、瞳充填度の低減が制限される。しかしながら、ＥＵＶリソグラフィ光学ユニットのさらなる高分解能化を達成するために、瞳充填度をさらに低減する必要がある。瞳ファセット２３０Ａ、２３０Ｂ、２３０Ｃ、２３０Ｄ、２３０Ｅ、２３０Ｆの１つで中間焦点２１４のデフォーカス像がある場合、上記瞳ファセットを実際に必要であるよりも大きくしなければならず、その結果として、瞳ファセットミラー２０４のより大きな面積、すなわちより大きな照明面積が照明される。瞳ファセットミラー２０４の瞳ファセット２３０Ａ、２３０Ｂ、２３０Ｃ、２３０Ｄ、２３０Ｅ、２３０Ｆの光学有効面２３２全体に対する（すなわち、ＥＵＶリソグラフィ装置１００Ａが最大限に対応できる面積に対する）照射面積の比を、「瞳充填度」と呼ぶ。通常は、それ以外は充填されている領域内の小さな非充填領域、特に瞳ファセットの面積よりも小さな領域が、瞳充填度の計算に同時に含まれる。

この非合焦像は、結像光ビーム２３４Ｂを照射された面積２４２を特徴とし、図７～図９にハッチングで示す上記面積は、比較的大きい。これは、視野ファセット２２２Ｃの光学有効面２２６の曲率が最適化されていないことに起因する。図７は、瞳ファセット２３０Ｄの光学有効面２３２の平面図を示す。光学有効面２３２は、実質的に円形又は六角形である。したがって、瞳ファセット２３０Ｄも好ましくは円形又は六角形である。瞳ファセット２３０Ｄの光学有効面２３２のうち結像光ビーム２３４Ｂを照射される面積２４２は、その大きさが光学有効面２３２自体に略対応する。したがって、照射面積２４２は、瞳ファセット２３０Ｄの光学有効面２３２の略全体に及ぶ。

図６は、光学有効面２２６の曲率の変更後の傾斜位置Ｐ２にある視野ファセット２２２Ｃを示す。図６において、光学有効面２２６の曲率は、光学有効面２３２と結像面２４０との間の距離ａが減るように変えられている。図６において、距離ａは０であり、光学有効面２３２及び結像面２４０が相互に重なる。図６では、中間焦点２１４の像は結像光ビーム２３４Ｂで瞳ファセット２３０Ｄに完全に合焦しており、照射面積２４２は、図７の照射面積２４２に比べて、図８に示すようにその大きさが大幅に減る。

図８は、瞳ファセット２３０Ｄの光学有効面２３２のさらに別の平面図を示す。図８に示すように、照射面積２４２は、視野ファセット２２２Ｃの光学有効面２２６の曲率の変更前の図７に示す照射面積２４２に比べて大幅に減る。

図９のさらに別の平面図に示すように、瞳ファセット２３０Ａ、２３０Ｂ、２３０Ｃ、２３０Ｄ、２３０Ｅ、２３０Ｆのサイズを減らしてそれらをさらに緻密化する可能性がある。結果として、ＥＵＶリソグラフィ装置１００Ａの分解能を高めることができる。瞳ファセット２３０Ａ、２３０Ｂ、２３０Ｃ、２３０Ｄ、２３０Ｅ、２３０Ｆの縮小された光学有効面２３２は、円形又は六角形である。ハッチングで示す照射面積２４２は、その大きさが図８と同一だが、図９に示す瞳ファセット２３０Ｄの光学有効面２３２の大部分を占める。したがって、視野ファセット２２２Ｃの光学有効面２２６の曲率の最適化により、瞳ファセット２３０のサイズを減らすことが可能となる。

各瞳ファセット２３０Ｃ、２３０Ｄ、２３０Ｅへの集束を常に達成するために、且つ／又は先に説明したように照射面積２４２を減らすために、視野ファセット２２２Ｃの湾曲した光学有効面２２６の曲率をどのように変えるかを以下で説明する。同時に、以下で説明するように、熱外乱に耐えるのに十分なロバスト性を達成することができる。

図１０は、光学系３００Ａの一実施形態の概略図を示す。光学系３００Ａは、先に説明したような光学装置２００の一部である。特に、光学装置２００は、複数のかかる光学系３００Ａを含み得る。光学系３００Ａは、特に、先に説明したような視野ファセットミラー２０２の一部でもある。光学系３００Ａは、先に説明したような視野ファセット２２２Ａ、２２２Ｂ、２２２Ｃ、２２２Ｄ、２２２Ｅ、２２２Ｆである。したがって、光学系３００Ａは、視野ファセット、視野ファセットシステム、又は視野ファセットデバイスとも呼ぶことができる。光学系３００Ａは、視野ファセットシステムであることが好ましい。しかしながら、以下において、視野ファセットシステムを光学系３００Ａと呼ぶ。

第１空間方向又はｘ方向ｘ、第２空間方向又はｙ方向ｙ、及び第３空間方向又はｚ方向ｚを有する座標系が、光学系３００Ａに割り当てられる。空間方向ｘ、ｙ、ｚは、相互に対して垂直に位置決めされる。ｘ方向ｘは、幅方向とも称することができる。ｙ方向ｙは、長さ方向又は長手方向とも称することができる。ｚ方向ｚは、垂直方向又は厚さ方向とも称することができる。

光学系３００Ａは、光学素子３０２を含む。光学素子３０２は、ミラー基板又は基板から作製される。基板は、特に銅、特に銅合金、鉄－ニッケル合金、例えばインバー等、シリコン、又は他の何らかの適当な材料を含み得る。基板は、光学素子３０２の機械的特性に関与する。

光学系３０２は、本体３０４及びファセット部３０６を含む。ファセット部３０６は、ファセット又は光学ファセットとも称することができる。ファセット部３０６は、平面図で弧状に湾曲した又は三日月状の幾何学的形状を有することが好ましい。しかしながら、ファセット部３０６は、平面図で細長い矩形の幾何学的形状を有することもできる。本体３０４及びファセット部３０６は、一体的に、特に物質的に一体に具現される。この場合、「一体に」又は「一体的に」は、本体及びファセット部３０６が共通のコンポーネントを形成するものであり、異なるコンポーネント部品からなるものではないことを意味する。「物質的に一体に」は、本体３０４及びファセット部３０６が全体的に同じ材料から製造されることを意味する。

光学有効面３０８が、光学素子３０２の、すなわちファセット部３０６の前面に設けられる。光学有効面３０８は、図４に示す光学有効面２２６に相当する。光学有効面３０８は、ミラー面である。光学有効面３０８は、コーティングを用いて作ることができる。光学有効面３０８は、コーティングとして基板に塗布することができる。研磨層を、基板と光学有効面３０８との間に設けることができる。光学有効面３０２は、ミラーファセットであるか、又はそのように呼ぶことができる。

光学有効面３０８又はファセット部３０６は、第１曲率半径Ｋ１を有する。第１曲率半径Ｋ１は、ｙ方向ｙ及びｚ方向ｚに広がる平面内の光学有効面３０８の曲率を示す。光学有効面３０８又はファセット部３０６は、第２曲率半径Ｋ２をさらに有し得る。第２曲率半径Ｋ２は、第１曲率半径Ｋ１に対して垂直な向きである。これにより、光学有効面３０８はトロイダル状となる。第２曲率半径Ｋ２は、ｘ方向ｘ及びｚ方向ｚに広がる平面内の光学有効面３０８の曲率を示す。

空隙３１０が、ファセット部３０６と本体３０４との間に設けられる。ファセット部３０６は、接続領域３１６、３１８を介してファセット部３０６に一体に、特に物質的に一体に接続された２つのレバーアーム３１２、３１４を有する。空隙３１０は、ファセット部３０６とレバーアーム３１２、３１４との間に延びる。接続領域３１６、３１８それぞれ、ファセット部３０６とレバーアーム３１２、３１４との間に設けられた断面狭窄部を構成する。

レバーアーム３１２、３１４はさらに、継手部３２０、３２２を介して本体３０４に一体に、特に物質的に一体に接続される。継手部３２０、３２２は、いわゆるフレクシャとして具現される。この場合、「フレクシャ」は、曲げにより２つの剛体領域間の相対移動を可能にするコンポーネントの領域を意味すると理解されたい。継手部３２０、３２２は、弾性変形可能である。この場合、第１継手部３２０及び第２継手部３２２が設けられる。第１継手部３２０は、ｘ方向ｘと平行に配置された軸周りにファセット部３０６の移動を可能にする。第２継手部３２２も同様に、ｘ方向ｘと平行な軸周りのファセット部３０６の移動を可能にする。

光学系３００Ａは、作動素子３２４、３２６を含む。作動素子３２４、３２６は、アクチュエータと呼ぶこともできる。作動素子３２４、３２６は、リニア作動素子、特にリニアピエゾ素子である。すなわち、作動素子３２４、３２６は、制御に応じて短くも長くもなり得る。２つの作動素子３２４、３２６を設けることができる。しかしながら、作動素子３２４、３２６の数は、原理上は任意である。作動素子３２４、３２６は、ピエゾ作動素子又はピエゾアクチュエータである。しかしながら、任意の他のアクチュエータを作動素子３２４、３２６に用いることも可能である。

温度センサ３２８、３３０が、各作動素子３２４、３２６に割り当てられる。温度センサ３２８、３３０を用いて、各作動素子３２４、３２６の温度を検出可能である。作動素子３２４、３２６は、本体３０４内に設けられた凹部３３２、３３４に収容される。

さらに、光学系３００Ａは、本体３０４の対応する凹部に位置決めすることができる温度センサ３３６、３３８、３４０、３４２を有する。さらに、光学系３００Ａは、変位測定センサ３４４、３４６を有することができ、これらを用いてファセット部３０６の変形を検出可能である。

光学系３００Ａの機能を以下で説明する。ファセット部３０６は、継手部３２０、３２２及びファセット部３０６の両端部に配置されたレバーアーム３１２、３１４を介して本体３０４に接続される。ファセット部３０６を作動させる目的で、作動素子３２４、３２６は、短縮されるように、すなわちｚ方向ｚに沿って制御される。結果として、レバーアーム３１２、３１４は図１０の向きでｚ方向ｚに沿って引き下げられる。

ファセット部３０６を変形させるために、レバーアーム３１２、３１４は継手部３２０、３２２を中心に枢動し、２つの逆向きの曲げモーメントＢ１、Ｂ２がファセット部３０６に加わる。第１曲げモーメントＢ１は、時計回りの向きである。第２曲げモーメントＢ２は、反時計回りの向きである。その際に、少なくとも第１曲率半径Ｋ１が変わる。作動素子３２４、３２６の配置に応じて、第２曲率半径Ｋ２も変わり得る。

光学系３００Ａへの入熱が、主にファセット部３０６を介して行われ、熱除去は、本体３０４のベースを介して行われる。したがって、不均一な温度分布が光学系３００Ａで発生する。光学素子３０２の不均一な加熱を補償するために、光学系３００Ａにおける温度分布を温度センサ３２８、３３０、３３６、３３８、３４０、３４２により検出し、そこから外部の制御ユニット３４８により光学系３００Ａの変形状態を検出し、対応する補正信号を計算して、それを作動素子３２４、３２６に適用することが有利である。

温度センサ３２８、３３０、３３６、３３８、３４０、３４２は、作動素子３２４、３２６それぞれの温度と、本体３０４及びレバーアーム３１２、３１４の外乱効果に関連する領域の温度とを検出することが好ましい。温度センサ３２８、３３０、３３６、３３８、３４０、３４２の実施形態は、ＮＴＣセンサ（負の温度係数、ＮＴＣ）、熱電対、白金センサ、又はサーモパイルであり得る。サーモパイルは、ファセット部３０６の被接触温度測定を用いて本体３０４に測定素子を位置決めすることを可能にする。

代替として又は追加として、ファセット部３０６の実際の変形は、変位測定センサ３４４、３４６を用いて検出することができ、外部制御ユニット３４８を用いてそこから作動素子３２４、３２６に対する補正信号を計算することができる。この手順は、例えば作動素子３２４、３２６のヒステリシス、作動素子３２４、３２６の機械的ドリフト効果及びクリープ効果、又は制御ユニット３４８の電気的ドリフト等のさらなる誤りを検出して補償することができるという利点がある。

変位測定センサ３４４、３４６が設けられる場合、ファセット部３０６の外縁から同じ距離に少なくとも２つの変位測定センサ３４４、３４７を配置することが有利である。さらに、できる限り温度変化の影響を受けない変位測定システムの選択が有利である。変位測定は、ファセット部３０６と本体３０４との間の距離の変化により直接、又はファセット部３０６又はレバーアーム３１２、３１４の伸長により行うことができる。

直接変位測定センサ３４４、３４６の有利な実施形態は、設置空間が厳しく制限されていることにより静電容量センサ又はインダクティブセンサであり得る。最低限の温度感度に関しては、共焦点光学式センサの使用が有利である。最大限の誤り補償に関しては、変位測定及び温度測定からの補正信号を考慮した閉制御ループでの作動素子３２４、３２６の使用が有利である。

光学系３００Ａの特定の用途では、ファセット部３０６の長さ部分毎に相互に独立した異なる曲率半径を設定することが有利であり得る。これは、例えば、光学有効面３０８の作製中の不正確又は誤りを補償することができるようにするために必要であり得る。ファセット部３０６は、比較的薄く具現される。結果として、光学有効面３０８の研磨の際、研磨プロセス中にファセット部３０６に作用する力は、研磨プロセスの精度に影響を及ぼすファセット部３０６の変形をもたらし得る。これにより、円筒状又は円環状の目標輪郭と実際に作製された実際の輪郭との間に波状の偏差が生じ得る。

図１１は、光学系３００Ｂのさらに別の実施形態の概略図を示す。光学系３００Ａ、３００Ｂ間の相違点のみを以下で述べる。

光学系３００Ｂは、作動素子３２４、３２６、３５０、３５２を含み、これらは光学系３００Ａとは異なり、リニア作動素子としてではなくせん断作動素子として、特にせん断ピエゾアクチュエータとして具現される。図１２の向きでは、作動素子３２４、３２６、３５０、３５２は、矢印を用いて示すように上下に湾曲し得る。作動素子３２４、３２６、３５０、３５２は、ｙ方向ｙに沿って見ると前後に又は左右に並べて配置される。

レバーアーム３５４、３５６、３５８、３６０が、各作動素子３２４、３２６、３５０、３５２に割り当てられる。各レバーアーム３５４、３５６、３５８、３６０は、レバーアーム３５４に基づいて示すように、２つの継手部３６２、３６４を用いて、第１に本体３０４に接続され、第２にファセット部３０６に接続される。継手部３６２、３６４は、各レバーアーム３５４、３５６、３５８、３６０の端部側にそれぞれ設けられる。継手部３６２、３６４はフレクシャである。

デカップリング継手３６６、３６８、３７０、３７２を介して、作動素子３２４、３２６、３５０、３５２は、レバーアーム３５４、３５６、３５８、３６０に動作可能に接続される。各デカップリング継手３６６、３６８、３７０、３７２は、２つの相互接続された板ばねを含み、これらは水平方向に、すなわちｙ方向ｙに沿って可撓性があり、したがって実際にはｙ方向ｙに沿って力を一切又は略伝達することができない。しかしながら、ファセット部３０６を変形させるために、鉛直方向の、すなわちｚ方向ｚに沿った力伝達は可能である。デカップリング継手３６６、３６８、３７０、３７２は、熱的な分離ももたらす。したがって、デカップリング継手３６６、３６８、３７０、３７２は熱的デカップリングと称することもできる。変位測定センサ４７４、４７６、４７８、４８０が、各レバーアーム３５４、３５６、３５８、３６０に割り当てられる。温度センサ３２８、３３０、３７４、３７６が、各作動素子３２４、３２６、３５０、３５２に割り当てられる。

光学系３００Ｂの機能を以下で説明する。作動素子３２４、３２６、３５０、３５２が例えば図１１の向きで下方に撓むことにより、各レバーアーム３５４、３５６、３５８、３６０を介してファセット部３０６に対してかかる下向きの引張力が強化される。ファセット部３０６は、継手部３２０、３２２により本体３０４に対して支持される。各作動素子３２４、３２６、３５０、３５２により設定され得る力は、ファセット部３０６の曲率の変化をもたらす。作動素子３２４、３２６、３５０、３５２の様々な制御により、ファセット部３０６の複数の曲率を設定することができる。

図１２は、光学系３００Ｃのさらに別の実施形態の概略図を示す。光学系３００Ｂ、３００Ｃ間の相違点のみを以下で述べる。

光学系３００Ｃは、せん断作動素子としてではなくリニア作動素子として具現される作動素子３２４、３２６、３５０、３５２を含む。すなわち、作動素子３２４、３２６、３５０、３５２は、それらの長手方向に沿って、すなわちｙ方向ｙに沿って短くも長くもなり得る。光学系３００Ｂの場合のように、レバーアーム３５４、３５６、３５８、３６０が各作動素子３２４、３２６、３５０、３５２に割り当てられ、それぞれが継手部３６２を用いて本体３０４に動作可能に接続されると共に継手部３６４を用いてファセット部３０６に動作可能に接続される。作動素子３２４、３２６、３５０、３５２は、レバーアーム３５４、３５６、３５８、３６０に引張力又は圧縮力をかけることができる。

対応するレバーアーム３５４、３５６、３５８、３６０を介して、各作動素子３２４、３２６、３５０、３５２の長さの変化がファセット部３０６に対する鉛直方向の、すなわちｚ方向ｚに沿ってｚ方向ｚとは逆の引張力又は圧縮力に変換される。ここでも、作動素子３２４、３２６、３５０、３５２の様々な制御により、ファセット部３０６の複数の曲率を設定することができる。温度センサ３３６、３３８及び変位測定センサ４７４、４７６、４７８は、図１１に示す光学素子３００Ｂの実施形態に従って配置される。光学素子３００Ｂを参照してすでに説明したように、温度センサ（図示せず）を、作動素子３２４、３２６、３５０、３５２にも割り当てることができる。

図１３は、光学系３００Ｄのさらに別の実施形態の概略図を示す。光学系３００Ｃ、３００Ｄ間の相違点のみを以下で述べる。

光学系３００Ｄは、光学系３００Ｃに対応するが、光学系３００Ｄの場合、継手部３２０、３２２がファセット部３０６の周縁に設けられるのではなく、継手部３２０、３２２がｙ方向ｙに沿って見ると内側にずれている点が異なる。光学系３００Ｄも同様に、温度センサ及び変位測定センサ（図示せず）を有する。

図１４は、光学系３００Ｅのさらに別の実施形態の概略図を示す。光学系３００Ｄ、３００Ｅ間の相違点のみを以下で述べる。

光学系３００Ｄとは異なり、光学系３００Ｅは、４つではなく２つの作動素子３２４、３２６のみを有する。さらに、継手部３２０、３２２は、ファセット部３０６の周縁に設けられる。光学系３００Ｅも同様に、温度センサ及び変位測定センサ（図示せず）を有する。

光学系３００Ａ、３００Ｂ、３００Ｃ、３００Ｄ、３００Ｅの上記実施形態の全てについて、本体３０４及びファセット部３０６は、物質的に一体に又はモノリシックに、すなわちさらなる接合点なしで１つの原材料から製造することができる。したがって、光学系３００Ａ、３００Ｂ、３００Ｃ、３００Ｄ、３００Ｅのこれらの実施形態では、例えば継手部３２０、３２２、及びファセット部３０６等のキネマティクスに同じ材料を用いることが可能である。銅、シリコン、炭化ケイ素（ＳｉＳｉＣ）、又はコーディエライトが材料として好適である。

代替として、本体３０４及びファセット部３０６は、別個の方法で製造され、適当な接合方法により継手部３２０、３２２等で相互に接続されることが可能であり得る。両方のコンポーネントに対する機能要件が異なることから、異なる製造プロセスが有利なので、これは特に有利である。例として、ファセット部３０６に対する１つの要件は、最小限の固有応力である。これは、特にフライス加工又は侵食とその後の熱処理とにより達成することができる。例として、本体３０４に対する１つの要件は、例えばレバーアーム３１２、３１４又は継手部３２０、３２２に必要であるような微細構造をできる限り正確に作製することである。上記構造は、侵食、エッチング、又は積層造形と異なる熱処理とにより得ることができるのが有利である。

したがって、上記の場合、本体３０４とファセット部３０６とを例えば継手部３２０、３２２で接続する方法が必要である。ファセット部３０６は、例えば溶接、リンギング、はんだ付け、接着結合、拡散溶接、電子ビーム溶接、レーザ溶接、又は反応性結合により本体３０４に接続することができる。継手部３２０、３２２での接続のこれらの実施形態では、接合点の固有応力又は変形が光学有効面３０８に残されてその光学特性を悪化させる可能性がある。接続成立後の光学有効面３０８の表面欠陥の補正が、この目的で有利である。これは、機械的、電気化学的、又は電子ビーム光学的な方法により行うことができる。

光学系３００Ａ、３００Ｂ、３００Ｃ、３００Ｄ、３００Ｅの上記実施形態の全てで、ピエゾ作動素子又はピエゾアクチュエータが作動素子３２４、３２６、３５０、３５２として提案される。しかしながら、代替として、ファセット部３０６を磁気、磁歪、空気圧、又は油圧駆動により作動させることもできる。しかしながら、ピエゾアクチュエータの力／設置空間比が非常に良好なので、ピエゾアクチュエータの使用が特に有利である。すなわち、利用可能な非常に限られた設置空間の範囲内で、光学有効面３０８の大きな変形を達成することができる。さらなる利点として、ピエゾアクチュエータの構造サイズが小さいので、ファセット部３０６の幅を非常に狭くなるよう選択することができる。結果として、作動可能なファセット部３０６、したがって光チャネルを有する多数の光学系３００Ａ、３００Ｂ、３００Ｃ、３００Ｄ、３００Ｅを、ビーム整形・照明系１０２に配置することができる。これは、ビーム整形・照明系１０２の光学性能に有利である。

さらに、他のアクチュエータとは異なり、ピエゾアクチュエータは、定常状態又は準定常状態の動作中に電力をほとんど必要としない。高い内部抵抗により、ピエゾアクチュエータが位置を保持するのに必要とする電力は無視できる程度に小さく、主に外部配線により決まる。ピエゾアクチュエータは、電源の切断後にその位置を維持することができる。これは、消費電力、したがって自己発熱を減らし、上述の熱的に誘起された誤りを減らすのに適している。

図１５～図１７は、ファセット部３０６の一実施形態の大幅に簡略化した概略図を示す。図１５は、ファセット部３０６の側面図を示す。図１６は、ファセット部３０６の平面図を示す。図１７は、ファセット部３０６の正面図を示す。簡略化すると、光学系３００Ａ、３００Ｂ、３００Ｃ、３００Ｄ、３００Ｅは、ファセット部３０６を形成し且つ両側を支持されて曲げモーメントＢ１、Ｂ２が両側に導入される曲がり梁の運動原理に基づく。図１５は、ファセット部３０６の形態の曲がり梁を、実線で示す非変形状態と破線で示す変形状態とで示す。変形状態では、ファセット部を参照符号３０６’で示す。

可能な実施形態によれば、ｙ方向ｙ（ファセット部３０６の長軸）に直線状のファセット部３０６は、直線状の曲がり梁に相当する。ファセット部３０６は、いずれもｙ方向ｙに沿って見た場合に一定である幅ｂ及び高さｈを有する。均質な断面Ｑを有するかかるファセット部３０６は、逆向きの曲げモーメントＢ１、Ｂ２が両側に導入された場合にｙ方向ｙ及びｚ方向ｚに広がる平面で専ら変形する。結果として、光学有効面３０８の面法線又は法線ベクトルＮが、ファセット部３０６上のそのｙ方向ｙの位置に応じて、専らｘ方向ｘ（ファセット部３０６の短軸）周りに回転する。

図１８～図２１は、ファセット部３０６のさらに別の実施形態の大幅に簡略化した概略図を示す。図１８は、ファセット部３０６の側面図を示す。図１９は、ファセット部３０６の平面図を示す。図２０は、図１８の断面線Ａ－Ａに従ったファセット部３０６の断面図を示す。図２１は、図１８の断面線Ｂ－Ｂに従ったファセット部３０６の断面図を示す。特定の用途では、ファセット部３０６に平面図で三日月状又は弧状の形態を与えることが有利であり得る。この場合、ファセット部３０６は湾曲した曲がり梁に相当する。ここでも、ファセット部３０６は均質な断面を有する。

上述のような逆向きの曲げモーメントＢ１、Ｂ２がこのような三日月状のファセット部３０６に導入された場合、このファセット部３０６も、ｙ方向ｙ及びｚ方向ｚに広がる平面内で主に変形する。しかしながら、さらに、ファセット部３０６は、ｙ方向ｙに捩れもする。この捩れは、ファセット部３０６の両端部で０、ファセット部３０６の中央で最大である。

結果として、光学有効面３０８の法線ベクトルＮは、ｘ方向ｘ周り且つｙ方向ｙ周りに回転する。ファセット部３０６の中央では、ｙ方向ｙ周りの回転は図２１に示すように最大である。これに対して、ｘ方向ｘ周りの回転は、ファセット部３０６の中央で０、ファセット部３０６の両端部で最大である。両方の回転が、幾何学的に決定された相互に対して固定の関係を有する。

図２２～図２５は、ファセット部３０６のさらに別の実施形態の大幅に簡略化した概略図を示す。図２２に示す平面図において、ファセット部３０６又は光学有効面３０８は弧状又は三日月状に湾曲している。図２３は、図２２の断面線Ｃ－Ｃに従ったファセット部３０６の断面図を示す。図２４は、図２２の断面線Ｄ－Ｄに従ったファセット部３０６の断面図を示す。図２５は、図２２の断面線Ｅ－Ｅに従ったファセット部３０６の断面図を示す。具体的な用途では、ｙ方向ｙ周りの法線ベクトルＮの回転を最小化することが有利である。

これは、ファセット部３０６の剛性の意図的な変更により達成することができる。この場合、「剛性」は、力又はモーメントに起因する弾性変形に対するファセット部３０６又は概して物体の抵抗力を意味すると理解されたい。特に、「剛性」は、ファセット部３０６の捩り剛性、すなわちファセット部３０６を捻るか又はファセット部に捩りを加える捩りモーメントに耐える剛性を意味すると理解されたい。コンポーネントの剛性は、第１に材料の弾性特性、例えば弾性率等、第２に変形したコンポーネントの幾何学的形状に応じて変わる。

したがって、ファセット部３０６の剛性は、ファセット部３０６に用いる材料の弾性率の変化により変えることができる。上述の弾性率の変化は、２つ以上の異なる材料からなるモノリシックに製造されたベース体の使用により得ることができる。上記ベース体はファセット部３０６を形成するか、又はファセット部３０６はベース体から製造される。ベース体は、本体３０４も含み得る。このようなベース体は、溶接、めっき、又は好ましくは積層造形、特に３Ｄプリンティングにより、異なる金属粉末から製造することができる。特に積層造形法により、２つの異なる材料間、例えば銅及び鋼鉄間で連続的に移行するハイブリッドコンポーネントを製造することができる。したがって、ファセット部３０６は、特に鋼鉄及び銅からなるハイブリッド構成を有し得る。

しかしながら、特に好ましくは、ファセット部３０６の幾何学的形状、特に断面Ｑを変化させる。しかしながら、弾性率及び断面Ｑの両方を変える可能性もある。有利な実施形態によれば、ファセット部３０６は、その上面、すなわち光学有効面３０８の幅ｂ１が一定又は可変である台形の断面Ｑを含む。その下面の幅ｂ２も可変だが、ファセット部３０６の全ての点で上面よりも狭いことが有利である。断面Ｑの高さｈも同様に可変に選択することができる。

一定の断面Ｑの場合、ファセット部３０６のｘ方向ｘ及びｙ方向ｙに関する極断面係数は、ファセット部３０６の全長にわたって一定である。「極断面係数」は、荷重時の内部応力の発生に対する、ファセット部３０６又はより一般的な表現では梁による抵抗力の測度である。先に説明したような可変の断面Ｑでは、極断面係数に目標通りに影響を及ぼすことができる。この方法は、台形の断面Ｑのみに限定されるのではなく、少なくとも２つの可変の断面パラメータ、例えば幅及び高さ等を有するいかなる断面にも適用可能である。矩形、三角形、半楕円、角を切り落とした矩形、又は他のより複雑な断面Ｑが例えば考えられる。

ファセット部３０６は、第１端部領域３７８及び第２端部領域３８０を含む。曲げモーメントＢ１、Ｂ２が、端部領域３７８、３８０に導入される。対称面Ｅ１が端部領域３７８、３８０間の中央に設けられ、これに対してファセット部３０６が鏡面対称構造を有する。図２４に示す断面は、対称面Ｅ１に配置される。対称面Ｅ１は、ｘ方向ｘ及びｚ方向ｚに広がるものであるか、又はｘ方向ｘ及びｚ方向ｚに広がる平面と平行に配置される。

ファセット部３０６は、長手方向Ｌ１、Ｌ２を有する。長手方向Ｌ１、Ｌ２は、対応する端部領域３７８、３８０から対称面Ｅ１の方向にそれぞれが向いている。ここで、長手方向Ｌ１、Ｌ２は、それぞれが弧状に湾曲したプロファイルを有する。例として、ファセット部３０６の弾性率は、長手方向Ｌ１、Ｌ２に沿って見ると、端部領域３７８、３８０から対称面Ｅ１の方向に向かうほど減少する。

例として、これは、断面Ｑ又は断面Ｑの断面積が対称面Ｅ１で最小であり端部領域３７８、３８０に向かって増加することにより達成することができる。しかしながら、剛性のプロファイル又は勾配、すなわち各長手方向Ｌ１、Ｌ２に沿った剛性のプロファイルは、対称面Ｅ１に対して対称である。すなわち、図２２に示す断面線Ｄ－Ｄに従った断面Ｑは、断面線Ｃ－Ｃ及びＥ－Ｅに従った断面Ｑよりも小さい。極断面係数についても同様である。

図２６は、断面Ｑの特定の変化に対するファセット部３０６の長さにわたる法線ベクトルＮの誤差プロファイルを示す。この場合、ｙ方向ｙを横軸にとる。μｒａｄの誤差角θを縦軸にとる。例として、全体的に幅ｂ及び高さｈが４ｍｍである矩形の断面Ｑを有する長さ９０ｍｍのファセット部３０６について考える（図２４）。

曲線３８２は、ｙ方向ｙ及びｚ方向ｚに広がる平面Ｅ２における法線ベクトルＮの傾きを表す。曲線３８４は、ｘ方向ｘ及びｚ方向ｚに広がる平面における法線ベクトルＮの傾きを表す。曲線３８６は、曲線３８２、３８４から得られる法線ベクトルＮの傾きを示す。曲線３８６から明らかなように、合成法線ベクトルＮの誤差角θは５μｒａｄ～１９μｒａｄで変わる。

図２６とは異なり、図２７は、高さｈ（図２３）が可変、断面Ｑの上面の幅ｂ１（図２３）が一定、下面の幅ｂ２（図２３）が可変である、長さ８０ｍｍのファセット部３０６の法線ベクトルＭの誤差プロファイルを示す。上記方法に従って選択された特定の可変の断面Ｑでは、曲線３８８に基づいて示すように、合成法線ベクトルＮの合成誤差を完全に排除することができる。すなわち、ファセット部３０６の変形が、ｙ方向ｙ及びｚ方向ｚに広がる平面Ｅ２でしか生じない。平面Ｅ２は、対称面Ｅ１に対して垂直な向きである。

次に図４に戻ると、光学装置２００は、図４に側面図（左）及び平面図（右）で示す測定ユニット２４４をさらに備える。測定ユニット２４４の機能を以下で説明する。ピエゾアクチュエータは、それ自体のクリープ挙動に起因して上記測定システムにより記録することができない様々な長期的なクリープ効果及びドリフト効果を示し得る。

このような効果は、例えば、各作動素子３２４、３２６、３５０、３５２と本体３０４との間の接着接続の応力緩和に起因するクリープ、電荷損失による各作動素子３２４、３２６、３５０、３５２のドリフト、電荷増幅器のドリフト、及び／又はファセット部３０６又は本体３０４の材料クリープであり得る。これらのクリープ効果は、制御により指定された目標曲率からの実際の曲率の偏差につながる可能性があり、クリープ効果及びクリープ速度に応じて数時間、数日間、又は数週間にわたり起こり得る。

測定ユニット２４４は、これらの効果を測定して補正信号を得ることが有利である。ビーム経路２１６のＥＵＶ放射線１０８Ａは、変更可能な曲率を有する枢動可能な視野ファセット２２２Ａ、２２２Ｂ、２２２Ｃ、２２２Ｄ、２２２Ｅに入射する。切替位置に応じて、これらは、ＥＵＶ放射線を異なる瞳ファセット２３０Ａ、２３０Ｂ、２３０Ｃ、２３０Ｄ、２３０Ｅ、２３０Ｆへ反射する。図４に示す装置は、瞳ファセットミラー２０４とは無関係の測定ユニット２４４を含む。

視野ファセット２２２Ａ、２２２Ｂ、２２２Ｃ、２２２Ｄ、２２２Ｅ、２２２Ｆの曲率を測定するために、視野ファセット２２２Ａ、２２２Ｂ、２２２Ｃ、２２２Ｄ、２２２Ｅ、２２２Ｆの１つ、例えば視野ファセット２２２Ｃを、そこで反射したＥＵＶ放射線１０８が測定ユニット２４４に入射するように傾斜させる。続いて、測定ユニット２４４は、光点のサイズを好ましくは複数の空間方向で、特に長さ及び幅で検出する。ファセット曲率に関する作動素子３２４、３２６、３５０、３５２に対する補正信号が、制御ユニット（図示）により光点のサイズから計算される。閉制御ループを用いて、光点を最小サイズに調整し、したがって反復最適化により最良の合焦を設定することがここで可能である。この較正は、全ての視野ファセット２２２Ａ、２２２Ｂ、２２２Ｃ、２２２Ｄ、２２２Ｅ、２２２Ｆで順次実施され、クリープ効果及びクリープ速度に応じて数時間、数日間、又は数週間にわたり各視野ファセット２２２Ａ、２２２Ｂ、２２２Ｃ、２２２Ｄ、２２２Ｅ、２２２Ｆについて実施することができる。

測定ユニット２４４は、例えばＣＣＤセンサ（電荷結合素子、ＣＣＤ）として具現することができる。一実施形態において、瞳ファセットミラー２０４の瞳ファセット２３０Ａ、２３０Ｂ、２３０Ｃ、２３０Ｄ、２３０Ｅ、２３０Ｆは円形の領域に配置される。この場合、測定ユニット２４４をこの領域の中心に配置することで、測定ユニット２４４を照明する視野ファセット２２２Ａ、２２２Ｂ、２２２Ｃ、２２２Ｄ、２２２Ｅ、２２２Ｆの切替角の変化が最大限に減り、全ての視野ファセットから測定ユニットへの光の入射角ができる限り急峻に実現されるので、この配置が有利である。代替として、測定ユニット２４４は、図４に示すように独立して瞳ファセットミラー２０４の隣に配置することができるか、又は（図示しないが）瞳ファセットミラー２０４の縁に配置することができる。

本発明は、例示的な実施形態に基づいて説明したが、多様な方法で変更可能である。

１００Ａ ＥＵＶリソグラフィ装置
１００Ｂ ＤＵＶリソグラフィ装置
１０２ ビーム整形・照明系
１０４ 投影系
１０６Ａ ＥＵＶ光源
１０６Ｂ ＤＵＶ光源
１０８Ａ ＥＵＶ放射線
１０８Ｂ ＤＵＶ放射線
１００ ミラー
１１２ ミラー
１１４ ミラー
１１６ ミラー
１１８ ミラー
１２０ フォトマスク
１２２ ミラー
１２４ ウェーハ
１２６ 光軸
１２８ レンズ素子
１３０ ミラー
１３２ 媒体
２００ 光学装置
２０２ ミラー／視野ファセットミラー
２０４ ミラー／瞳ファセットミラー
２０６ ミラー
２０８ ミラー
２１０ 偏向ミラー
２１２ ハウジング
２１４ 中間焦点
２１６ ビーム経路
２１８ 物体面
２２０ 物体視野
２２２ ファセット／視野ファセット
２２２Ａ 視野ファセット
２２２Ｂ 視野ファセット
２２２Ｃ 視野ファセット
２２２Ｄ 視野ファセット
２２２Ｅ 視野ファセット
２２２Ｆ 視野ファセット
２２４ 本体
２２６ 光学有効面
２２８ 本体
２３０Ａ 瞳ファセット
２３０Ｂ 瞳ファセット
２３０Ｃ 瞳ファセット
２３０Ｄ 瞳ファセット
２３０Ｅ 瞳ファセット
２３０Ｆ 瞳ファセット
２３２ 光学有効面
２３４Ａ 結像光ビーム
２３４Ｂ 結像光ビーム
２３４Ｃ 結像光ビーム
２３６ プラズマ源
２３８ コレクタ
２４０ 結像面
２４２ 面積
２４４ 測定ユニット
３００Ａ 光学系／視野ファセットシステム
３００Ｂ 光学系／視野ファセットシステム
３００Ｃ 光学系／視野ファセットシステム
３００Ｄ 光学系／視野ファセットシステム
３００Ｅ 光学系／視野ファセットシステム
３０２ 光学素子
３０４ 本体
３０６ ファセット部
３０６’ ファセット部
３０８ 光学有効面
３１０ 空隙
３１２ レバーアーム
３１４ レバーアーム
３１６ 接続領域
３１８ 接続領域
３２０ 継手部
３２２ 継手部
３２４ 作動素子
３２６ 作動素子
３２８ 温度センサ
３３０ 温度センサ
３３２ 凹部
３３４ 凹部
３３６ 温度センサ
３３８ 温度センサ
３４０ 温度センサ
３４２ 温度センサ
３４４ 変位測定センサ
３４６ 変位測定センサ
３４８ 制御ユニット
３５０ 作動素子
３５２ 作動素子
３５４ レバーアーム
３５６ レバーアーム
３５８ レバーアーム
３６０ レバーアーム
３６２ 継手部
３６４ 継手部
３６６ デカップリング継手
３６８ デカップリング継手
３７０ デカップリング継手
３７２ デカップリング継手
３７４ 温度センサ
３７６ 温度センサ
３７８ 端部領域
３８０ 端部領域
３８２ 曲線
３８４ 曲線
３８６ 曲線
３８８ 曲線
ｂ 幅
ｂ１ 幅
ｂ２ 幅
Ｂ１ 曲げモーメント
Ｂ２ 曲げモーメント
Ｅ１ 対称面
Ｅ２ 平面
ｈ 高さ
Ｋ１ 曲率半径
Ｋ２ 曲率半径
Ｌ１ 長手方向
Ｌ２ 長手方向
Ｍ１ ミラー
Ｍ２ ミラー
Ｍ３ ミラー
Ｍ４ ミラー
Ｍ５ ミラー
Ｍ６ ミラー
Ｎ 法線ベクトル
Ｐ１ 傾斜位置
Ｐ２ 傾斜位置
Ｐ３ 傾斜位置
Ｑ 断面
ｘ ｘ方向
ｙ ｙ方向
ｚ ｚ方向
θ 誤差角

Claims (15)

1. リソグラフィ装置（１００Ａ、１００Ｂ）用の視野ファセットシステム（３００Ａ、３００Ｂ、３００Ｃ、３００Ｄ、３００Ｅ）であって、
   光反射性の光学有効面（３０８）を有する弾性変形可能なファセット部（３０６）を含む光学素子（３０２）と、
   前記光学有効面（３０８）の曲率半径（Ｋ１、Ｋ２）を変えるように前記ファセット部（３０６）を変形させるために該ファセット部（３０６）に曲げモーメント（Ｂ１、Ｂ２）を導入する少なくとも１つの作動素子（３２４、３２６、３５０、３５２）と
   を含み、前記ファセット部（３０６）は、前記光学有効面（３０８）の平面図で弧状に湾曲しており、
   前記ファセット部（３０６）の剛性は、前記ファセット部（３０６）の長手方向（Ｌ１、Ｌ２）に沿って見ると、該ファセット部（３０６）への前記曲げモーメント（Ｂ１、Ｂ２）の導入時に前記光学有効面（３０８）に対して垂直な向きの法線ベクトル（Ｎ）が専ら空間方向（ｘ）のまわりで傾くような態様で、可変である視野ファセットシステム。
2. 請求項１に記載の視野ファセットシステムにおいて、前記ファセット部（３０６）の弾性率が、前記長手方向（Ｌ１、Ｌ２）に沿って見ると可変である視野ファセットシステム。
3. 請求項１又は２に記載の視野ファセットシステムにおいて、前記ファセット部（３０６）の断面（Ｑ）の極断面係数が、前記長手方向（Ｌ１、Ｌ２）に沿って見ると可変である視野ファセットシステム。
4. 請求項３に記載の視野ファセットシステムにおいて、前記断面（Ｑ）は台形である視野ファセットシステム。
5. 請求項４に記載の視野ファセットシステムにおいて、前記断面（Ｑ）は、前記光学有効面（３０８）に面する第１幅（ｂ１）及び前記光学有効面（３０８）とは反対側の第２幅（ｂ２）を含み、前記第１幅（１）は前記第２幅（２ｂ）よりも大きい視野ファセットシステム。
6. 請求項５に記載の視野ファセットシステムにおいて、前記第１幅（ｂ１）は、前記長手方向に沿って見ると一定であり、前記第２幅（ｂ２）は、前記長手方向（Ｌ１、Ｌ２）に沿って見ると可変である視野ファセットシステム。
7. 請求項５又は６に記載の視野ファセットシステムにおいて、前記断面（Ｑ）は、前記長手方向（Ｌ１、Ｌ２）に沿って見ると可変である高さ（ｈ）を含む視野ファセットシステム。
8. 請求項３～７のいずれか１項に記載の視野ファセットシステムにおいて、前記ファセット部（３０６）は、第１端部領域（３７８）及び第２端部領域（３８０）を含み、前記ファセット部（３０６）は、前記第１端部領域（３７８）と前記第２端部領域（３８０）との間の中央に配置された対称面（Ｅ１）に対して鏡面対称に構成される視野ファセットシステム。
9. 請求項８に記載の視野ファセットシステムにおいて、前記断面（Ｑ）は、前記対称面（Ｅ１）で最小である視野ファセットシステム。
10. 請求項９に記載の視野ファセットシステムにおいて、前記断面（Ｑ）は、前記対称面（Ｅ１）から前記第１端部領域（３７８）の方向及び前記第２端部領域（３８０）の方向に向かうほどサイズが増加する視野ファセットシステム。
11. 請求項８～１０のいずれか１項に記載の視野ファセットシステムにおいて、逆向きの曲げモーメント（Ｂ１、Ｂ２）を前記第１及び第２端部領域（３７８、３８０）に導入するよう構成された少なくとも２つの作動素子（３２４、３２６、３５０、３５２）をさらに含む視野ファセットシステム。
12. 請求項１～１１のいずれか１項に記載の視野ファセットシステムにおいて、
    前記ファセット部（３０６）への前記曲げモーメント（Ｂ１、Ｂ２）の導入時に前記法線ベクトル（Ｎ）が専ら傾く第１空間方向（ｘ）と、該第１空間方向（ｘ）に対して垂直な向きの第２空間方向（ｙ）と、前記第１空間方向（ｘ）及び前記第２空間方向（ｙ）に対して垂直な向きの第３空間方向（ｚ）とをさらに有する視野ファセットシステム。
13. 請求項１２に記載の視野ファセットシステムにおいて、前記曲げモーメント（Ｂ１、Ｂ２）は、前記第１空間方向（ｘ）のまわりで作用する視野ファセットシステム。
14. 請求項１２又は１３に記載の視野ファセットシステムにおいて、前記ファセット部（３０６）は、前記曲げモーメント（Ｂ１、Ｂ２）の導入時に専ら前記第２空間方向（ｙ）及び前記第３空間方向（ｚ）に広がる平面（Ｅ２）で変形する視野ファセットシステム。
15. 請求項１～１４のいずれか１項に記載の視野ファセットシステム（３００Ａ、３００Ｂ、３００Ｃ）を含むリソグラフィ装置（１００Ａ、１００Ｂ）。

Images